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[发明专利]彩涂机组在线膜厚检测方法-CN202010807349.1在审
发明人：袁焕;张赢 -专利权人：上海金艺检测技术有限公司
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种彩涂机组在线膜厚检测方法，本方法膜厚服务器通过膜厚探头实时采集带钢膜厚原始数据，带钢膜厚原始数据包括带钢上下表面膜厚原始数据，并且满足质检的精度和数量要求；带钢上下表面膜厚原始数据包括初涂WS、CS、DS膜厚数据、精涂WS、CS、DS膜厚数据以及总膜厚WS、CS、DS膜厚数据；上位机将带钢钢卷卷号及焊缝信号传递给膜厚服务器，膜厚服务器根据钢卷跟踪表中的每包钢卷上表面或者下表面涂层总膜厚进行高频和低频数据超差判定及报警本方法结合生产质量目标数据和质检判定标准形成实际质量判定标准，对生产后的带钢从质量数据分析中得出带钢涂层膜厚质量判定的结果，减少漏判和误判，提高质检效率和工作有效性。
机组在线检测方法

[发明专利]膜厚信号处理装置、研磨装置、膜厚信号处理方法、及研磨方法-CN201510593490.5有效
发明人：高桥太郎;中尾秀高;中村显 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-09-17 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供一种提高膜厚的检测精度的膜厚信号处理装置、研磨装置、膜厚信号处理方法、及研磨方法，该膜厚信号处理装置(230)包括：接收部(232)，其接收由沿着研磨面对研磨对象物(102)的膜厚进行检测的涡流传感器(210)输出的膜厚数据；确定部(236)，其基于由接收部(232)接收的膜厚数据，对膜厚数据的有效范围进行确定；补正部(238)，其对由确定部(236)确定的有效范围内的膜厚数据进行补正。
信号处理装置研磨方法

[实用新型]膜厚测试及数据采集系统-CN201120334871.9有效
发明人：崔明虎;黄彩彩;郝明飞;李永峰 -专利权人：天津三星电机有限公司
申请日： 2011-09-07 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： G01B21/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种膜厚测试及数据采集系统，包括用于检测膜厚的膜厚测试仪，所述的膜厚测试仪设有数据输出端口，设有主机，该主机通过自带的数据输入端口与膜厚测试仪的数据输出端口相连接。本实用新型膜厚测试及数据采集系统省去测试曲线打印，手动选定波峰波谷、膜厚计算及手动录入电脑的过程，膜厚测试仪采集的数据可直接导入主机定表格中，并直接导入管理系统。
测试数据采集系统

[发明专利]膜厚信号处理装置、研磨装置、膜厚信号处理方法及研磨方法-CN201710509057.8有效
发明人：中村显 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-06-28 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明提供一种提高边缘处的膜厚的检测精度且减少研磨对象物的边缘附近的瑕疵率的膜厚信号处理装置、研磨装置、膜厚信号处理方法及研磨方法。接收部(232)接收从用于检测研磨对象物(102)的膜厚的涡电流传感器(210)输出的传感器数据，并生成膜厚数据。修正部(238)基于由接收部(232)生成的膜厚数据，进行比研磨对象物(102)的边缘靠内侧的位置处的膜厚数据的修正。修正部(238)使用在比研磨对象物(102)的边缘靠外侧的位置由接收部(232)生成的膜厚数据，对在比研磨对象物(102)的边缘靠内侧的位置由接收部(232)生成的膜厚数据进行修正。
信号处理装置研磨方法

[发明专利]一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台涂胶槽水平程度的方法-CN201811302702.X有效
发明人：张涛;王晓龙 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台涂胶槽水平程度的方法，包括以下步骤：步骤一、测量硅片上表面光阻膜的二维平面在X和Y两个方向上的膜厚，并得到X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据；步骤二、将步骤一中得到的X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据通过线性拟合的方式得到膜厚拟合线斜率；步骤三、将步骤二中得到的膜厚拟合线斜率与数据库进行对比，若膜厚拟合线斜率落入数据库的斜率范围内，则监控显示结果为无异常，若膜厚拟合线斜率未落入数据库的斜率范围内
一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台水平程度方法

