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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]支承结构、基板支承装置以及用于处理基板的设备-CN202310383088.9在审
发明人： 郑载勳;申哲榕;郑完熙;林度延 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：一种支承结构，包括：支承板，其支承基板；下盖，其覆盖所述支承板的下部；以及扣接单元，其包括具有彼此对应的部分的凹凸结构，使得所述支承板和所述下盖旋转且彼此组装。
支承结构装置以及用于处理设备

[发明专利]基板处理装置-CN201911145592.5有效
发明人：严基象;金炳沃;郑载勳;金珠恩;徐准浩;姜湾圭 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：基板支撑部，具有安装面而支撑基板；导环，沿着所述基板支撑部的边缘环形配置，以包裹所述基板；及集中部，设置在所述导环的内部，以与所述安装面平行的方向移动，对所述基板的边缘施加压力，而集中所述基板。
处理装置

[发明专利]柔性显示装置及其制造方法-CN201910910209.4有效
发明人： 郑载勳;金明焕;金志涓;朴翼衡;朴商一 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：提供了一种柔性显示装置及其制造方法。根据实施例的柔性显示装置包括：显示构件；窗构件，位于显示构件上并且具有面对显示构件的后表面和定位为与后表面相对的顶表面；薄膜层，包括基体层和多个颗粒，基体层具有接触后表面的第一表面以及定位为与第一表面相对的第二表面，多个颗粒结合到第二表面；保护构件，与窗构件间隔开，显示构件位于保护构件与窗构件之间；第一粘合构件，被构造为将薄膜层结合到显示构件；以及第二粘合构件，被构造为将显示构件结合到保护构件。每个颗粒从基体层的第二表面向保护构件突出。
柔性显示装置及其制造方法

[发明专利]半导体元件分离设备和使用该设备制造发光装置的方法-CN202180059765.0在审
发明人：金仁赫;金东均;郑载勳;郭珍午;柳熙娟;赵诚赞;崔贞仁;洪惠贞;姜锺赫;李东彦;赵显敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-07-26 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01L21/48 文献下载
摘要：提供了一种半导体元件分离设备和使用该半导体元件分离设备制造发光装置的方法。一种用于将多个半导体元件与其上形成有半导体元件的基底分离的半导体元件分离设备包括：基体单元，包括容纳部，基底布置在容纳部中；以及至少一个超声波产生单元，用于将在一个方向上移动的超声波施加到布置在基体单元中的基底。
半导体元件分离设备使用制造发光装置方法

[发明专利]用于制造显示装置的喷墨印刷设备和方法-CN202180047588.4在审
发明人：洪惠贞;赵显敏;姜锺赫;柳熙娟;李耀闲;郑载勳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B41J2/045 文献下载
摘要：提供了一种用于制造显示装置的喷墨印刷设备和方法。所述喷墨印刷设备包括：印刷头单元，包括喷墨头，喷墨头喷射包括多个双极元件的墨组合物；墨循环单元，包括墨储存部分，墨组合物储存在墨储存部分中，并且墨循环单元将墨组合物转移到印刷头单元；墨注入单元，墨组合物通过墨注入单元被注入到墨储存部分中；以及温度控制单元，控制墨组合物的温度。
用于制造显示装置喷墨印刷设备方法

[发明专利]用于大规模计算的设备和方法-CN202211055404.1在审
发明人：权亨达;李在镇;金陈杓;方炳祐;金熙勳;朴大煐;孙晟薰;李承昱;张祐锡;郑宇根;郑载勳;赵在彦 -专利权人：三星电子株式会社;首尔大学校产学协力团
申请日： 2022-08-30 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G06N3/063 文献下载
摘要：提供了一种用于大规模计算的设备和方法。所述设备包括：至少一个处理装置，被配置为执行与神经网络相关的操作，传感器，被配置为感测所述至少一个处理装置的电特性、所述至少一个处理装置的操作频率和所述至少一个处理装置的温度，和处理器，被配置为基于所述至少一个处理装置的操作模式、所述至少一个处理装置的电特性、所述至少一个处理装置的操作频率和所述至少一个处理装置的温度来计算要分配给所述至少一个处理装置的工作负载，并且基于操作模式和工作负载来控制电特性、操作频率和温度。
用于大规模计算设备方法

[发明专利]包含微型结构体的墨的制造方法-CN202180046450.2在审
发明人：姜锺赫;任铉德;郑载勳;赵显敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：本发明提供了包含微型结构体的墨的制造方法。包含微型结构体的墨的制造方法包括：准备形成有多个微型结构体的基板的步骤，所述多个微型结构体包括至少一个正常微型结构体和至少一个不良微型结构体；在所述基板上划分不良区域的步骤，所述不良区域包括所述不良微型结构体所定位的区域；将定位在所述不良区域的微型结构体进行结合从而形成元件结构物的步骤；从所述基板分离所述多个微型结构体的步骤；以及分离所述正常微型结构体和所述元件结构物的步骤。
包含微型结构制造方法

[发明专利]发光元件墨及用于制造显示设备的方法-CN202180030698.X在审
发明人： 郑载勳;姜锺赫;柳熙娟;赵显敏;洪惠贞 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-04-01 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： H01L27/15 文献下载
摘要：提供了发光元件墨和用于制造显示设备的方法。所述发光元件墨包含：发光元件溶剂；以及分散在所述发光元件溶剂中并且各自包括多个半导体层和部分围绕所述半导体层的外表面的绝缘膜的多个发光元件，其中所述发光元件溶剂包含具有0℃至15℃的熔点的基于脂肪酸酯的化合物。
发光元件用于制造显示设备方法

