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- [发明专利]平面度测定方法-CN202110393143.3有效
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金内伸朗
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株式会社阿迪泰克工程
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2018-02-21
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2023-09-12
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G01B5/28
- 本发明提供能够简便地测定大量的销的上端所构成的假想面那样的面的平面度的平面度测定方法。在使在具有平坦的上表面以及下表面且厚度均匀的测定板(5)上安装有水平仪(6)的测定单元(4)载置在大量的销(3)中的相邻的三根销(3)上的状态下，利用水平仪(6)对正交的两个水平方向上的测定板(5)的倾斜进行测定，对各三根销(3)依次进行该步骤。在第二次以后的步骤中，重复选择此前选择过的销(3)中的一个并且针对所有的销(3)对测定板(5)的倾斜进行测定。根据测定板(5)的倾斜，将上端处于最高的位置的销(3)与上端处于最低的位置的销(3)之间的高度的差异作为平面度而计算。
- 平面测定方法
- [发明专利]两面曝光装置-CN201811284435.8有效
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名古屋淳
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株式会社阿迪泰克工程
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2018-10-31
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2023-06-30
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G03F7/20
- 本发明的目的是在基板的间歇进给中的停止位置的精度较低的情况下也能够以较高的精度进行校准。通过曝光单元(2)经由配置在夹着被输送系统(1)从卷拉出并间歇性地进给的基板(W)的位置处的一对第一第二掩模(3、4)将光向基板(W)照射而曝光。在曝光之前，照相机(8)对第一掩模(3)的校准标记(31)、第二掩模(4)的校准标记(41)及基板(W)的校准用开口(Wm)进行摄影，根据其摄影数据，校准机构进行校准。在来自照相机(8)的摄影数据中有校准用开口(Wm的像的缺失的情况下使基板(W)及或照相机(8)移动而将缺失消除。在摄影数据中有掩模标记(31、41)的缺失的情况下，使一对掩模(3、4)一体地移动而将缺失消除。
- 两面曝光装置
- [发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN201810383138.2有效
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今井洋之
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株式会社阿迪泰克工程
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2018-04-26
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2023-04-07
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G03F7/20
- 在使用了空间光调制器的曝光中减小安装的软件的体积且缩短程序的改写所需的时间。隔着来自具备空间光调制器(3)的曝光头(1)的光的照射区域而在两侧的待机位置，向各工作台(61、62)载置基板(W)，并利用输送系统(6)通过照射区域而交替地往返输送。根据相机(8)拍摄到的基板(W)的对准标记的拍摄数据，序列改写程序(77)改写初始序列程序(73)，在基板(W)通过照射区域时，空间光调制器(3)的各像素反射镜(31)被通过已改写序列程序(74)序列控制在基板(W)形成曝光图案。第一工作台(61)上的基板(W)在去程移动时不被曝光而在返程移动时被曝光，第二工作台(62)上的基板在去程移动时被曝光而在返程移动时不被曝光。
- 曝光装置以及方法
- [发明专利]直接成像式曝光装置-CN202211114228.4在审
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德广庆三;水野修;石野裕久
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株式会社阿迪泰克工程
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2022-09-14
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2023-03-17
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G03F7/20
- 提供一种有效地解决在直接成像式曝光装置中因为高精细化的要求而派生出的生产性下降的问题的直接成像式曝光装置。载置有基板(W)的台(6)通过台移动机构(61)而移动，当基板(W)穿过被具有空间光调制器(3)的各曝光头(1A、1B)照射了曝光图案的光的照射区(EA、EB)时进行曝光。各曝光头(1A、1B)沿着相对于台(6)的移动方向垂直的方向排列为两列，分别设有偏移光学系统(8A、8B)。各偏移光学系统(8A)将光轴向一列的各曝光头(1A)的各照射区(EA)与另一列接近的朝向偏移，各偏移光学系统(8B)将光轴向另一列的各曝光头(1B)的各照射区(EB)与一列接近的朝向偏移。
- 直接成像曝光装置
- [发明专利]基板粘附防止薄膜、台板及基板输送方法-CN201810238605.2有效
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名古屋淳;目黑崇
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株式会社阿迪泰克工程
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2018-03-22