[发明专利]薄膜膜厚的测量方法、装置、电子设备及存储介质-CN202310017942.X在审
发明人：韩玉永;张雪娜;王帅;洪峰;张宇帆 -专利权人：深圳市埃芯半导体科技有限公司
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请适用于薄膜制造技术领域，提供了一种薄膜膜厚的测量方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：根据薄膜的理论数据信息和第一模拟数据信息得到薄膜的第一膜厚后，还根据第一膜厚进行以下处理：先根据第一膜厚和待拟合比例值，得到薄膜的第二膜厚，然后根据第二膜厚以及薄膜的光学常数，得到薄膜的第二模拟数据信息，最后根据上述理论数据信息和上述第二模拟数据信息进行拟合，得到薄膜的各个待测点位的第三膜厚，从而，可以在对薄膜的膜厚进行测量时，充分考虑薄膜的各个待测点位的关联性，提高薄膜的膜厚测量的准确性，从而解决因忽略了不同点位之间存在一定关联性，导致薄膜膜厚的测量结果不够准确的问题。
薄膜测量方法装置电子设备存储介质

[发明专利]一种高精度膜厚测量系统及方法-CN202011474312.8在审
发明人：夏禹;曹永盛;郭杏元 -专利权人：光芯薄膜（深圳）有限公司
申请日： 2020-12-15 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：一种高精度膜厚测量系统及方法，本发明的膜厚仪、振荡包、编码器、滑环安装于真空腔体外工件架的旋转轴顶部，晶片探头、石英晶体和温度传感器安装于真空腔体内工件架表面，晶片探头、温度传感器信号通过真空馈入法兰引出，工件架的旋转轴带动上述部件水平旋转；所述膜厚仪根据编码器数据选择石英晶体的最佳测试位置，所述膜厚仪根据温度传感器数据对石英晶体频率进行温度校准，所述膜厚仪利用校准后频率准确计算真实膜厚，通过滑环实现膜厚仪与腔体外静态工控机的数据传输实现旋转镀膜时膜厚的准确测量，有效消除温度影响，确保运动与非运动部件之间的数据可靠传输。
一种高精度测量系统方法

[发明专利]薄膜膜厚的测量方法、装置、电子设备及存储介质-CN202310017930.7在审
发明人：张雪娜;洪峰;韩玉永;王帅;张宇帆 -专利权人：深圳市埃芯半导体科技有限公司
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请适用于薄膜制造技术领域，提供了一种薄膜膜厚的测量方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取薄膜的膜厚相对比值；根据所述膜厚相对比值修正所述薄膜的待测膜层的各个测量点位的初始膜厚，得到所述待测膜层的各个测量点位的修正膜厚；根据所述修正膜厚以及所述薄膜的光学常数构建所述待测膜层的模型，并计算与所述模型对应的模拟数据信息；针对所述待测膜层的各个测量点位，分别采集椭圆偏振光谱，得到所述待测膜层的理论数据信息；根据所述模拟数据信息和所述理论数据信息进行拟合，得到所述待测膜层的各个测量点位的精确厚度，从而解决薄膜的各个膜层膜厚的测量结果不够准确的问题。
薄膜测量方法装置电子设备存储介质

[发明专利]学习装置及方法、信息处理装置、衬底处理装置及系统、配方确定方法及计算机可读介质-CN202211114852.4在审
发明人：塙洋祐;佐佐木悠太;国枝省吾 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G06F30/27 文献下载
摘要：学习装置具备：实验数据获取部，获取衬底上形成的固体的膜厚或液体的膜厚，所述固体的膜厚或液体的膜厚是在第1条件下驱动衬底处理装置而获得的，所述衬底处理装置在执行对衬底供给液体，在衬底上形成固体膜或液体膜的一系列处理之后，从衬底去除固体膜或液体膜而使衬底干燥；以及第1学习部，使学习模型学习第1教学数据，所述第1教学数据包含表示由实验数据获取部获取的固体的膜厚或液体的膜厚的特性的膜厚特性及第1条件。
学习装置方法信息处理衬底处理系统配方确定计算机可读介质

[发明专利]膜厚控制方法及装置-CN201110270265.X无效
发明人：林信宏 -专利权人：力铼光电科技(扬州)有限公司
申请日： 2011-08-30 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C18/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种膜厚控制方法及膜厚控制装置，所述膜厚控制方法用于膜处理工艺中的膜厚控制，所述膜厚控制方法包括步骤：在进行所述膜处理工艺的膜处理容器的不同区域设置能够影响所述膜处理容器内不同区域的所述膜处理工艺反应温度的多个加热器；在进行所述膜处理工艺时，通过所述多个加热器，将各所述不同区域的反应温度提升至各自的温度预设值；获得所述膜处理工艺后的所述不同区域的膜厚数据，根据所述膜厚数据与目标膜厚的差距调整所述不同区域的温度预设值本发明能够获得较佳的膜厚均匀性。
控制方法装置

