专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]片材输送装置-CN200710096693.9无效
  • 桝谷宏典 - 诺日士钢机株式会社
  • 2007-04-23 - 2007-10-24 - B65H3/06
  • 本发明的片材输送装置具有输送辊对、台、和台驱动机构。输送辊对由驱动辊及从动辊构成。在台上层叠对输送辊对供给的多个记录介质。台驱动机构使台在输送位置以及待机位置这两个位置之间移动。在层叠于处于输送位置的台上的多个记录介质中处于最上方的记录介质被夹持在驱动辊与从动辊之间后,台驱动机构使台从输送位置下降到待机位置。
  • 输送装置
  • [发明专利]单元和处理装置-CN201910874896.9有效
  • 佐藤耕一;藤里敏章;鸟屋大辅 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-09-17 - 2023-09-29 - H01L21/67
  • 本发明提供减少微粒的单元和处理装置。单元包括:物台,其基板;支承构件,其自载基板的面的背面侧支承载物台;调温构件,其能够调整温度,具有自下表面固定物台的板部、自板部向下方延伸的轴部以及自板部贯穿轴部且收容支承构件的孔部;隔热构件,其配置于物台与调温构件之间;以及抵接构件,其与置于物台的基板抵接,物台具有:气体流路,其具有喷出气体的至少一个开口部;凹部,其收容并基板;以及至少一个深掘部,其形成于比凹部靠外周侧的位置,与凹部连通,自开口部喷出的气体穿过在基板的侧面和深掘部的侧面之间形成的空间,气体在物台与抵接构件之间的空间内向半径外侧流动。
  • 单元处理装置
  • [发明专利]PVD装置-CN202180030110.0在审
  • 清野拓哉;小田岛保志;渡边直树;户岛宏至;品田正人;宫下哲也 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-04-16 - 2022-12-09 - C23C14/34
  • PVD装置具备:腔室、多个台、第一靶保持部、电力供给机构以及屏蔽件。多个台设置在腔室内,并分别能够在上表面至少一个基板。第一靶保持部能够保持靶,该靶暴露在腔室内的空间,并针对一个台设置至少一个。电力供给机构经由第一靶保持部向靶供给电力。屏蔽件设置于腔室内,一部分配置在多个台中的第一台与第二台之间、以及第一台上的第一处理空间与第二台上的第二处理空间之间。
  • pvd装置
  • [发明专利]基板载构造体和等离子体处理装置-CN201910166755.1有效
  • 南雅人;町山弥 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-03-06 - 2021-07-30 - H01J37/32
  • 本发明提供基板载构造体和等离子体处理装置。使附着于基板的背面与台之间的沉积物减少。基板载构造体(130)具备台(150)、聚焦环(131)以及支承构件(132)。聚焦环(131)包围供基板(W)台(150)的面(152a)且配置于比面低的位置。支承构件(132)配置于聚焦环(131)的下侧并支承聚焦环。上部环构件(131a)构成聚焦环(131)的上部,其台(150)侧的侧面(1310)的至少一部分与台的侧面之间的距离比下部环构件(131b)的台(150)侧的侧面(1311)与台的侧面之间的距离长
  • 基板载置构造等离子体处理装置
  • [发明专利]辐射线治疗系统-CN201911034270.3在审
  • 陈韦霖;贡秋平 - 中硼(厦门)医疗器械有限公司
  • 2019-10-29 - 2021-05-04 - A61N5/10
  • 本发明提供一种辐射线治疗系统,其包括用于产生治疗用辐射线的辐射线产生装置、用于安置接受辐射线照射的被照射体的照射室、用于实施照射控制的管理室及用于转运和承载被照射体的装置,所述装置包括承载被照射体的件、调整所述件的空间位置的调整组件及将件与调整组件以可拆卸的方式固定连接在一起的装夹组件,所述件装夹组件调整组件至少包括第一件及与所述第一件的尺寸和/或形状不同的第二件。能够根据实际使用需求自由切换不同尺寸和/或形状件,使辐射线治疗系统能够适配不同体型和不同肿瘤位置的患者。
  • 辐射治疗系统
  • [发明专利]片材供给装置以及图像形成装置-CN202011299290.6有效
  • 中野隆司;深泽光 - 株式会社理光
  • 2020-11-19 - 2023-06-30 - B65H7/06
  • 本发明的目的在于,提供提高片材部的位置的检测精度的片材供给装置。本发明的片材供给装置包括摄像装置及片材部(11),将能由所述摄像装置识别的识别部(300)设在片材部(11)的侧面部(11a)。也可以设置使得片材部(11)移动的部移动机构。摄像装置也可以设有在片材部(11)的移动方向变更摄像范围的摄像范围变更机构。部移动机构也可以使得片材部移动,使得在片材部(11)上的片材束的最上面的片材位于所设定的高度,摄像范围变更机构也可以变更摄像范围,将识别部(300)捕捉在摄像范围内。
  • 供给装置以及图像形成
  • [实用新型]熨斗装置-CN201420430516.5有效
  • 山口信太郎;八木丰彦 - 松下电器产业株式会社
  • 2014-07-31 - 2014-12-17 - D06F75/00
  • 一种熨斗装置,其具有熨斗和用于熨斗的底座。熨斗具有:加热部,其具有熨烫面;隔热部,其设置在加热部的上表面侧;壳体,其配设在隔热部的上方。底座具有:部,其以熨斗的熨烫面朝下的方式熨斗;保持装置,其用于将熨斗保持为部的状态;手柄,其转动自如地设置在底座上。保持装置构成为:具有能够在底座上自由运动的用于保持熨斗的保持部,并且与手柄的向搬运位置的动作连动地利用保持部对部的熨斗的处于部附近的部分进行保持。利用该结构,能够维持将熨斗保持在部的状态,防止搬运时熨斗的摆动,并且能够安全且容易地将刚使用后的被加热到高温的熨斗保持于部。
  • 熨斗装置
  • [发明专利]台和等离子体处理装置-CN202011014970.9在审
  • 田村一 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-09-24 - 2021-04-02 - H01J37/32
  • 本发明提供一种台和等离子体处理装置。提供使基板温度的面内均匀性提高的台。提供一种台,该台具有:面,其用于基板;电极,其配置在所述面的下方,用于施加偏压电力;供电线,其配置在所述电极的下方,用于施加偏压电力;以及供电端子,其将所述电极和所述供电线电连接,该供电端子与所述电极连接的面的面积大于与所述供电线连接的面的面积
  • 载置台等离子体处理装置

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