[发明专利]一种掩模组件的组装方法在审

专利信息
申请号: 201210329233.7 申请日: 2012-09-07
公开(公告)号: CN103668050A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;张炜平 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 模组 组装 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及电子印刷领域,尤其涉及一种掩模组件的组装方法。

背景技术

与现行LCD技术相较,利用有机发光二级管(OLED)技术所制成的显示器不仅具有可全彩化、反应时间快、高亮度(100~14,000cd/m2)、高流明效率(16~38lm/W)、170度以上的视角、无一般LCD残影、可制作成大尺寸与可挠曲性面板、能够在摄氏-30度~80度的范围内作业等优势,而且制程简单、整体厚度也能缩小至1mm以下、成本更仅有TFT-LCD的30~40%。因此,利用OLED技术所制成的显示器在深得社会欢迎。

目前,OLED技术所制成的显示器在小尺寸上已经达到量产技术,而且相对较为成熟。但为了通过同时制造多个OLED显示器以实现产量的提高,或者是制造出大尺寸的OLED显示器,就需要增大传统大衬底的尺寸,相应的就必须增大用于蒸镀有机材料的掩模组件的尺寸。

图14所示是传统用于蒸镀有机材料的掩模组件的结构示意图,其包括外框11及通过焊点120固定在外框11上的掩模部12,掩模部12是通过在两端施加拉力绷紧后焊接到外框11上,焊接后释放拉力。掩模组件水平放置时,由于掩模部12沿原来拉力反方向回缩导致外框11上下(图14中上下方位)支撑部分出现图中所示内凹现象,从而使得掩模部12出现下垂(特别是掩模部12中间区域),如此造成的后果是蒸镀得到的图案位置精度、尺寸大小相对都会有一定的偏差,从而影响产品的质量及良率。

中国专利申请号为2010101136655公开了一种掩模组件及用于使用该掩模组件的平板显示器的沉积设备,其主要结构在于:掩模组件的外框上设置有横跨外框构成的开口区域的支撑棒,从而减少掩模部的下垂量。中国专利专利号为01138161.2提供了一种用于制造大尺寸显示面板的掩模,其包括:具有多个孔的主框架,自掩模根据要制造的尺寸和图案而装配在主框架的孔内。以上方式在实现OLED显示器量产上有一定的作用,但在制作大尺寸显示屏上具有一定局限。 

发明内容

有鉴于此,需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本发明提供了一种掩模组件的组装方法。

本文提供的一种掩模组件的组装方法,具体包括以下步骤:

S1:掩模框架对位安装:将所述掩模框架置于组装平台上,使得所述掩模框架的内框与强化杆通过对位支撑机构对位正确放置;

S2:掩模部绷网固定:通过绷网装置将所述掩模部绷紧且使掩模部紧贴所述掩模框架的掩模固定面,将绷紧的所述掩模部固定到所述掩模框架的内框上;

S3:掩模板张力微调:通过调节连接机构,进一步微调固定后的掩膜组件,使得所述掩模部表面平整度更好,图案位置精度更加准确。

另外,根据本发明公开的一种掩模组件的组装方法还具有如下附加技术特征:

根据本发明的实施例,步骤S1中,进一步地,掩模框架水平放置于组装平台上,将连接机构调节至松弛状态,调整对位支撑机构位置,使所述对位支撑机构之间处于对位紧贴状态,此时,所述内框和强化杆之间存有间距。

根据本发明的实施例,步骤S2中,进一步地,所述掩模部是单块掩模板或是多块掩模单元拼接而成。

根据本发明的实施例,步骤S2中,进一步地,采用两端绷网方式或多边绷网方式绷拉掩模部。

在本发明中,可以用两端绷网方式或多边绷网方式来对单块掩模板进行绷网,但对于多块掩模单元拼接而成的掩模部则需要采用多边绷网方式进行。优选地,采用多边绷网方式对单块掩模板进行绷网。

根据本发明的实施例,步骤S2中,进一步地,所述掩模部固定前需要通过定位机构定位,使得所述掩模部相对所述掩模框架具有精确地定位。

根据本发明的实施例,步骤S2中,进一步地,

可以是

S21:所述掩模部是单块掩模板,则只需一次绷网过程;

或者是

S22:所述掩模部由多块掩模单元拼接而成,则需要包含多次绷网固定过程,直至所有所述掩模单元绷网固定完成。

根据本发明的实施例,步骤S2中,进一步地,所述固定方式是激光焊接固定方式或者是胶水粘接等其它方式。

更优选地,固定方式为激光焊接固定方式。

根据本发明的实施例,步骤S3中,进一步地,所述连接机构包括螺丝,通过配合转动调节螺丝,使得在掩模部绷拉下变形的内框一组对边211在一定程度上恢复形变前的状态,从而相应减少掩模部的下垂量,在调节螺丝时,需要时时监测掩模部上图案的位置精度、开口尺寸等影响最终使用效果的掩膜组件参数。

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