[发明专利]金属‑氧化物‑金属电容器

权利要求书

1.一种电容结构体，包括：

第一层；

第二层，在所述第一层之上并且与所述第一层绝缘；

所述第一层包括：

第一层金属迹线，根据具有用于所述第一层的第一值的设计参数来定位；

所述第二层包括：

第二层金属迹线，根据所述第二层的设计参数的第二值来定位，所述第二值不同于所述第一值；

并且，其中：

所述第二层金属迹线在与所述第一层金属迹线不同的方向上延伸；

第一电极，被设置成连接所述第一层金属迹线的第一部分；以及

第二电极，被设置成连接所述第二层金属迹线的第二部分。

2.根据权利要求1所述的电容结构体，其中：

所述第二层顺序紧跟所述第一层。

3.根据权利要求1所述的电容结构体，还包括：

第三层，在所述第二层之上并且与所述第二层绝缘；

第三层金属迹线，也根据所述设计参数的所述第二值来定位；

其中：

所述第三层金属迹线在与所述第二层金属迹线相同的方向上延伸。

4.根据权利要求1所述的电容结构体，还包括：

第四层，在所述第一层的下面并且与所述第一层绝缘；

第四层金属迹线，也根据所述设计参数的所述第一值来定位；

其中：

所述第四层金属迹线在与所述第一层金属迹线相同的方向上延伸。

5.一种电容结构体，包括：

第一层，包括：

第一导电迹线，具有满足第一设计规则的第一间隔并且在第一方向上延伸；

第二层，垂直于所述第一层设置并且包括：

第二导电迹线，被设置成满足第二设计规则并且在与所述第一方向不同的第二方向上延伸以避免所述第一导电迹线与第二导电迹线之间的未对准，以及

第一电极，被设置成连接所述第一导电迹线的第一部分及所述第二导电迹线的第二部分。

6.根据权利要求5所述的电容结构体，其中，所述第二方向垂直于所述第一方向。

7.根据权利要求5所述的电容结构体，其中，所述第一导电迹线包括交叉的电容器板。

8.一种金属-氧化物-金属电容器的设计方法，包括：

根据设计参数的第一值来制造第一层，所述第一层包括根据所述第一值隔开的第一层金属电容器迹线；

根据所述设计参数的第二值来制造第二层，所述第二层包括根据所述第二值隔开并且在与所述第一层金属电容器迹线不同的方向上延伸的第二层金属电容器迹线；以及

制造第一极性电极，所述第一极性电极被连接至所述第一层金属电容器迹线和第二层金属电容器迹线中的所选的多个；和

制造第二极性电极，所述第二极性电极被连接至所述第一层金属电容器迹线和第二层金属电容器迹线中的所选的多个。

9.根据权利要求8所述的方法，还包括：

在一系列层中确定所述设计参数从所述第一值改变至所述第二值的特定层；以及

当所述第二层为特定层时，制造所述第二层金属电容器迹线以在所述不同的方向上延伸。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，制造所述第二层包括使得所述第二层金属电容器迹线垂直于所述第一层金属电容器迹线延伸。