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2022-03-18
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G03F7/20
- 目的是在防止粘着性较高的基板向台板的粘附时，使得没有基板的形状缺陷或垃圾的释放，运行成本上的负担较小，安装及更换也较容易，对于基板的位置偏移也能够有效地应对。在与台板(2)的各基板用真空吸附孔(21)对应的位置处具有基板吸附孔(11)的树脂制的基板粘附防止薄膜(1)以将台板(2)的基板载置区域(R)覆盖的状态配置。台板(2)内的传感器(3)检测设在基板粘附防止薄膜(1)上的标记(12)的偏移。在基板粘附防止薄膜(1)位置偏移的情况下，基板(W)的运入动作被中止。基板粘附防止薄膜(1)经由薄膜用真空吸附孔(25)被真空吸附在台板(2)上。
- 粘附防止薄膜输送方法
- [发明专利]曝光装置-CN201810250735.8有效
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名古屋淳
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株式会社阿迪泰克工程
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2018-03-26
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2021-12-21
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G03F7/20
- 提供一种可根据基板的品种进行最优化的清洁的曝光装置。在搬入手部(31)的前端经由具备伸缩机构(42)的臂(41)安装有清洁辊(4)，搬入手部(31)在将基板(W)载置于台板(1)之后返回到待机位置时，一边使清洁辊(4)接触基板(W)一边水平移动，对基板(W)进行清洁。利用来自控制器(6)的输入部(64)的输入，能够将包含载置于台板(1)的基板(W)的边缘在内的、从该边缘起靠内侧的任意的位置设定为清洁开始点(Ps)，控制器(6)能够避开富余地使清洁辊(4)进行清洁。
- 曝光装置
- [发明专利]平面度测定方法以及销高度调整方法-CN201880001042.3有效
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金内伸朗
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株式会社阿迪泰克工程
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2018-02-21
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2021-06-04
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G01B5/28
- 本发明提供能够简便地测定大量的销的上端所构成的假想面那样的面的平面度的实用的技术。在使在具有平坦的上表面以及下表面且厚度均匀的测定板(5)上安装有水平仪(6)的测定单元(4)载置在大量的销(3)中的相邻的三根销(3)上的状态下，利用水平仪(6)对正交的两个水平方向上的测定板(5)的倾斜进行测定，对各三根销(3)依次进行该步骤。在第二次以后的步骤中，重复选择此前选择过的销(3)中的一个并且针对所有的销(3)对测定板(5)的倾斜进行测定。根据测定板(5)的倾斜，将上端处于最高的位置的销(3)与上端处于最低的位置的销(3)之间的高度的差异作为平面度而计算。
- 平面测定方法以及高度调整
- [发明专利]直描式曝光装置-CN202010380624.6在审
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今井洋之;大塚明
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株式会社阿迪泰克工程
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2020-05-08
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2020-11-10
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G03F7/20
- 提供能够将各种尺寸的基板充分地真空吸附于工作台并且进行曝光的实用的直描式曝光装置。在形成有大量真空吸附孔(21)的工作台(2)载放基板(S)并真空吸附，在使曝光图案的光工作台(2)通过搬运系统(3)而移动并在曝光区域中通过时，通过曝光单元(1)照射曝光图案的光而曝光。与最大尺寸的基板(S)对应地形成有大量的真空吸附孔(21)，薄板(71)堵塞基板(S)未堵塞的真空吸附孔(21)。薄板(71)具有吸附孔(73)或者开口(75、76)，通过将薄板机构(72)定位而成为不对基板(S)的真空吸附进行阻碍的状态。薄板(71)以及薄板机构(72)安装于工作台(2)，并与工作台(2)一体地移动。
- 直描式曝光装置
- [发明专利]直描式曝光装置-CN202010331754.0在审
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渡边健二
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株式会社阿迪泰克工程
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2020-04-24
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2020-10-30
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G03F7/20
- 本发明提供一种能够以简单的构造实现低成本化并且能够以高生产率执行曝光工艺的直描式曝光装置。作为工件载置部的载物台(3)连结有多个，通过转圈机构(21)沿着环状的环绕路转圈。在到达载置作业位置的载物台(3)上装载机(4)载置未曝光的工件W，在通过载物台(3)的移动使工件W通过曝光区域时，曝光头(1)向曝光区域照射曝光图案的光，工件W被曝光。工件W被吸附机构(7)吸附在载物台(3)上，并利用对准单元对曝光图案的照射位置进行校正。曝光完成的工件W由卸载机(5)回收。
- 直描式曝光装置
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