[发明专利]发光二极管溶剂、包含发光二极管溶剂的发光二极管墨及用于制造显示器的方法-CN202180009493.3在审
发明人： 郑载勳;金范俊;柳熙娟;赵诚赞;曹银我;洪惠贞;姜锺赫;宋根圭;任铉德;赵显敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C09D11/50 文献下载
摘要：提供了发光二极管溶剂、包含发光二极管溶剂的发光二极管墨以及用于制造显示器的方法。发光二极管墨包含发光二极管溶剂以及分散在所述发光二极管溶剂中并且各自包括多个半导体层和围绕所述半导体层的外表面的绝缘膜的发光二极管，其中所述发光二极管溶剂是具有7至15的pKa的有机溶剂。
发光二极管溶剂包含用于制造显示器方法

[发明专利]蚀刻装置及使用其的蚀刻方法-CN202210159844.5在审
发明人： 郑载勳;金真锡;梁承要;尹炳瑞;赵廷奎;金圭宁;柳瀚善;许真宁 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本公开提供了一种蚀刻装置和蚀刻方法，蚀刻装置包括：腔室；支承件，设置在腔室中；加热器，设置在支承件中；以及施加器，设置在支承件上。玻璃设置在支承件上，施加器在玻璃上施加蚀刻剂，使得所施加的蚀刻剂的厚度从玻璃的中央朝向玻璃的边缘减小。
蚀刻装置使用方法

[发明专利]发光元件、显示装置及其制造方法-CN202080081191.2在审
发明人： 郑载勳;洪惠贞;姜锺赫;柳熙娟;赵诚赞;赵显敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-09-03 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L33/44 文献下载
摘要：提供了发光元件、显示装置及其制造方法。所述发光元件包括：掺杂成具有第一极性的第一半导体层；掺杂成具有不同于所述第一极性的第二极性的第二半导体层；设置在所述第一半导体层与所述第二半导体层之间的有源层；以及设置成至少包围所述有源层的外表面的绝缘层，其中所述绝缘层包括绝缘膜和元件分散剂，所述绝缘膜包围所述有源层，所述元件分散剂包括磁性金属并且键合至所述绝缘膜的外表面。
发光元件显示装置及其制造方法

[发明专利]计算装置及其操作方法-CN202080056201.7在审
发明人：宋周善;郑载勳;郑智勳;蔡昌铉;权宰郁;丁锡载;崔永镐;咸喆熙 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2020-10-23 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G06F3/06 文献下载
摘要：提供了一种计算装置及其操作方法。该计算装置包括存储器和处理器，处理器配置为：根据第一压缩方法对存储在存储器中的数据对象执行第一压缩，将所得的第一压缩数据对象存储在交换数据存储区域中，并回收存储器中的存储了第一压缩数据对象的部分；在第一管理表中登记与第一压缩数据对象有关的信息；基于处理器的使用率，从第一管理表中获得与第一压缩数据对象有关的信息；以及根据第二压缩方法对第一压缩数据对象执行第二压缩，将所得的第二压缩数据对象存储在交换数据存储区域中，并回收交换数据存储区域中的存储了第一压缩数据对象的部分。
计算装置及其操作方法

[发明专利]显示设备及制造窗的方法-CN202110781795.4在审
发明人：许真宁;金圭宁;柳瀚善;梁承要;尹池仁;李炅恩;张栖瑛;郑载勳;车秀妍 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：公开了显示设备及制造窗的方法。显示设备包括：显示模块；以及窗，设置在显示模块上，并且在窗中，在第一方向上顺序限定有第一非折叠区域、折叠区域和第二非折叠区域，其中，窗包括：基层；第一硬涂布层，设置在基层的上表面上；以及第二硬涂布层，设置在基层的下表面上，并且第二硬涂布层包括：第一部分，与窗的第一非折叠区域和第二非折叠区域重叠；以及第二部分，与窗的折叠区域重叠，并且具有比第一部分的硬度低的硬度。因此，可以设置具有所期望的表面硬度、抗冲击性和弯曲特性的显示设备。
显示设备制造方法

[发明专利]等离子处理装置-CN201610528285.5有效
发明人：尹泳植;郑载勳;尹大镐;曺宗焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-07-06 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：发明构思的示例性实施方式提供了一种等离子处理装置，所述等离子处理装置具有基底支撑单元、等离子单元、第一旋转驱动单元以及气体供应部分。基底支撑单元支撑基底。等离子单元生成等离子并将等离子提供至基底。第一旋转驱动单元联接至等离子单元以相对于基底支撑单元旋转等离子单元。气体供应部分将源气体供应至等离子单元。等离子单元包括本体、位于本体中的第一电极、位于本体中并面对第一电极的第二电极，以及位于第一电极与第二电极之间以在其中流过源气体的管路。
等离子处理装置

[发明专利]半导体装置-CN202110748426.5在审
发明人：林秀焕;郑载勳;金尚勳;金泰勳;李性灿 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： H01L27/1157 文献下载
摘要：提供了一种半导体装置。所述半导体装置包括：栅电极和绝缘层，在基底上彼此间隔开，并且在与基底的上表面垂直的方向上交替地堆叠；以及沟道结构，延伸穿过堆叠结构。沟道结构中的一些沟道结构包括沟道绝缘层、位于沟道绝缘层上的垫层以及沟道层。沟道层包括第一沟道区和第二沟道区，第二沟道区具有比第一沟道区的长度短的长度并且包括具有第一导电类型的杂质的半导体材料，并且垫层包括掺杂有第二导电类型杂质的半导体材料。第二沟道区的下表面的高度水平等于或低于第一擦除栅电极的下表面的高度水平。
半导体装置

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