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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板载置机构、成膜装置以及成膜方法-CN201910863442.1在审
发明人：爱因斯坦·诺埃尔·阿巴拉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供基板载置机构、成膜装置以及成膜方法，能够在成膜装置内高效且均匀地将基板冷却至极低温，并且能够在成膜处理过程中使载置于载置台的基板旋转。基板载置机构具备：载置台，其具有用于载置基板的基板载置面；冷却头，其被设置为与载置台相向，所述冷却头通过冷冻机来被冷却至极低温；接触分离机构，其使载置台与冷却头之间接触分离；旋转机构，其使载置台旋转；以及控制部除成膜时以外，控制部利用接触分离机构来使载置台与冷却头成为接触的状态，在该状态下将基板载置于载置台，在成膜时，控制部在利用接触分离机构使载置台与冷却头分离的状态下利用旋转机构来使载置台旋转。
基板载置机构装置以及方法

[发明专利]加湿器-CN202110081056.4在审
发明人：山口晃广 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： F24F6/02 文献下载
摘要：托盘在载置了所述供水箱的状态下，相对于加湿器主体能够沿规定的水平方向插拔。所述托盘在俯视时，具有载置所述供水箱的水箱载置区域和不载置所述供水箱的水箱非载置区域。所述水箱载置区域及所述水箱非载置区域沿所述托盘的拉出方向被区分，并且所述水箱载置区域设置在所述拉出方向的外侧。用于检测所述托盘内的水位变化的浮标设置在所述水箱非载置区域。
加湿器

[发明专利]载置台装置和具备载置台装置的带电粒子束装置-CN202211239709.8在审
发明人：西冈明;高桥宗大;水落真树;安藤康大;山本来布 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2022-10-11 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明提供一种载置台装置和具备载置台装置的带电粒子束装置，能够在悬浮型载置台中确保样品的足够的位置精度。载置台装置(100)包括：在Y轴方向上移动的下层载置台(20)；从下层载置台(20)浮起、至少在与Y轴方向正交的X轴方向上移动的上层载置台(10)；利用冷却介质对下层载置台(20)的Y工作台(2)进行冷却的热交换器；和以被热交换器冷却的Y工作台(2)为基准来控制下层载置台(20)的倾斜的控制装置。
载置台装置具备带电粒子束

[发明专利]探针台-CN201810884797.4在审
发明人：田中知行;三浦元;横田满 -专利权人：泰克霍隆株式会社;宋子凯
申请日： 2018-08-06 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G01R1/04 文献下载
摘要：所述探针台具有：其载置面可供载置半导体晶圆的晶圆载置台；探针卡；平面微小移动机构；以及光学系统单元。探针卡的大小与晶圆载置台大致相同，具有能够与形成在半导体晶圆上的所有芯片的电极接触的电极。平面微小移动机构使晶圆载置台的载置面在包含该载置面的平面内最大只移动与晶圆载置台载置半导体晶圆时出现的平面位置偏差相应的精度量。光学系统单元在进行晶圆载置台的定位时被配置在探针卡与晶圆载置台之间，分别拍摄半导体晶圆的电极和探针卡的电极。
载置台晶圆半导体晶圆探针卡电极载置光学系统单元微小移动探针台载置面平面位置偏差电极接触台本发明精度量探针芯片拍摄配置移动

[发明专利]检查装置和加工装置-CN202111600684.5在审
发明人：美细津祐成 -专利权人：株式会社迪思科
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供检查装置和加工装置，其能够隔着载置部良好地拍摄被检查物。检查装置(300)具有：被检查物保持机构(310)，其保持被加工物，具有载置部(312)，载置部具有上表面作为载置面(311)的透明体(314)；拍摄机构(340)，其具有配置于载置部的上方的第1拍摄单元(342)和配置于载置部的下方的第2拍摄单元；空气喷射单元(350)，其配置于载置面的上方，喷射空气(353)；和保持机构移动单元(331)，其使空气喷射单元相对于载置部相对地移动。空气帘(355)的Y轴方向的长度形成得比载置面的Y轴方向的长度长，空气喷射单元通过保持机构移动单元而相对于载置部相对地移动，对整个载置面吹送空气。
检查装置加工

