专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种碳化衬底的制备方法及碳化衬底-CN202210502400.7在审
  • 欧欣;伊艾伦 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2022-05-09 - 2022-08-05 - H01L21/60
  • 本申请提供一种碳化衬底的制备方法,包括:获取第一碳化圆和第二碳化圆;对所述第一碳化圆和所述第二碳化圆分别进行离子注入,得到第一离子注入后的第一碳化圆和离子注入后的第二碳化圆;对所述第一离子注入后的第一碳化圆进行离子注入,得到第二离子注入后的第一碳化圆;将所述第二离子注入后的第一碳化圆和所述离子注入后的第二碳化圆进行键合,得到键合圆;对所述键合圆进行退火处理,得到第三碳化圆。该种制备方法,可以解决现有技术中碳化衬底产能不足、单片衬底成本高及通过离子束技术制备的碳化衬底存在界面性能损耗的问题,从而实现高质量、低成本的碳化衬底制备。
  • 一种碳化硅衬底制备方法
  • [发明专利]一种半导体器件的制造方法-CN202110388636.8在审
  • 罗军;袁述;许静;张丹 - 中国科学院微电子研究所
  • 2021-04-12 - 2021-07-16 - H01L21/02
  • 本申请实施例提供了一种半导体器件的制造方法,方法包括:提供衬底,所述衬底上形成有碳化层;采用离子注入对所述碳化层进行轰击,以使所述碳化层的表层非化,形成碳化的非层;进行氧化工艺,以将所述碳化的非层氧化为氧化硅层通过采用离子注入对碳化层进行轰击,使碳化层的表层非化,形成碳化的非层,之后对碳化的非层进行氧化工艺,生成氧化硅层。相较于致密的碳化层,碳化的非层在进行氧化工艺时具有更快的氧化速度,并且碳化的非层在进行氧化工艺时,通过固相外延再次生长,能够改善SiC和氧化硅的界面质量。
  • 一种半导体器件制造方法
  • [发明专利]一种碳化圆的正面加工方法-CN202210971865.7在审
  • 严立巍;刘文杰;马晴;林春慧 - 中晟鲲鹏光电半导体有限公司;浙江同芯祺科技有限公司
  • 2022-08-12 - 2023-04-04 - H01L21/683
  • 本发明涉及碳化圆加工技术领域,具体的是一种碳化圆的正面加工方法,本发明包括以下步骤:S11、取一个带有气孔的耐高温载板,将一个完成前段制程的碳化圆背面贴附到耐高温载板上,再从耐高温载板底部采用抽气设备进行抽气,将碳化圆吸附到耐高温载板上;S12、对步骤S11中得到的碳化圆,首先在碳化圆正面进行碳沉积,使得碳沉积层碳化圆外侧为碳化圆提供保护,方便对碳化圆的正面进行加工,不但无需直接对碳化圆进行蚀刻,而且通过带有气孔的耐高温载板对碳化圆进行吸附承载,无需对碳化圆和耐高温载板进行永久键合,使得对碳化圆正面的加工工艺的难度更低。
  • 一种碳化硅正面加工方法
  • [发明专利]一种碳化圆切片工艺-CN202211039735.6在审
  • 严立巍 - 中晟鲲鹏光电半导体有限公司;浙江同芯祺科技有限公司
  • 2022-08-29 - 2023-04-14 - B23K26/38
  • 本发明涉及碳化圆切片技术领域,具体的是一种碳化圆切片工艺,本发明包括以下步骤:S1、取一个厚度为4‑6cm的碳化锭,在碳化锭的中心位置采用隐形激光切割,形成两个厚度为2‑3cm的碳化柱,然后对两个碳化柱进行分离,得到两个厚度一致碳化柱,通过对碳化锭采用激光隐形切割进行对半切割,可以得到256片厚度一致碳化薄片,不但可以使得碳化锭切割成碳化柱时不产生损耗,只产生最终对碳化薄片进行打磨时的损耗,能够降低切片产生的损耗,得到更多的碳化薄片,而且所有切割剥离得到的碳化薄片可以统一进行研磨抛光,有效的简化了加工工艺,提高了生产效率。
  • 一种碳化硅切片工艺
  • [发明专利]二元纳米协同强化增韧碳化陶瓷及其制备方法-CN200910099233.0无效
  • 郭兴忠;杨辉;张玲洁;傅晓健 - 浙江大学
  • 2009-06-01 - 2009-10-21 - C04B35/622
  • 本发明公开了一种二元纳米协同强化增韧碳化陶瓷的制备方法,以碳化粉体、钇铝石榴石、纳米颗粒和纳米组成主原料,包括以下步骤:1)将上述主原料、粘结剂和分散剂加入到去离子水中,球磨混合后,配制成水基碳化料浆;2)采用喷雾造粒工艺对水基碳化料浆进行喷雾干燥;3)对所得的碳化造粒粉采用干压预压和冷等静压终压的两步方式成型;4)将所得的碳化素坯放入真空无压烧结炉中处理,得到二元纳米协同强化增韧碳化陶瓷。本发明还同时公开了根据上述方法所制备的二元纳米协同强化增韧碳化陶瓷。该碳化陶瓷具有抗弯强度大、断裂韧性优良等特性。
  • 二元纳米协同强化碳化硅陶瓷及其制备方法
  • [发明专利]一种低损耗的碳化圆切片方法-CN202210758478.5在审
  • 严立巍;朱亦峰 - 浙江同芯祺科技有限公司
  • 2022-06-29 - 2022-11-15 - B23K26/38
  • 本发明涉及碳化圆加工技术领域,具体的是一种低损耗的碳化圆切片方法,本发明包括以下步骤:S1、取一个厚度为3.5‑6cm的碳化锭,采用激光切割,切割成厚度为825‑4000μm的碳化柱;S2、对步骤S1中得到的碳化柱,采用激光隐形切割,在碳化上形成裂纹,在碳化柱上形成厚度为80‑200μm的碳化薄片和厚度为625‑3920μm的碳化厚片,然后在碳化薄片上涂布黏着剂,切片时,每次只产生打磨的损耗,对碳化切片时产生的损耗更小,对于每1000μm的碳化柱,能够分离出6个碳化薄片,比传统的多线切割技术不但能够分离出更多的碳化薄片,而且所产生的损耗更小,有效的降低碳化圆的加工成本
  • 一种损耗碳化硅切片方法

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