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[发明专利]一种单面导电镀铜PI膜及其制备方法-CN202010363610.3在审
发明人：刘稳;王荣福 -专利权人：深圳市汉嵙新材料技术有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明属于电磁屏蔽材料技术领域，具体涉及一种单面导电镀铜PI膜及其制备方法，所述制备方法包括如下步骤：步骤1、将铬金属通过磁控溅射方法镀到PI膜上；步骤2、将铜合金靶材上的铜合金通过磁控溅射方法镀到第一PI膜的铬支撑层上；步骤3、将镍金属通过磁控溅射方法镀到所述第二PI膜的铜合金屏蔽层上，得单面导电镀铜PI膜。本发明的有益效果在于：本发明所得单面导电镀铜PI膜具有较强的抗腐蚀能力和好的力学性能。在50MHZ‑1.5GHZ条件下，屏蔽效能达80‑130dB。本发明单面导电镀铜PI膜较薄而且密度低，对电子产品整体的重量增加不明显，减少占据的空间。
一种单面导电镀铜 pi 及其制备方法

[发明专利]用于制造半导体器件的方法及半导体器件-CN201911352160.1在审
发明人：佐佐木俊成;坂田淳一郎;大原宏树;山崎舜平 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2010-06-16 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：在用于制造包含其中氧化物半导体膜被用于包括沟道形成区的半导体层的薄膜晶体管的半导体器件的方法中，热处理(该热处理用于脱水或脱氢)被进行以便提高氧化物半导体膜的纯度以及减少诸如水分之类的杂质。除了诸如存在于氧化物半导体膜内的水分之类的杂质外，热处理还促使诸如存在于栅极绝缘层内的水分以及在氧化物半导体膜与被设置于氧化物半导体膜之上及之下并且与氧化物半导体膜接触的膜之间的界面内的水分之类的杂质减少
用于制造半导体器件方法

[发明专利]一种具有三层微结构的铝合金基多彩复合氧化膜的制备方法-CN201910940818.4在审
发明人：陈东初;李志强;魏红阳;陈旻;常萌蕾;户华文 -专利权人：佛山科学技术学院
申请日： 2019-09-30 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： C25D11/12 文献下载
摘要：本发公开了一种具有三层膜层结构的多彩结构色氧化膜的制备方法，基于氧化膜的微观结构而获得结构色，通过调控氧化膜微观结构可获得多种不同的颜色，同时保持了铝合金的金属质感，其属于结构色着色的范畴，由干涉波长的变化进而引起颜色的改变；同时，封孔后获得的氧化膜具有优异的防护性能，可保持内部结构长时间的稳定，进而保证颜色的稳定性，且耐候性能优异，因此，经本发明处理过的铝合金及其制品能同时兼具多彩着色和防护性两方面同时兼顾的要求，且本发明所得氧化膜较普通电解着色氧化膜的亮度更高
氧化膜结构色微观结构铝合金着色电源输出波形发明制备工艺电解着色防护性能金属质感耐候性能三层膜层专用电源防护性波长调控封孔制备干涉应用保证

[发明专利]半导体装置以及其制造方法-CN201910292912.3在审
发明人：川端康平;畠中雅宏 -专利权人：艾普凌科有限公司
申请日： 2019-04-12 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： H01L23/552 文献下载
摘要：半导体装置具备：栅极绝缘膜，被设置在半导体基板上；栅极电极，被设置在栅极绝缘膜上；源极・漏极区域，以与栅极电极相邻的方式被设置于半导体基板；元件分离区域，被设置为包围栅极电极和源极・漏极区域；保护环，以包围元件分离区域的方式被设置于半导体基板；层间绝缘膜，被设置为覆盖栅极电极、源极・漏极区域、元件分离区域和保护环；线状的接触槽，以包围元件分离区域并且露出保护环的表面的方式被设置于层间绝缘膜；能够遮蔽X射线的阻挡金属膜，被设置为覆盖接触槽的内侧面和底面；以及金属膜，经由阻挡金属膜与保护环电连接。
栅极电极半导体基板半导体装置漏极区域源极元件分离区域层间绝缘膜栅极绝缘膜阻挡金属膜包围元件分离区域接触槽电连接金属膜底面线状遮蔽覆盖制造包围侧面

[发明专利]光刻掩膜版和光刻掩膜版的检测方法-CN201911345460.7在审
发明人：王燚;路天;刘兴华;胡超 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2019-12-23 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本申请提供了一种光刻掩膜版和光刻掩膜版的检测方法，涉及电子技术领域。该光刻掩膜版包括：图形层，包括M个图形区和N个设置在所述图形区外围的非图形区，其中所述M≥1，所述N≥1；其中，所述N个非图形区中的至少一个包括用于监测所述光刻掩膜版的光线透过率的透光部。在本申请的实施例中，通过在光刻掩膜版的N个非图形区中的至少一个设置透光部，从而使得该光刻掩膜版被用于对待光刻基板进行曝光时，该待光刻基板的感光层上可以形成该透光部对应的标记显影区，进而实现了通过该标记显影区来衡量该光刻掩膜版的光线透过率
光刻掩膜版检测方法