[发明专利]曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法-CN200480022536.8有效
发明人：柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-08-05 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：为了在对一个晶片载置台(WST1)上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台(WST1、WST2)的替换，使另一个晶片载置台(WST2)暂时位于一个晶片载置台的下方，通过包含该步骤，可以在对一个晶片载置台上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台的替换动作(交换动作)，上述两个晶片载置台的替换动作基于使另一个晶片载置台暂时位于该一个晶片载置台的下方的方式，这样一来，与从对一个晶片载置台上的晶片的曝光动作结束的时刻开始进行两个晶片载置台的替换动作时相比，可在短时间内进行该替换
曝光方法装置载置台设备制造

[发明专利]基板搬运手和基板搬运机器人-CN201110076710.9无效
发明人：古市昌稔 -专利权人：株式会社安川电机
申请日： 2011-03-29 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： B25J9/06 文献下载
摘要：在根据本发明的基板搬运手中，第三载置部用于与第一载置部一起支撑在第一载置部上载置的第一基板，同时第四载置部可移动地设置在手主体部上，当其移动到手主体部的第一位置时，与第二载置部一起支撑在第二载置部上载置的第二基板，从而基板搬运手能够利用在不移动手主体部本身而仅相对于手主体部移动设置在其上的第四载置部的简单结构中的不同的载置部支撑基板。因此，根据该简单结构，基板搬运手能够通过恰当地使用不同的载置部来支撑基板。
搬运机器人

[发明专利]探测装置和晶片装载器-CN201410060208.2无效
发明人：秋山收司;雨宫浩 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-02-21 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：其能够使晶片收纳容器的载置高度应对由搬运机械手进行的自动搬运，且能够与大型的测试头等对应。进行形成于半导体晶片的半导体器件的电检查的探测装置，具备探测器部，其具有载置台、驱动载置台使其上所载置的半导体晶片的半导体器件与探测器接触的载置台驱动机构、容纳载置台和载置台驱动机构的探测器壳体；和晶片装载器，其具备装载器壳体、载置晶片收纳容器的收纳容器载置部、使该收纳容器载置部移动至装载器壳体外的第一位置和在装载器壳体内比第一位置低的第二位置的收纳容器载置部驱动机构、容纳于装载器壳体内且能够在晶片收纳容器与载置台之间搬运半导体晶片的晶片搬运机构
探测装置晶片装载

[发明专利]基板处理装置、温度测定单元及半导体器件的制造方法-CN201780015489.1有效
发明人：油谷幸则;桧山真 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-01-25 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：提供一种基板处理装置，具备：基板载置部，其具有载置面且在该载置面上载置基板；加热部，其对载置于载置面的基板进行加热；和能够弹性的温度传感器，其顶端构成温度检测部，温度传感器从载置面之下延伸至载置面之上，顶端从载置面突出。另外，提供一种半导体器件的制造方法，具备：将基板载置于基板载置部的载置面并使突出到载置面上的温度传感器的顶端与基板背面接触、以顶端与载置面相比被下压到下方的方式使温度传感器弹性变形的工序；对基板进行加热的工序
处理装置温度测定单元半导体器件制造方法

[发明专利]胎圈芯转移载置装置-CN201310191328.1有效
发明人：吉田丰 -专利权人：住友橡胶工业株式会社
申请日： 2013-05-22 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： B65G1/04 文献下载
摘要：本发明提供胎圈芯转移载置装置，能够不使胎圈芯相互粘接地高效地转移载置于输送台车的保持臂。该胎圈芯转移载置装置具有排列单元和转移载置单元。转移载置单元从排列单元接受排列的胎圈芯，并且保持排列状态地转移载置于输送台车的保持臂列。并且转移载置单元以使转移载置的胎圈芯在X轴方向上与先转移载置的胎圈芯隔开间隙的方式，每次进行转移载置时均依次改变X轴方向的转移载置位置。
胎圈芯转移装置

