[发明专利]形成氟化物涂覆膜的处理剂和形成氟化物涂覆膜的方法无效

专利信息
申请号: 200710161378.X 申请日: 2007-09-28
公开(公告)号: CN101178964A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: 佐通佑一;小室又洋;森下芳伊;舟生重昭;片寄光雄 申请(专利权)人: 日立化成工业株式会社
主分类号: H01F1/09 分类号: H01F1/09;H01F1/053;B22F1/02;C23C22/34
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李帆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种用含氟化物的溶液形成的氟化物涂覆膜,其中将稀土氟化物或碱土金属氟化物,特别是Pr、Nd、Dy、Tb和Ho的氟化物在包含主要量是醇的溶剂中溶胀,并且所述溶液是胶体溶液,其中所述稀土氟化物或碱土金属氟化物均匀分散在包含主要量是醇的溶剂中,所述氟化物涂覆膜改善了不仅包括烧结磁体而且包括粘结磁体的NdFeB稀土磁体的磁性能。
搜索关键词: 形成 氟化物 涂覆膜 处理 方法
【主权项】:
1.一种含氟化物的溶液,其中在包含主要量是醇的溶剂中溶胀稀土氟化物或碱土金属氟化物,并且所述溶液是胶体溶液,其中所述稀土氟化物或碱土金属氟化物均匀分散在包含主要量是醇的溶剂中。
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