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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]掩模支撑模板、其制造方法及框架一体型掩模的制造方法-CN201980048804.X在审
发明人：李炳一;李裕进 -专利权人：悟勞茂材料公司
申请日： 2019-08-05 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及掩模支撑模板、其制造方法及框架一体型掩模的制造方法。本发明的掩模支撑模板的制造方法用于制造支撑OLED像素形成用掩模(100)并使其与框架(200)对应的模板(50)，其包括以下步骤：(a)提供掩模金属膜(110)；(b)将掩模金属膜(110)粘合到一表面形成有临时粘合部(55)的模板(50)上；以及(c)在掩模金属膜(110)上形成掩模图案(P)以制造掩模(100)。
支撑模板制造方法框架体型

[发明专利]掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法-CN202110346346.7在审
发明人：李炳一;金奉辰;李裕进 -专利权人：悟勞茂材料公司
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：本发明涉及掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的掩模支撑模板的制造方法，包括以下步骤：(a)准备一面形成有第一绝缘部的掩模金属膜；(b)通过在模板上夹设第一绝缘部使掩模金属膜粘合到模板的上部面；(c)通过在掩模金属膜上形成掩模图案来制造掩模
支撑模板及其制造方法框架体型

[发明专利]掩模的制造方法、据此制造的掩模和显示装置的制造方法-CN202110096084.3在审
发明人：金泰圣;吕伦钟;赵炫珉;孙智熙;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-01-25 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模的制造方法、据此制造的掩模和显示装置的制造方法。其中，所述掩模的制造方法包括如下步骤：在掩模基板上形成有机物质层，在所述有机物质层上图案化硬掩模；蚀刻所述有机物质层而形成包括贯通孔的掩模片；去除布置在所述掩模片上的所述硬掩模；在所述掩模片上形成导电物质层
制造方法据此显示装置

[发明专利]用于薄膜沉积的掩模框架组件-CN201210037878.3有效
发明人：洪宰敏 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2012-02-17 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于将沉积材料沉积在沉积基底上的掩模框架组件，该掩模框架组件包括：掩模框架，包括开口和围绕开口的多个框架；以及掩模，结合在掩模框架上。防变形单元形成在掩模的至少一个区域上。由于防变形单元形成在掩模中的沉积图案的外围部分上，所以可以减小掩模沿垂直方向的变形。因此，可以减少掩模与基底的有缺陷附着。
用于薄膜沉积框架组件

[发明专利]掩模-CN201110441446.4有效
发明人：李宰赫;申荣训 -专利权人：乐金显示有限公司
申请日： 2011-12-26 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：公开了一种可用于在淀积设备中在衬底上形成图案的掩模，以及使用该掩模来制造显示装置的方法。所述掩模包括掩模图案和框架。该掩模具有渐缩形状，其中该框架的内表面在从上端到下端的方向上渐缩。使用该掩模的掩模图案在衬底上形成薄膜图案。所述框架支持所述掩模图案的外部，并且包括在设置所述掩模图案的内侧方向渐缩的斜面。
掩模

[发明专利]接近型曝光装置-CN200510132967.6有效
发明人：李千洙;车相焕;申铉长 -专利权人： LG.菲利浦LCD株式会社
申请日： 2005-12-29 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：讨论了一种用于对准基板与掩模的装置和方法。在本发明的一个方面，所述装置包括：掩模台，其中该掩模台包括被构造成固定地支撑掩模的掩模固定台和支撑该掩模固定台的基台；以及布置在基台中的至少一个引导单元，其与掩模固定台耦合，并且被构造成移动掩模固定台，以沿预定方向移动掩模。
接近曝光装置

[发明专利]半导体器件中用硬掩模层的蚀刻斜坡形成精细图案的方法-CN200710195941.5无效
发明人：赵诚允;姜惠阑 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2007-12-07 - 公布日： 2008-09-24 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种在半导体器件中使用硬掩模层的蚀刻斜坡形成精细图案的方法，包括在蚀刻目标层上形成第一硬掩模层和第二硬掩模层，通过蚀刻所述第二硬掩模层形成第二硬掩模图案，其中所述第二硬掩模层的蚀刻外形具有正斜坡，和使用所述第二硬掩模图案作为蚀刻掩模蚀刻所述第一硬掩模层和蚀刻目标层
半导体器件中用硬掩模层蚀刻斜坡形成精细图案方法

[发明专利]一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台-CN201310737701.9在审
发明人：孟春霞;闻人青青;李玉龙;林彬;张俊 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-12-30 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述掩模台还包括对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统。本发明在原有掩模台的基础上，增加可以向掩模侧向两边或四周边缘施加对称向外拉力的系统，如真空吸附系统，从掩模石英面边缘的方向上，对掩模产生对称的向外拉力。这些向外的拉力可以改善由于重力作用，掩模产生的向下弯曲变形的现象。
一种改善掩模垂重力弯曲掩模台