[发明专利]元件供给装置-CN201880097916.X有效
发明人：藤荣勇夫 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H05K13/08 文献下载
摘要：元件供给装置具备：多个载置部，电气元件以被定位部定位的状态载置于上述载置部；及检测装置，检测载置于多个载置部的电气元件的上下方向上的偏差，元件供给装置以载置于载置部的状态来供给电气元件。
元件供给装置

[发明专利]载置台、基板处理装置以及导热气体供给方法-CN202011500750.7在审
发明人：佐竹大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-12-18 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及载置台、基板处理装置以及导热气体供给方法。能够防止载置台的接合所使用的粘接剂的劣化。提供载置台，其具有：销贯穿路径，其构成为贯穿用于载置基板的载置台，供升降销贯穿；导热气体供给路径，其构成为贯穿所述载置台，用于向所述载置台的载置面导入导热气体；共用气体供给路径，其构成为使所述销贯穿路径和所述导热气体供给路径连通，供导热气体流通；以及第1构件，其构成为在所述销贯穿路径和所述共用气体供给路径相交的位置以与所述共用气体供给路径相面对的方式配置，用于调整从所述销贯穿路径向所述载置台的载置面上导入的导热气体的流量。
载置台处理装置以及导热气体供给方法

[发明专利]载置台、基板处理装置以及基板处理方法-CN202110590771.0在审
发明人：小岩真悟 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供载置台、基板处理装置以及基板处理方法。在包括载置基板的载置面的载置台中，使该载置面的平坦度提高。一种载置台，其用于载置基板，其中，该载置台具有：静电卡盘，其具有载置基板的载置面；支承构件，其支承所述静电卡盘；以及吸收构件，其配置于所述静电卡盘与所述支承构件之间，该吸收构件的外缘部借助紧固件与所述支承构件紧固
载置台处理装置以及方法

[发明专利]车辆的中央座间台-CN202211278799.1在审
发明人：谷口浩康;山本洋幸;塚越俊典;星岛陆宏 -专利权人：本田技研工业株式会社
申请日： 2022-10-19 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B60R7/08 文献下载
摘要：中央座间台具备物品载置部(11)、前块部(12)、后块部(13)、桥部(14)、后方鼓出部(15)、以及手指放入接受面。物品载置部(11)具有能够载置矩形板状的物品的载置面。前块部(12)配置在物品载置部(11)的前方。后块部(13)配置在物品载置部(11)的后方。桥部(14)架设于前块部(12)和后块部(13)，并且隔着空间部(25)而配置在物品载置部(11)的上方。后方鼓出部(15)从载置面的前部向上方立起，朝向载置面的车宽方向中央区域而向后方鼓出。手指放入接受面位于后方鼓出部(15)的车宽方向外侧，从载置面向前方延伸。
车辆中央座间台

[发明专利]成膜装置-CN201010133561.0有效
发明人：加藤寿;本间学;菊地宏之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-03-15 - 公布日： 2010-09-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：该成膜装置包括：载置台，其设在真空容器内且具有沿着以该载置台的中心部为中心的圆而形成的基板的载置区域；主气体供给部，其为了将反应气体供给到上述载置台的上述载置区域，与上述载置台相对设置；补偿用气体供给部，其为了对由上述主气体供给部供给的反应气体的在上述载置台的半径方向上的气体浓度分布进行补偿而将上述反应气体供给到上述载置台的表面上；旋转机构，其用于使上述载置台以该载置台的中心部为旋转轴而绕铅垂轴线相对于上述主气体供给部和补偿用气体供给部进行相对旋转
装置

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