专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种柔性电路板-CN201721216952.2有效
  • 章小和 - 信利光电股份有限公司
  • 2017-09-21 - 2018-04-17 - H05K1/02
  • 本实用新型公开了一种柔性电路板,包括基材层;设置在基材层上、下两侧的第一金属层和第二金属层;设置在第一金属层上、远离基材层的第一PI覆盖;设置在第二金属层上、远离基材层的第二PI覆盖;所述第一金属层和第一PI覆盖局部切割形成弯折区域;所述弯折区域对应的第二PI覆盖切割后贴附一层油墨覆盖;所述油墨覆盖外侧內缩第二金属层用以绑定金手指;所述基板上远离金手指的一侧贴附有补强PI覆盖,所述补强PI覆盖对应金手指设置;所述基板上、对应弯折区域无覆盖的两侧贴附有弯折PI覆盖,可有效增加弯折区域的弹性,防止弯折区域被撕裂。
  • 一种柔性电路板
  • [发明专利]一种半导体器件的制作方法-CN201410193157.0有效
  • 邓浩 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2014-05-08 - 2018-08-17 - H01L21/768
  • 本发明提供一种半导体器件的制作方法,所述方法包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底上形成层间介电层和位于所述层间介电层中的金属互连结构;在所述层间介电层和所述金属互连结构表面沉积形成无定形硅层;进行热处理,以形成第一金属覆盖;采用含硼化合物处理所述第一金属覆盖,以形成第二金属覆盖;采用氮气或者氨气处理所述第二金属覆盖,以形成第三金属覆盖;在所述层间介电层和所述第三金属覆盖上形成电介质覆盖。根据本发明提供的形成金属覆盖的方法,可为器件提供较低的线电阻和良好的电迁移性能,进而提高器件的可靠性和良率。
  • 一种半导体器件制作方法
  • [实用新型]一种FPC和具有该FPC的显示装置-CN201720969826.8有效
  • 王德维 - 信利半导体有限公司
  • 2017-08-04 - 2018-02-02 - H05K1/02
  • 本实用新型公开了一种FPC和具有该FPC的显示装置,所述FPC包括从上往下顺序设置的第一PI覆盖、第一金属层、基材层、第二金属层和第二PI覆盖,所述第一PI覆盖和第一金属层切割形成FPC的弯折区域,所述弯折区域对应的第二PI覆盖切割后贴附油墨覆盖,并在所述油墨覆盖的外表面覆盖一层保护层。通过在FPC弯折区域对应的第二PI覆盖切割后贴附油墨覆盖,并在所述油墨覆盖的外表面覆盖一层保护层,使FPC柔软易弯折的同时不易被折断或者褶皱,有效提升高FPC的可靠性,提升显示装置的品质。
  • 一种fpc具有显示装置
  • [实用新型]一种耐磨型草垫-CN201922128722.6有效
  • 毛志明;毛劲松 - 玉溪市祺晟草业科技发展有限公司
  • 2019-12-02 - 2020-08-07 - B32B27/36
  • 本实用新型公开了一种耐磨型草垫,包括草垫主体,所述草垫主体边角设有折角,所述草垫主体上设有第一覆盖,且第一覆盖一侧设有第一编草层,所述第一编草层另一侧设有金属网层,且金属网层另一侧设有第二编草层,所述第二编草层另一侧设有第二覆盖,且第二编草层、第二覆盖、第一覆盖和第一编草层与金属网层呈对称夹持位置分布,所述第一覆盖和第二覆盖为PET膜材质。该耐磨型草垫的草垫主体内设有第二编草层、第二覆盖、第一覆盖和第一编草层,并且草垫主体中间设有金属网层,且第二编草层、第二覆盖、第一覆盖和第一编草层将金属网层对称包裹,从而使得该装置可以通过多重结构加强其耐磨程度
  • 一种耐磨草垫
  • [发明专利]一种连接孔的形成方法-CN201510198903.X在审
  • 鲍宇;黄秋铭 - 上海华力微电子有限公司
  • 2015-04-22 - 2015-07-15 - H01L21/768
  • 本发明提供了一种连接孔的形成方法,包括:在半导体器件衬底上沉积介质层;在介质层上沉积覆盖;经光刻和刻蚀工艺,在覆盖和介质层中刻蚀出连接孔;采用湿法清洗工艺去除刻蚀残留物,同时,覆盖中连接孔的侧壁被刻蚀,从而使覆盖中连接孔的开口增大;对覆盖的刻蚀速率大于对介质层的刻蚀速率;向覆盖和介质层中的连接孔中沉积刻蚀阻挡层,然后填充金属;进行平坦化工艺,将覆盖、及覆盖中的填充金属去除。因此,不仅确保了介质层中连接孔的尺寸不发生改变,还扩大了后续金属填充工艺窗口,提高了金属填充能力,克服了现有的金属填充困难的弊端。
  • 一种连接形成方法

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