专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [外观设计]舞台灯(23图案-CN202230704929.8有效
  • 邓鸣 - 邓鸣
  • 2022-10-25 - 2023-01-24 - 26-03
  • 1.本外观设计产品的名称:舞台灯(23图案)。2.本外观设计产品的用途:用于舞厅、舞台、娱乐场所、户外亮化及家庭等照射灯光的舞台灯。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
  • 舞台23图案
  • [外观设计]舞台灯(5图案-CN202230705264.2有效
  • 邓鸣 - 邓鸣
  • 2022-10-25 - 2023-01-24 - 26-03
  • 1.本外观设计产品的名称:舞台灯(5图案)。2.本外观设计产品的用途:用于舞厅、舞台、娱乐场所、户外亮化及家庭等照射灯光的舞台灯。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
  • 舞台图案
  • [发明专利]改善接触图案化的方法-CN02150449.0无效
  • 蔡耀铭 - 统宝光电股份有限公司
  • 2002-11-12 - 2004-06-02 - G02F1/136
  • 本发明提供一种改善接触图案化的方法,该方法中采用的液晶显示面板包含有一衬底,一导电层设于该衬底表面,以及一介电层设于该导电层表面。本发明首先于该介电层表面形成一光致抗蚀剂层,且该光致抗蚀剂层内包含有一洞通达至该介电层表面,接着进行一蚀刻工艺,沿着该孔洞去除部分的该介电层,以形成一通达至该导电层表面的接触,随后再进行一表面处理,于该接触底部的该导电层表面形成一保护层,以避免去除该光致抗蚀剂层时对下方的该导电层造成伤害。
  • 改善接触图案方法
  • [发明专利]图案化的开非织造物-CN202080106354.8在审
  • 王思佳;王凡成;王宇涵;陈萌;刘晓新 - 宝洁公司
  • 2020-10-30 - 2023-06-23 - A61F13/551
  • 本公开涉及包括多个的非织造基底,该多个形成图案并限定多个离散的非区。该多个离散的非区中的每个非区具有由连续的线形成的周边,其中相邻以不超过3mm的边缘到边缘距离间隔开,而该多个离散的非区中的每个非区在该周边内基本上没有。具体地,此类多个离散的非区在非织造基底上的面积比在60%至90%的范围内,并且所述多个离散的非区中的至少一些非区具有100mm2或更大的面积。
  • 图案开孔非织造
  • [外观设计]图案的金属光栅盘-CN03310899.4无效
  • -
  • 2003-01-24 - 2003-09-17 - 10-07
  • 1.本外观设计的设计要点在于:将金属光栅内1做成不连续的花边图案2;2.后视图无图案,为一平面,故省略;本外观设计为一极薄的片状产品,故省略左视图、右视图、仰视图和俯视图。
  • 内孔带图案金属光栅
  • [发明专利]用于图案化的掩模图案和制造半导体器件的方法-CN201210482777.7有效
  • 宣俊劦;李圣权;李相晤 - 爱思开海力士有限公司
  • 2012-11-23 - 2017-07-07 - H01L21/033
  • 本发明公开了一种制造半导体器件的方法,所述方法包括以下步骤在包括第一区和第二区的衬底之上形成刻蚀目标层;在刻蚀目标层之上形成硬掩模层;在硬掩模层之上形成第一刻蚀掩模,其中,所述第一刻蚀掩模包括多个线图案和形成在所述多个线图案之上的牺牲间隔件层;在第一刻蚀掩模之上形成第二刻蚀掩模,其中,所述第二刻蚀掩模包括网型图案和覆盖第二区的阻挡图案;去除牺牲间隔件层;通过利用第二刻蚀掩模和第一刻蚀掩模刻蚀硬掩模层,来形成具有多个的硬掩模层图案;以及通过利用硬掩模层图案刻蚀所述刻蚀目标层,在第一区中形成多个图案
  • 用于图案制造半导体器件方法

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