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[发明专利]制造半导体装置的方法-CN201811285152.5在审
发明人：高永珉;权赫宇;李凖原 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：提供了制造半导体装置的方法，所述方法包括：在目标层上顺序地形成第一硬掩模层、第二硬掩模层和光致抗蚀剂层；对光致抗蚀剂层进行图案化以形成光致抗蚀剂图案；将光致抗蚀剂图案用作蚀刻掩模顺序地对第二硬掩模层和第一硬掩模层进行图案化以形成第一硬掩模图案和位于第一硬掩模图案上的第二硬掩模图案；将第一硬掩模图案和第二硬掩模图案用作蚀刻掩模来蚀刻目标层，其中，第二硬掩模层包括掺杂杂质的非晶硅。
硬掩模图案硬掩模层光致抗蚀剂图案半导体装置蚀刻掩模图案化光致抗蚀剂层蚀刻目标层掺杂杂质抗蚀剂层非晶硅目标层制造

[发明专利]制造显示装置的设备和方法以及制造掩模组件的方法-CN202110185153.8在审
发明人：文敏浩;郭珍午;金仁培;宋昇勇;李德重;秋惠容 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-02-10 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了用于制造显示装置的设备、制造掩模组件的方法和制造显示装置的方法。用于制造显示装置的设备包括：掩模组件，其中掩模组件包括：掩模框架，包括开口区域；第一掩模，被设置在掩模框架上，第一掩模包括至少一个开口；第二掩模，被设置在第一掩模上，第二掩模包括具有网格形状的网格部分和屏蔽网格部分的一部分的阻挡构件；以及第一支撑，用于将显示基板支撑在第二掩模上并且将显示基板与第二掩模分开，其中，阻挡构件与开口重叠。
制造显示装置设备方法以及模组

[发明专利]丝网印刷机、元件安装线和丝网印刷方法-CN201410669194.4有效
发明人：大武裕治;河内满;黑田圣弥 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2014-11-20 - 公布日： 2018-09-11 - 主分类号： B41F15/08 文献下载
摘要：丝网印刷机包括：掩模；基板保持单元，在掩模的下方由夹紧构件夹紧并保持基板；基板保持单元移动机构，使基板保持单元移动以使基板与掩模的下表面接触；膏剂填充单元，使掩模的图案孔填充有膏剂；设置在夹紧构件中的掩模抽吸部，抽吸与基板接触的掩模。掩模抽吸部在基板保持单元移动机构使基板沿远离掩模的方向移动以执行板释放时保持抽吸掩模，并在基板的移动开始之后，在被吸到掩模抽吸部的掩模维持平行于基板的姿态的状态下释放对掩模的抽吸。
掩模基板保持单元基板丝网印刷机抽吸部抽吸夹紧构件丝网印刷移动机构元件安装膏剂填充方向移动基板接触释放基板沿图案孔下表面移动夹紧平行

[发明专利]用于排队式基板处理系统的掩模处理模块和用于掩模传送的方法-CN201880097729.1在审
发明人：塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-09-19 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：描述了提供一种用于排队式基板处理系统的掩模处理模块、一种用于基板的排队式处理的真空处理系统、及一种用于掩模传送的方法。此掩模处理模块包括真空旋转腔室，提供于第一真空腔室及第二真空腔室之间的此排队式基板处理系统内；旋转机构，位于此真空旋转腔室内；第一掩模台，具有第一掩模保持器组件，且此第一掩模台安装于此旋转机构上，以旋转此第一掩模台，及第二掩模台，具有第二掩模保持器组件，且此第二掩模台安装于此旋转机构上，以旋转此第二掩模台；掩模处理组件，配置成用于此第一掩模台及掩模处理腔室之间的第一掩模传送；及第一基板运输轨道，与此第一掩模台相关联，此第一基板运输轨道配置成用以支撑第一基板载体，此第一掩模保持器组件配置成用于此第一掩模台及此第一基板载体之间的第二掩模传送；及第二基板运输轨道，与此第二掩模台相关联，此第二基板运输轨道配置成用以支撑第二基板载体
用于排队式基板处理系统模块传送方法

