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[发明专利]边缘计算系统-CN201910419179.7在审
发明人：李刚;陆美珠;李超;李萍;许飞;林娜娜 -专利权人：上海宽带技术及应用工程研究中心
申请日： 2019-05-20 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： G06F9/50 文献下载
摘要：本申请提供一种边缘计算系统，应用于医疗，所述系统包括：边缘模块，包括：多个边缘节点；每个边缘节点包括一容器集群，通过容器编排工具进行管理，所述容器编排工具实现有用于进行边缘计算工作的执行单元；服务分配模块，用于执行全局负载均衡工作，以将用户服务请求路由到目的的边缘节点；服务管理模块，用于对应所述用户服务请求的服务的管理。
边缘计算系统

[发明专利]肿瘤边缘评估-CN201980027882.1在审
发明人： B·H·W·亨德里克斯;G·W·吕卡森;K·C·J·韦杰布兰斯;J·W·施普利特霍夫;N·C·范德瓦尔特 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2019-04-22 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： A61B5/00 文献下载
摘要：提供了一种用于确定组织区域TR的组织类型TY的系统SY，其中，至少三条光纤的远端OFDE1..n在组织区域TR内限定多条相交的光路IOP1..k。指示针对相应的光路IOP1..k的组织类型TY的组织信号Q1..k根据与多条相交的光路IOP1..k中的每条相对应的所述谱测量数据SMD而被生成。将每个组织信号Q1..k与组织类型的参考阈值QRT进行比较，并且与组织信号QMA的平均值进行比较。如果i与所述参考阈值QRT比较，所述组织区域TR中的每个组织信号Q1..k指示其对应的组织不是所述组织类型，并且ii所述组织区域TR中的所述组织信号Q1..k中的至少一个位于所述组织信号Q1..k的平均值QMA与参考阈值QRT之间，并且所述至少一个组织信号Q1..k与组织信号的平均值QMA之间的差Δ超过预定值ΔP，则将所述组织区域TR的至少一部分识别为组织类型TY。
肿瘤边缘评估

[发明专利]边缘排除控制-CN201980036351.9在审
发明人：阿南德·查德拉什卡;埃里克·H·伦茨;伦纳德·韦·丰·许;杰弗里·查尔斯·克莱文杰;河仁守 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本文提供了用于控制半导体晶片的边缘区域处的处理均匀度的方法和设备。在一些实施方案中，这些方法包含使边缘区域暴露于诸如蚀刻气体及/或抑制气体之类的处理气体。本文还提供了包括多个环件的排除环组件，其可实施以提供对在晶片边缘处的处理环境的控制。
边缘排除控制

[发明专利]拖车边缘跟踪-CN201980076524.X在审
发明人： K·P·卡朋特 -专利权人：大陆汽车系统公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： B60R1/00 文献下载
摘要：提供了一种用于基于拖车的位置来调节由附接到拖车的牵引车支撑的电动后视镜从而允许牵引车的驾驶员观察拖车的边缘的方法。该指令使电动后视镜将当前后视镜角度调节到调节后视镜角度，从而导致电动后视镜将拖车边缘维持在驾驶员在看着电动后视镜时的视野内。
拖车边缘跟踪

[发明专利]边缘修剪装置-CN202010776006.3在审
发明人：凑浩吉;保罗·文森特·埃藤迪多;北浦毅 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2020-08-05 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供边缘修剪装置，在边缘修剪装置中，利用在保持面上未附着加工屑的工作台来保持晶片。边缘修剪装置包含：卡盘工作台，其使外径比晶片外径小的环状槽与吸引源连通，利用环状槽对晶片下表面进行吸引保持；切削单元，其使切削刀具进行旋转而对卡盘工作台所保持的晶片外周部分呈环状进行切削；以及清洗单元，
边缘修剪装置

[发明专利]SiC边缘环-CN202080014827.1在审
发明人：金京俊 -专利权人：韩国东海炭素株式会社
申请日： 2020-03-11 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及一种在半导体制造工序中使用的半导体制造部件之一的边缘环，本发明的SiC边缘环包括：第一沉积部，其包括具有等离子体损伤部分和未损伤部分的SiC；以及第二沉积部，其包括形成在所述第一沉积部上的SiC
sic 边缘

[发明专利]边缘对准方法-CN202110279312.0在审
发明人：小松淳;牧野香一 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2021-03-16 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供边缘对准方法，高精度地推定被加工物的边缘的位置。边缘对准方法具有如下步骤：坐标计算步骤，在被加工物的周向上，算在被加工物的外周部的不同的多个部位的各个部位处计算有可能与被加工物的边缘对应的一个点的坐标；近似圆生成步骤，对计算出的所有坐标使用最小二乘法来生成近似圆，在存在偏移量为预先设定的阈值以上的坐标的情况下，将偏移量最大的坐标判定为误检测位置，并将判定为误检测位置的坐标从考虑对象中排除；和加工区域推断步骤，根据未被排除而剩余的3个以上的坐标来推定被加工物的边缘的位置，并根据所推定的边缘的位置推断加工区域。
边缘对准方法

[发明专利]光谱边缘检测-CN201980092960.6在审
发明人： J·R·库柏 -专利权人：瑞尔赛特股份有限公司
申请日： 2019-07-17 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：本公开一般而言涉及检测样品上或样品内的多个生物标志物，但更具体而言涉及检测多个检测基团内的各个检测基团。
光谱边缘检测