[发明专利]一种二维层状复合膜及其制备方法与应用-CN202110553664.0在审
发明人：龙庆武;刘兆清;陈杰鑫;王依钒 -专利权人：广州大学
申请日： 2021-05-20 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： B01D69/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种二维层状复合膜及其制备方法与应用，所述二维层状复合膜包括基膜；二维纳米片，所述二维纳米片垂直设置于所述基膜表面，形成纳米片层；纳米球，所述纳米球分散在所述纳米片层之间。本发明制备的二维层状复合膜，通过正负静电组装达到改善膜层状通道的稳定性，进而保证稳定的纳滤分离性能；利用不同尺寸大小的纳米球可以有效调控层状通道尺寸大小，使得膜孔正好可以截留离子和分子，从而有效解决水通量大时分子离子截留效果差的问题，而且还能降低分离过程中能源消耗；同时引入亲水纳米球以达到增强抗污垢、抗菌能力，从而有效降低膜污染和膜降解。
一种二维层状复合及其制备方法应用

[发明专利]一种有机硅/石墨烯热界面材料的制备方法-CN202110346875.7在审
发明人：叶振强;曾小亮;李俊伟;张晨旭;张月星;许建斌;孙蓉 -专利权人：中国科学院深圳先进技术研究院
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： B32B37/12 文献下载
摘要：本发明属于热界面材料技术领域，公开了一种有机硅/石墨烯热界面材料的制备方法，所述方法包括以下步骤：(1)、将石墨膜或石墨烯膜表面一侧涂覆一层粘结剂；(2)、将硅胶垫与涂覆有粘结剂石墨膜或石墨烯膜的一侧进行贴合；(3)、将步骤(2)得到硅胶垫样品的一侧的表面涂覆一层粘结剂；(4)、再将新的石墨膜或石墨烯膜与步骤(3)得到样品进行贴合；(5)在步骤(4)获得样品的基础上，重复步骤(1)～(3)，获得堆叠结构的有机硅本发明将石墨膜应用到有机硅体系的热界面材料中，该方法制备的热界面材料，具有高导热、机械性能良好、兼容性好的优点。
一种有机硅石墨界面材料制备方法

[发明专利]一种医用灭菌包装袋及其使用方法-CN202110432055.X在审
发明人：彭震 -专利权人：苏州思脉新材料科技有限公司
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B65D30/08 文献下载
摘要：本发明公开了医用灭菌包装袋及其使用方法，包括三面封口、一面开口的袋体，所述袋体由多层多孔膜通过多层共挤或层层热压的方式相互贴合后、同步进行造孔处理得到，每层所述多孔膜均包括具有孔径为50～2000nm、孔隙率45～60％的微孔，所述多孔膜中包括至少一层在设定温度和/或设定压力下可熔融闭孔的低温膜、以及至少一层在所述设定温度和/或设定压力下不熔融闭孔的高温膜。本发明的有益效果是：通过本发明的医用灭菌包装袋及其使用方法，在EO灭菌后，通过加热使得低温膜熔融闭孔，从而封闭多孔膜的孔隙，杜绝细菌、微生物、孢子或有害微粒的进入，更加安全可靠。
一种医用灭菌装袋及其使用方法

[发明专利]柔性电子装置的制作方法及柔性电子装置-CN201980073114.X在审
发明人：雷晓华 -专利权人：深圳市柔宇科技股份有限公司
申请日： 2019-03-29 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本申请提供一种柔性电子装置的制作方法及柔性电子装置，所述柔性电子装置制作包括步骤：提供第一拉伸基膜；将所述第一拉伸基膜硬化处理形成可拉伸或弯曲的第一柔性膜，所述第一柔性膜具有第一弹性部和第二弹性部，所述第一弹性部的硬度或拉伸率不同于所述第二弹性部的硬度或拉伸率；在所述第一柔性膜上形成电子器件层。通过将第一拉伸基膜硬化处理形成可拉伸或弯曲的第一柔性膜，第一柔性膜具有第一弹性部和第二弹性膜，在第一柔性膜上形成电子器件层，从而使得柔性电子装置至少具有两个不同拉伸率或硬度的弹性部，以满足柔性电子装置在受力形变时
柔性电子装置制作方法

[发明专利]一种带有气膜孔的燃烧室喷枪-CN202110571461.4在审
发明人：崔佳欢;严辉;王稳;刘帮伟 -专利权人：浙江大学
申请日： 2021-05-25 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： F23D14/58 文献下载
摘要：本发明公开了一种带有气膜孔的燃烧室喷枪，包括：喷枪本体，所述喷枪本体包括喷嘴；外壳，所述外壳套装在所述喷嘴外，且两者之间隔有气隙，所述外壳上开有若干气膜孔；当所述气隙内通入保护气体后，其中一部分在出流过程中会从所述气膜孔中流出形成一层保护膜在喷管与外壳之间通入保护气体使其吸收外界的热量从而保护喷管不受高温破坏，在外壳中设置了气膜孔后保护气体会从气膜孔中流出形成一层保护膜，这一方面会提高保护气体和外界的热交换效率以使其保护能力提高，另一方面会降低外界固体颗粒和外壳表面的碰撞压力使其耐久性提高
一种有气燃烧室喷枪