[发明专利]一种掩模板搬运设备及曝光机组系统-CN201610587069.8在审
发明人：钱宏伟;孙增标;王雷;赵杰;冯娜;张昭强 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本发明涉及显示装置制作技术领域，公开了一种掩模板搬运设备及曝光机组系统，以提高掩模板的搬运效率，减少掩模板在搬运过程中的损坏或污染。掩模板搬运设备包括：掩模板存储装置、运输装置、第一取放装置和第二取放装置；运输装置包括轨道和滑动装配在轨道上的掩模板运载装置；第一取放装置用于在掩模板存储装置与掩模板运载装置之间取放掩模板；对应掩模板曝光机组系统每一个曝光机所分别设置的第二取放装置用于在掩模板运载装置与曝光机的掩模板缓存装置之间取放掩模板
一种模板搬运设备曝光机组系统

[发明专利]制造三维半导体存储器件的方法-CN201910159325.7在审
发明人：刘韩根;张大铉 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-03-04 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： H01L27/1157 文献下载
摘要：一种方法可以包括：在衬底上形成模结构，该膜结构包括沟道区域和在沟道区域之间的非沟道区域；以及在模结构上形成多层掩模层，该多层掩模层包括顺序地堆叠的第一掩模层、蚀刻停止层和第二掩模层。该多层掩模层可以包括暴露沟道区域中的模结构的掩模孔、暴露非沟道区域中的第一掩模层的虚设掩模孔、以及覆盖由掩模孔和虚设掩模孔暴露的第二掩模层的侧壁的缓冲间隔物。该方法可以包括使用该多层掩模层作为蚀刻掩模来蚀刻模结构以在沟道区域中形成沟道孔。
沟道区域多层掩模掩模层掩模孔模结构三维半导体存储器暴露虚设蚀刻停止层缓冲间隔蚀刻掩模膜结构蚀刻模侧壁衬底堆叠沟道制造覆盖

[发明专利]掩模制造方法-CN202111086659.X在审
发明人：李炳一;金奉辰;李永浩 -专利权人：悟劳茂材料公司
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及掩模制造方法。本发明的掩模制造方法用于制造OLED像素形成用掩模，该方法包括以下步骤：(a)准备掩模金属膜；(b)在掩模金属膜的至少第一面上形成图案化的第一绝缘部；(c)在掩模金属膜的第一面上通过第一绝缘部图案间的空间形成副掩模图案；(d)通过夹设隔板绝缘部来粘合形成有副掩模图案的掩模金属膜的第一面与支撑基板；(e)使用与掩模金属膜的第一面相对的第二面上形成的第二绝缘部图案间的空间，在掩模金属膜上形成主掩模图案，从而制造掩模。
制造方法

[发明专利]蒸镀掩模装置、蒸镀掩模装置的制造方法及有机器件的制造方法-CN202310153425.5在审
发明人：冈本英介;小井浩司 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2023-02-22 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供蒸镀掩模装置、蒸镀掩模装置的制造方法及有机器件的制造方法。本公开的蒸镀掩模装置具备框架、蒸镀掩模和对准掩模。对准掩模包括在第二方向上位于互不相同的位置并且与框架重叠的2个第一对准掩模孔。相对于第一对准掩模孔，将框架与对准掩模接合在一起的第一焊接部位于第二方向上的对准掩模的外侧。相对于第一对准掩模孔，将框架与对准掩模接合在一起的第二焊接部位于第二方向上的对准掩模的内侧。
蒸镀掩模装置制造方法有机器件

[发明专利]丝网印刷机-CN201780097572.8有效
发明人：鸟居敦志;林幸辉 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： B41F15/08 文献下载
摘要：本发明是在机内能够进行掩模的张力测定的丝网印刷机具有：掩模保持装置，对掩模进行保持；基板装置，相对于所述掩模保持装置所保持的掩模从下方对基板进行定位；刮板装置，在所述掩模的上表面涂展焊膏；掩模按压装置，通过在相对于所述掩模的上侧行走装置或下侧行走装置上搭载的推进器来以设定压力对所述掩模进行按压；掩模测定装置，搭载于与所述推进器相反的所述上侧行走装置或下侧行走装置，对所述掩模的高度进行测定；以及张力测定装置，基于所述掩模测定装置的测定值来计算所述掩模的张力。
丝网印刷机