[发明专利]膜形成装置及膜形成方法-CN201510450812.0有效
发明人：冈本裕司 -专利权人：住友重机械工业株式会社
申请日： 2015-07-28 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成装置。从与保持于载物台的基板对置的喷嘴头朝向基板吐出经液滴化的膜材料。存储装置存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息。控制装置根据图像数据控制喷嘴头及移动机构，由此在基板上形成膜。数据通过输入装置输入到控制装置。若从输入装置输入有膜厚指令值，则控制装置根据膜厚补正信息来补正膜厚指令值，由此计算比膜厚指令值厚的膜厚目标值，并且控制装置控制喷嘴头及移动机构以形成相当于膜厚目标值厚度的膜。
形成装置方法

[发明专利]干涉式膜厚计-CN201210394819.1有效
发明人：中谷贵之;横田博 -专利权人：仓敷纺织株式会社
申请日： 2012-10-17 - 公布日： 2013-04-24 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在在线式测量中进行稳定的测量的干涉式膜厚计。该干涉式膜厚计设置有焦点位置扫描部(7)，该焦点位置扫描部(7)使作为从投受光探头(5)照射的光的焦点位置、且入射至投受光探头(5)的光的焦点位置的共同焦点位置在规定范围内进行扫描。运算部(13)具备：分光数据获取部(15)，其获取投受光探头(5)所接收的光的分光光谱数据；能谱算出部(17)，其基于分光光谱数据来计算能谱；膜厚算出部(19)，其基于能谱的数据来计算测量对象膜(23)的膜厚；和数据提取部(21)，其针对分光光谱数据或能谱的数据或者这两者设置阈值，对阈值以上的数据进行提取。膜厚算出部(19)输出与数据提取部(21)所提取的数据对应的膜厚数据。
干涉式膜厚计

[发明专利]膜厚测定装置和膜厚测定方法-CN201510232473.9有效
发明人：岩永修儿;西山直;加藤宽三 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-05-08 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种膜厚测定装置和膜厚测定方法。取得预先测定测定准备用晶片上的多个点得到的膜厚测定值和与该膜厚测定值对应的各坐标。生成各坐标中所提取的像素值与各坐标的膜厚测定值的相关数据。用拍摄装置拍摄成为膜厚测定对象的基板，取得拍摄图像，根据该拍摄图像的像素值和相关数据，计算形成于成为膜厚测定对象的基板上的膜的膜厚。
测定装置方法

[发明专利]基片检查系统、基片检查方法和存储介质-CN202010484089.9在审
发明人：中村泰之;鹤田丰久;野田康朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基片检查系统、基片检查方法和存储介质，其中，基片检查系统包括：拍摄部，其设置于基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于基片处理装置中，测量以与颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部(107)，其制作膜厚模型，膜厚模型表示了基于图像数据获得的关于因膜的形成而引起的颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由膜厚测量部测量出的膜厚测量用基片的膜厚的对应关系。根据本发明，能够更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型。
检查系统方法存储介质

[发明专利]一种过塑机及其膜厚检测方法、控制方法-CN202211617315.1在审
发明人：王恩泽;沈孔德 -专利权人：得力集团有限公司
申请日： 2022-12-15 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B29C63/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种过塑机及其膜厚检测方法、控制方法，过塑机包括进膜单元和膜厚检测机构，所述膜厚检测机构包括膜厚检测电路和数据处理单元，膜厚检测电路和数据处理单元连接，通过在进膜口上端放置第一电极片、进膜口下端放置第二电极片，利用通电的第一电极片和第二电极片，以空气为绝缘介质形成原始电容，通过过塑膜穿过进膜口来改变第一电极片和第二电极片之间的垂直距离，使得原始电容的容值改变，从而使得膜厚检测电路的电压改变，通过数据处理单元采集并识别电压信号，来确定穿过进膜口的过塑膜的厚度，简化了确定过塑膜厚度的步骤，降低过塑机的生产成本。
一种及其检测方法控制

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