[发明专利]偏振膜的制造方法-CN202010919888.4在审
发明人：大学纪二 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种偏振膜的制造方法，该方法包括：第一涂敷工序，在透明保护膜的贴合面涂敷粘接剂组合物；第二涂敷工序，在起偏镜的贴合面涂敷易粘接组合物；贴合工序，将起偏镜及透明保护膜贴合；以及粘接工序，从起偏镜面侧或透明保护膜面侧照射活性能量射线，使粘接剂组合物及易粘接组合物固化而得到粘接剂层，从而隔着上述粘接剂层使起偏镜及透明保护膜粘接，其中，透明保护膜的SP值与粘接剂组合物的SP值之间的SP值距离为5.3以上，并且基于粘接剂组合物的SP值和易粘接组合物的SP值各自的体积比计算出的平均SP值与透明保护膜的SP值的SP值距离为5.8以下。
偏振制造方法

[发明专利]防暗流CIS浅沟槽隔离结构及其制作方法-CN202011295974.9在审
发明人：邱元元;黄鹏;郭振强 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：其中，结构包括：浅沟槽结构，所述浅沟槽结构由半导体衬底层的上表面向下延伸，将CIS器件相邻两个像素单元隔离开；氧化膜，所述氧化膜覆盖在所述浅沟槽结构的内壁上；负电荷吸附膜，所述负电荷吸附膜覆盖在所述氧化膜上，用于吸附阻挡像素单元中漂移的负电荷；隔离介质层；在所述浅沟槽结构中，覆盖在所述氧化膜上的负电荷吸附膜包围形成容置空间，所述隔离介质层填充在所述容置空间中。
暗流 cis 沟槽隔离结构及其制作方法

[发明专利]一种无损手段研究界面膜生长的装置及方法-CN202011446796.5在审
发明人：刘侠和;王来滨;李凤华;王梅;田昂 -专利权人：东北大学
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：其装置包括密封改性系统、电化学监控系统、体式镜框架及观察记录系统；密封改性系统为金属表面钝化或腐蚀过程提供精确电极位置、液膜深度、温度、改性起始时间等参数的实验场所；电化学监控系统检测在线改性过程电位与时间变化规律本发明与现有改性膜离线表面分析技术相比，能够对生长的膜层表面液膜条件控制及处理时间灵活调整同时，能观察关键电化学性质变化。该方法具有操作简单、方便快捷、薄液膜参数精确控制、不破坏转化膜膜层结构，理论规律研究可靠等优点。
一种无损手段研究界面生长装置方法

[发明专利]一种门窗框内侧防水隔汽膜施工方法-CN202011094823.7在审
发明人：曹金丹;陈凯文;顾锦博 -专利权人：江苏同创谷新材料研究院有限公司;江苏浩创新材料有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： E06B1/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种门窗框内侧防水隔汽膜施工方法，包括如下步骤：S1：防水隔汽膜与门窗框侧边粘贴；S2：防水隔汽膜与室内一侧的门窗洞口粘贴，外墙门窗洞口部位的气密层是由门窗框内侧的防水隔汽膜与门窗洞口周边墙面面层粘贴形成该门窗框内侧防水隔汽膜施工方法在室内一侧的门窗洞口周边的面层上粘贴一道防水隔汽膜，形成一道封闭的气密层，阻断室内外空气在气压差作用下产生的相互渗透，减少热交换次数，提高建筑的节能效果；利用防水隔汽膜隔断室外一侧的水汽向室内渗透
一种门窗内侧防水隔汽膜施工方法

[发明专利]一种荔枝缓释保鲜技术-CN202011092009.1在审
发明人：陈于陇;陈飞平;王玲;罗政;叶明强;戚英伟;陈敏惠;李佳鸿 -专利权人：广东省农业科学院蚕业与农产品加工研究所
申请日： 2020-10-13 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： A23B7/154 文献下载
摘要：该荔枝缓释保鲜技术，包括以下步骤：S1.首先准备好用于装载荔枝的包装箱，然后在包装箱内壁上铺设一层防缓释膜;S2.接下来在防缓释膜内侧铺设双层密封膜;S3.在双层密封膜之间中倒入3‑6ml柠檬醛;S4.将包装箱内部的双层密封膜上设置一层缓冲气泡垫，然后将荔枝放置到缓冲气泡垫上，使用气泡垫将荔枝包裹起来，最后将包装箱密封封顶。本发明通过精油缓慢透过塑料的特性，将精油装在双层密封膜之间，在运输的过程中，精油透过内层的密封膜散发在包装箱内端，利用挥发出来的精油对荔枝进行保鲜抑菌。
一种荔枝保鲜技术