[发明专利]玻璃掩模和掩模保持器的位置对准装置-CN200910007136.4无效
发明人：目黑崇 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2009-02-09 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种可高精度地进行玻璃掩模和掩模保持器的位置对准的玻璃掩模和掩模保持器的位置对准装置。将装有玻璃掩模(50)的掩模保持器(51)装入到基座(1)上，利用固定气缸(12、13)使掩模保持器(51)压紧X基准位置片(10)和Y基准位置片(11)来固定，进行掩模保持器(51)的定位，之后使升降器(21)上升，使用吸附垫(23)将玻璃掩模(50)吸附固定，根据从CCD相机(18)发送来的图像，使对准台(2)移动来使掩模标记(60)和基准标记61匹配。匹配后，使用掩模保持器(51)将玻璃掩模(50)固定，解除掩模保持器(51)的固定，送到下一工序。
玻璃保持位置对准装置

[发明专利]基于受控时延信号转移传送的信号分段时域压缩处理系统-CN200810034013.5无效
发明人：李艳敏;李孟超;郑刚;庄松林 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2008-02-28 - 公布日： 2008-08-27 - 主分类号： G02F2/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于受控时延信号约束转移传送的信号分段时域压缩处理系统，所述系统的光路结构为：紫外激光器输出紫外光直传光束和紫外光移频光束，分别准直扩束后，相交形成差拍干涉，分别写入一已蚀刻有掩模的光纤的侧面，形成移动腔，用以寄存光信号，移动方向是从输入端向输出端；红光激光器输出光经上述同样处理过程，写入上述光纤无掩模的另一侧面，形成等间隔分布的移动干涉条纹，从输出端向输入端移动，等间隔匀速擦除由紫外光差拍干涉形成的移动腔
基于受控信号转移传送分段时域压缩处理系统

[发明专利]掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法-CN201980062036.3在审
发明人：李炳一;张泽龙;李裕进 -专利权人：悟勞茂材料公司
申请日： 2019-10-15 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及掩模的制造方法、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的掩模的制造方法作为OLED像素形成用掩模的制造方法，该方法包括以下步骤：(a)准备掩模金属膜(110)；以及(b)在掩模金属膜(110)的一面通过激光图案化(LE)形成掩模图案(P)。
制造方法支撑模板框架体型

[发明专利]一种掩模板保护方法-CN201811362886.9在审
发明人：李东滨;吴疆;谷义伟;王德苗;金浩;冯斌 -专利权人：浙江大学昆山创新中心
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： G03F1/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板保护方法，包括：步骤一、准备全新的掩模板，并对其进行预处理；步骤二、在掩模板上沉积一层纳米薄膜；步骤三、将铝箔贴敷在掩模板外表面；步骤四、去除覆盖在掩模孔上的多余铝箔。采用本发明的掩模板保护方法对传统掩模板进行保护后，可通过更换铝箔实现掩模版的重复利用，从而大大降低掩模成本。
掩模板铝箔预处理传统掩模板纳米薄膜重复利用掩模版掩模孔贴敷掩模沉积去除覆盖

[发明专利]框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法-CN201880086540.2在审
发明人：李裕进 -专利权人：悟勞茂材料公司
申请日： 2018-12-26 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的框架一体型掩模，其由多个掩模(100)与用于支撑掩模(100)的框架(200)一体形成，其特征在于，框架(200)具有：边缘框架部(210)，其包括中空区域(R)；以及掩模单元片材部(220)，其具有多个掩模单元区域(CR)且连接于边缘框架部(210)，各掩模(100)连接于掩模单元片材部(220)的上部。
框架体型制造方法

[发明专利]制造掩模的方法和制造显示装置的方法-CN202110263540.9在审
发明人：金柾勋;晋丞民;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了制造掩模的方法和制造显示装置的方法。具体地，提供的是制造被配置为最小化阴影效应的具有高精度的掩模的方法以及制造显示装置的方法。制造掩模的方法包括：拉紧掩模板；将拉紧的掩模板结合至掩模框；以及通过在掩模板上照射激光而在掩模板中形成开口，使得开口的内壁相对于掩模板的表面具有斜坡。
制造方法显示装置