[发明专利]供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法有效
申请号: | 201210069435.2 | 申请日: | 2009-11-25 |
公开(公告)号: | CN102636960A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 朴相旭;高在升 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/30;H01L21/67 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 梁兴龙;武玉琴 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 供应 处理 单元 以及 使用 基材 设备 方法 | ||
1.一种基材处理设备,包括:
支撑基材的基材支撑单元;
具有喷嘴和处理液管道的喷嘴臂,所述喷嘴安装在其上用于将处理液排放到置于所述基材支撑单元上的基材上,所述处理液管道内置在其中用于将处理液供应到所述喷嘴;和
喷嘴移动单元,用于移动所述喷嘴臂,并通过利用所述喷嘴臂的热传递调节内置在所述喷嘴臂中的处理液管道内的处理液温度。
2.如权利要求1所述的基材处理设备,其中所述喷嘴移动单元包括:
保持所述喷嘴臂的保持元件;
设置在所述保持元件上的温度调节元件,用于调节所述保持元件的温度;和
移动元件,用于在等待位置和处理位置之间移动所述保持元件。
3.如权利要求2所述的基材处理设备,其中所述保持元件包括:
第一保持架和第二保持架,用于通过沿着垂直于所述喷嘴臂长度方向的方向彼此远离或接近地移动来保持所述喷嘴臂;和
第一驱动器,用于驱动第一保持架和第二保持架。
4.如权利要求3所述的基材处理设备,其中
第一保持架和第二保持架分别包括与所述喷嘴臂的侧面垂直接触设置的侧壁和从所述侧壁水平延伸接触所述喷嘴臂底面的底壁,和
所述温度调节元件收容在第一保持架和第二保持架的侧壁内。
5.如权利要求4所述的基材处理设备,其中所述温度调节元件是加热盘管、温度调节液管道、热电元件和其组合中的一种。
6.如权利要求2所述的基材处理设备,其中所述移动元件包括:
支撑所述保持元件的水平支撑件;
移动杆,其与所述水平支撑件垂直连接并且其上设置有用于垂直移动所述水平支撑件的第二驱动器;和
第三驱动器,用于在所述等待位置和所述处理位置之间移动所述移动杆。
7.如权利要求1所述的基材处理设备,还包括设置在所述喷嘴臂的内壁和所述处理液管道之间的热管,用于在所述喷嘴臂和所述处理液管道之间传递热量。
8.如权利要求1所述的基材处理设备,还包括等待口,其提供所述喷嘴臂等待执行处理的位置,其中所述喷嘴移动单元在所述等待口提供的等待位置与所述基材上部的处理位置之间移动所述喷嘴臂。
9.如权利要求8所述的基材处理设备,其中
多个等待口沿着所述基材支撑单元的侧面并排设置,
多个其上安装有喷嘴的喷嘴臂分别设置在每个等待口处,和
所述喷嘴移动单元从多个喷嘴臂中选择一个喷嘴臂并将所选择的喷嘴臂从所述等待口提供的等待位置移动到所述基材上部的处理位置。
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