专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]集成电路及制造方法-CN201210357184.8有效
  • 伯纳多·加列戈斯;艾布拉姆·卡斯特罗 - 德州仪器公司
  • 2012-09-21 - 2018-05-18 - H01L23/485
  • 具有第一侧和第二侧的电介质层位于接近所述裸片的所述侧处,以使所述电介质的第一侧邻近于所述裸片的所述侧。所述导电螺柱延伸进所述电介质的第一侧。第一通孔在所述导电螺柱与所述电介质的第二侧之间延伸。具有第一侧和第二侧的导电层位于邻近于所述电介质的第二侧处,其中所述导电的第一侧位于邻近于所述电介质的第二侧处。所述导电的至少一部分电性连接到所述第一通孔。
  • 集成电路制造方法
  • [发明专利]晶片封装体及其制造方法-CN201210030867.2有效
  • 林佳升 - 精材科技股份有限公司
  • 2012-02-10 - 2012-08-15 - H01L23/485
  • 本发明揭示一种晶片封装体及其制造方法,该晶片封装体包括:一半导体晶片,具有一第一表面及与该第一表面相对的一第二表面,并具有至少一导电垫邻近于第一表面,且具有一开口自第二表面朝第一表面延伸而露出导电垫,邻近第一表面的开口口径大于邻近第二表面的开口口径;一绝缘及一重布线依序设置于第二表面上,且延伸至开口的侧壁及底部,其中重布线经由开口与导电垫电性连接;一保护覆盖重布线且局部填入开口,以在开口内的保护与导电垫之间形成一孔洞。本发明可防止重布线与半导体晶片的导电垫发生剥离,进而增加晶片封装体的可靠度。
  • 晶片封装及其制造方法
  • [发明专利]包含次表面散射特征的光学组件-CN202080030484.8在审
  • 艾伦·玛丽·科西克·威廉姆斯;詹姆斯·安德鲁·韦斯特 - 康宁公司
  • 2020-03-12 - 2021-11-26 - F21V8/00
  • 所述透明基板包括设置在所述透明基板中的损伤。由多个电致发光元件限定的像素设置在所述第一主表面上,所述像素进一步限定延伸穿过所述损伤的像素体积。多个第一激光诱发损伤轨迹设置在邻近所述像素体积的所述损伤内。在进一步的实施例中,第二多个激光诱发损伤轨迹可设置成邻近由所述像素的个别电致发光元件所限定的子像素体积。在更进一步的实施例中,包括多个电致发光元件的第一基板定位成与包括多个色彩转换的透明第二基板相对,并且将多个损伤轨迹设置成邻近由所述色彩转换限定的色彩转换体积。
  • 包含表面散射特征光学组件
  • [发明专利]显示装置-CN202210932605.9在审
  • 陈闯;韩冰;林昶;应如波;王向前 - 昆山国显光电有限公司
  • 2022-08-04 - 2022-09-23 - G09F9/30
  • 本发明公开了一种显示装置,包括:显示模组和屏体支撑结构,屏体支撑结构位于显示模组的非发光侧;屏体支撑结构包括刚性支撑片和设置于刚性支撑片邻近显示模组一侧的柔性粘附;柔性粘附用于将刚性支撑片与显示模组粘合;其中,显示模组包括弯折部和非弯折部,弯折部与非弯折部相邻;柔性粘附邻近显示模组的表面和/或远离显示模组的表面设置有开口,开口在显示模组的垂直投影位于弯折部;开口内至少设置有第一基材;第一基材包括第一表面,第一表面与显示模组邻近屏体支撑结构的表面平行;第一表面和与其相邻的表面不粘合。
  • 显示装置
  • [发明专利]应力记忆工艺-CN201410076345.5有效
  • J·亨治尔;S·弗莱克豪斯基;R·里克特;N·萨赛特 - 格罗方德半导体公司
  • 2014-03-04 - 2017-06-13 - H01L21/311
  • 进行离子注入制程,其非晶化邻近该栅极结构的该半导体区域的第一部分及邻近该栅极结构的该半导体区域的第二部分,以使第一非晶区域及第二非晶区域在邻近该栅极结构处形成。进行原子沉积制程,其在该半导体结构上方沉积具有内部应力的材料,且选定进行该原子沉积制程的至少一部分的温度及该原子沉积制程的至少一部分的持续时间,以使该第一非晶区域及该第二非晶区域在该原子沉积制程期间重新结晶
  • 应力记忆工艺
  • [发明专利]摄像装置及其制造方法-CN201510582655.9有效
  • 桧山晋;渡边一史 - 索尼公司
  • 2011-03-30 - 2018-09-21 - H01L27/146
  • 摄像装置包括:半导体,其具有作为入射侧的第一侧和与所述第一侧相对的第二侧,所述半导体包括光电转换元件;第一膜,其邻近所述半导体的所述第一侧;分离区域,其包括位于所述第一膜上的遮光部;第二膜,其包括氮化物成分且位于所述第一膜和所述遮光部上;及布线,其设置为邻近所述半导体的所述第二侧,其中,所述分离区域的至少一部分被设置为邻近所述光电转换元件,所述第一膜是防反射膜,且在横截面上,所述遮光部被所述第一膜和所述第二膜包围。
  • 摄像装置及其制造方法
  • [发明专利]一种基于结构单元形状差异的物理型信息隐藏结构及其制备方法-CN202010521852.0有效
  • 薛建材;周张凯 - 中山大学
  • 2020-06-10 - 2022-05-10 - G09F3/02
  • 本发明公开了一种基于结构单元形状差异的物理型信息隐藏结构及其制备方法,所述物理型信息隐藏结构包括从下到上层叠设置的衬底和金属反射,所述金属反射上设有若干结构单元,所述结构单元包括设置在金属反射上的介质和覆盖所述介质上表面的金属颗粒半连续膜;所述结构单元包括隐藏信息单元和邻近单元,所述隐藏信息单元与邻近单元的特征占空比之差的绝对值小于等于0.5%。在普通光源下,本发明的物理型信息隐藏结构的隐藏信息单元和邻近单元呈现出一样的颜色,具有非常高的隐秘性和安全性;而且,相邻结构单元的孔洞的中心的距离小于400nm,在空间上具有很高的信息容量,隐藏信息容量大
  • 一种基于结构单元形状差异物理信息隐藏及其制备方法

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