[发明专利]形成金属氟化物膜的方法和制造光学器件的方法有效
| 申请号： | 201210203438.0 | 申请日： | 2012-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN102828151A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 秋叶英生 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 金属 氟化物 方法 制造 光学 器件 | ||
【权利要求书】：
1.形成金属氟化物的方法，包括：
使用金属的靶和混合气体通过反应溅射在基板上形成金属氟化物膜，该混合气体含有O2气和反应性气体，该反应性气体为碳氟化合物气体。
2.根据权利要求1的方法，其中该碳氟化合物气体是由CHF2CH2CF3表示的1，1，1，3，3-五氟丙烷。
3.根据权利要求1的方法，其中通过将直流电压施加于该靶，或者通过将频率为100kHz以下的脉冲直流电压施加于该靶来进行该溅射。
4.根据权利要求1的方法，其中该金属为Mg或Al。
5.根据权利要求1的方法，其中使该基板位于以下区域外来进行该溅射：将靶的表面在与该靶的表面垂直的方向上投影的区域。
6.根据权利要求1的方法，其中该碳氟化合物气体占该混合气体的50％-90％。
7.制造光学器件的方法，包括通过权利要求1中所述的方法在基板的表面上形成膜，其中该基板为光学元件。
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