[发明专利]边缘堆积测量-CN201980099841.3在审
发明人：大卫·斯隆 -专利权人：安赛乐米塔尔公司
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G05B19/404 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于针对正被缠绕的金属涂覆线圈控制涂层厚度均匀性的方法，所述方法包括以下步骤：A)测量第一参考点与线圈表面上的第一点之间的第一距离，B)测量第二参考点与线圈表面上的第二点之间的第二距离，‑线圈上的所述第一点和所述第二点位于沿着线圈宽度的不同部位处，C)计算所述第一距离与所述第二距离之间的差，所述差被标记为Δ12true，D)保存所述差Δ12true，‑限定阈值，‑将每个保存的差Δ12true与所述阈值进行比较和/或将差Δ12true之和与所述阈值进行比较，‑当所述差Δ12true和/或所述差Δ12true之和高于所述阈值时，发出警报。
边缘堆积测量

[发明专利]IoT边缘模块-CN202210138105.8在审
发明人：蒲原史朗;田边昭;上嶋和也;上原淳;奥山和哉 -专利权人：瑞萨电子株式会社
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： H02N11/00 文献下载
摘要：本公开的各个实施例涉及IoT边缘模块。微型计算机以基于温差发电模块的最低日发电量的发电量而设置的第一时间间隔对无线通信模块执行供电操作。
iot 边缘模块

[发明专利]边缘服务配置-CN202080094642.6在审
发明人： C·姆拉丁;M·斯达斯尼克;Q·李;李鸿堃;J·宁勒库;D·锡德 -专利权人：交互数字专利控股公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： H04L41/0803 文献下载
摘要：本发明提供了设计为使得外部AF/AS能够向5GC提供有关边缘数据网络配置的信息的方法。此外，还提供了用于边缘服务使能的UE调配的方法。公开了用于进行以下操作的机制：使得不托管EEC的UE能够请求EDN信息调配，以便使得非边缘感知的应用程序客户端能够利用边缘服务；通过使用URSP规则与配置服务器建立IP连接，使得由UE托管的EEC能够获取边缘配置信息；以及使得由UE托管的EEC能够在注册期间获取边缘数据网络配置信息。此外，提供了包括用于进行以下操作的机制的方法：使得AF能够经由NEF订阅事件监测暴露，并经由该UE请求优化的报告或报告分发的偏好；使得来自集中式NF的订阅和策略能够经由UE沿着该UE的路径分发到边缘或本地部署；以及使得能够经由该UE以低延迟将事件监测从集中式NF暴露到边缘服务器。
边缘服务配置

[发明专利]边缘修剪方法-CN202111483398.5在审
发明人：冈村卓;原田成规 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2021-12-07 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供边缘修剪方法，减小磨削时产生的边角料体积。边缘修剪方法对在外周部具有倒角部的被加工物的外周部进行切削，边缘修剪方法具有如下步骤：切入步骤，在利用卡盘工作台的保持面对被加工物进行保持的保持步骤之后，使旋转的切削刀具与卡盘工作台相对移动而使切削刀具切入至被加工物的外周部
边缘修剪方法

[发明专利]边缘导体涂层-CN202180025031.0在审
发明人：大卫·林恩·贝克;肖恩·马修·加纳;克里斯蒂娜·玛丽·拉斯科夫斯基;凯文·雷·马斯林;迈克尔·莱斯利·索伦森;哈雷盖瓦恩·塔德塞 -专利权人：康宁公司
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H05K1/11 文献下载
摘要：一种边缘导体，包括：第一部分，电连接到基板的第一表面上的第一导体；第二部分，电连接到基板的第二表面上的第二导体；第三部分，在第一部分与第二部分之间沿着基板的边缘延伸；及涂层，覆盖边缘导体的第三部分的至少一部分，其中基板的第二表面与基板的第一表面相对，并且基板的边缘在基板的第一表面与基板的第二表面之间延伸。
边缘导体涂层

[发明专利]卷材边缘计量-CN202180082907.5在审
发明人：戴维·马萨尤基·石川;吉里什·库马尔·戈帕拉克里希南奈尔;叶芝莫兰·朗萨米;戴维·阿尔瓦雷斯;肯特·赵 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：计量系统及处理方法可以用来解决阳极边缘品质的问题。
卷材边缘计量

[发明专利]边缘效用管理-CN202310349372.4在审
发明人：安德里亚斯·伯格;尼古拉斯·科皮克;詹斯·赫什克尔;詹斯·多佩尔哈默 -专利权人： ABB瑞士股份有限公司
申请日： 2023-04-04 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G06F9/455 文献下载
摘要：本公开的一个或多个实施例涉及边缘效用管理。提供了一种计算机实现的边缘效用管理方法，该方法包括：接收要在边缘设备(100)上部署的应用(200)，其中所述应用包括多个可单独部署的应用部分(202‑206)；获得所述应用部分中的一个或多个应用部分的应用简档；获得所述边缘设备的一个或多个硬件资源的硬件简档；基于所述应用简档和所述硬件简档，将所述应用部分(202‑206)部署到所选择的硬件资源；以及在所述应用的执行期间促进所部署的应用部分之间的通信。
边缘效用管理