[发明专利]框架一体型掩模及框架一体型掩模的制造方法-CN201980062038.2在审
发明人：李裕进 -专利权人：悟勞茂材料公司
申请日： 2019-10-07 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及框架一体型掩模与框架一体型掩模的制造方法。本发明涉及的框架一体型掩模由多个掩模(100)与用于支撑掩模(100)的框架(200)形成为一体，其中框架(200)包括：边缘框架部(210)，其包括中空区域(R)；掩模单元片材部(220)，其具有多个掩模单元区域(CR)且连接于边缘框架部(210)，各个掩模由经轧制(rolling)工艺制造的金属片材(sheet)构成，各个掩模(100)连接于掩模单元片材部(200)的上部。
框架体型制造方法

[发明专利]掩模版-CN202211031768.6在审
发明人：臧公正 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩模版。该掩模版包括框架和至少一个掩模条，掩模条与框架沿掩模版的厚度方向焊接；掩模条包括第一凹部，第一凹部设置于掩模条沿厚度方向背离框架的一端，掩模条和框架焊接形成的焊点收容于第一凹部。根据本申请实施例提供的掩模版，能够使得待加工件和掩模版之间受力均匀，在一定程度上减小或避免蒸镀过程中待加工件出现破损。
模版

[发明专利]制造垂直沉积掩模的方法和设备-CN200810176343.8有效
发明人：洪钟元;姜有珍;朴时映 -专利权人：三星SMD株式会社
申请日： 2008-11-20 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于制造垂直沉积掩模的方法和设备，所述方法和设备能将掩模片和掩模框焊接以防止大面积掩模因为掩模的重量而下垂。所述设备包括用于拉紧掩模片的拉紧装置和用于将掩模框附着到掩模片的周围的焊接机。所述拉紧装置包括多个夹具和拉紧件，所述多个夹具用于支撑掩模片，所述拉紧件结合到夹具，用于向夹具施加拉力并通过夹具将掩模片平坦地固定在适当的位置。
制造垂直沉积方法设备

[发明专利]真空蒸镀用掩模和用该掩模制造的有机电致发光显示面板-CN03122431.8有效
发明人：安彦浩志 -专利权人：东北先锋电子股份有限公司
申请日： 2003-04-25 - 公布日： 2003-11-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供能调整蒸镀用掩模的张力、同时能容易地从掩模框卸下蒸镀用掩模的真空蒸镀用掩模。本发明的真空蒸镀用掩模1被保持在掩模框11上，具备：蒸镀用掩模本体10；引导构件12，粘接在蒸镀用掩模本体10的至少1边上；以及张力附加装置14，在引导构件12被保持在掩模框11上时，经该引导构件12对蒸镀用掩模本体
真空蒸镀用掩模制造有机电致发光显示面板

[发明专利]掩模支撑模板、掩模金属膜支撑模板、掩模支撑模板制造方法及框架一体型掩模制造方法-CN201911213854.7有效
发明人：李炳一 -专利权人： TGO科技株式会社
申请日： 2019-12-02 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：本发明涉及掩模支撑模板、掩模金属膜支撑模板、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。本发明涉及的掩模支撑模板作为用于支撑OLED像素形成用掩模并将该掩模对应至框架上的模板，其特征在于包括：模板(50)；临时粘合部(55)，其形成于模板(50)上；以及掩模(100)，其夹设有临时粘合部(55)地粘合在模板(50)上且形成有掩模图案(P)，掩模(100)以被施以侧面方向的拉伸力的状态粘合在模板(50)上。
支撑模板金属膜制造方法框架体型

[发明专利]掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法-CN202011262843.0有效
发明人：李炳一;金奉辰 -专利权人：悟劳茂材料公司
申请日： 2020-11-12 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法。根据本发明的掩模支撑模板的制造方法，该模板用于支撑OLED像素形成用掩模并将掩模对应到框架上，该方法包括：(a)将模板插入模板支撑部上形成的槽的步骤；(b)在模板和模板支撑部的至少一面上粘贴掩模金属膜的步骤；以及(c)在掩模金属膜上形成掩模图案，并切除掩模金属膜边缘以制造与模板相同尺寸的掩模的步骤。
支撑模板制造方法框架体型

[发明专利]掩模修整-CN200880103492.X有效
发明人：苏普利亚·戈亚尔;许东浩;金智洙;S·M·列扎·萨贾迪 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-08-19 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：在介电层上形成具有掩模特征的图案化的掩模。该掩模具有该掩模特征的隔离区和致密区。通过多个循环修整该掩模，其中每个循环包含沉积沉积层并选择性蚀刻该沉积层和该图案化的掩模。该选择性蚀刻相对于该掩模的该致密区选择性地修整该掩模的该隔离区。使用修整过的掩模蚀刻该介电层。除去该掩模。
修整

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