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[发明专利]多级磁场电弧离子镀和射频磁控溅射复合沉积方法-CN201510450576.2在审
发明人：魏永强;宗晓亚;蒋志强;吴忠振;刘源 -专利权人：魏永强
申请日： 2015-07-28 - 公布日： 2015-10-14 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：多级磁场电弧离子镀和射频磁控溅射复合沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决低熔点的纯金属或多元合金材料和非金属材料（比如石墨）在传统电弧离子镀中的大颗粒问题和半导体材料及绝缘材料不能使用的限制本发明方法包括：一、将待镀膜的工件置于真空室内的样品台上，接通相关电源；二、薄膜沉积：待真空室内的真空度小于10^-4Pa时，通入工作气体并调整气压，开启镀膜电源，通过偏压电源对复合等离子体的能量进行调节，利用多级磁场直管磁过滤装置来消除大颗粒缺陷和保证电弧等离子体的传输效率，设置所需工艺参数，进行薄膜沉积。
多级磁场电弧离子镀射频磁控溅射复合沉积方法

[发明专利]离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺-CN02110190.6无效
发明人：潘俊德;徐重;唐宾;田林海;张高会 -专利权人：太原理工大学
申请日： 2002-03-20 - 公布日： 2003-01-15 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：本发明离子束增强弧辉渗镀涂层装置及工艺属于金属材料表面改性的范畴，其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中，加入一个中低能束离子源，利用真空电弧原理从金属阴极电弧源发射出的金属离子流，快速沉积于利用辉光加热的工件表面，然后由中低能离子束注入碳或氮，使其沉积层与工件基体形成扩散层和镀层，把多弧离子镀沉积速度快和离子束注入反冲形成伪扩散层有机结合起来，在较低温度的工件表面快速形成金属碳、氮化合物硬层涂层。
离子束增强弧辉渗镀涂层装置工艺

[发明专利]电弧型离子镀装置-CN00126015.4无效
发明人：冈崎尚登;大谷聪 -专利权人：日新电机株式会社
申请日： 2000-08-18 - 公布日： 2001-02-28 - 主分类号： B23K10/02 文献下载
摘要：一种电弧型离子镀装置具有用于夹持基底的夹持器。该夹持器安装在真空室中。传输弯管的一端连接于该真空室上以面对夹持器上的基底。该传输管具有方形或者椭圆形截面。多个电弧蒸发源沿纵向Y布置在传输管的另一端。各个电弧蒸发源通过真空电弧放电熔化阴极,从而产生含阴极材料的等离子体。用于形成沿传输管弯曲的磁场的磁性线圈布置在传输管的外周。由电弧蒸发源产生的等离子体通过磁场引导至真空室内的基底附近。
电弧离子镀装置

[发明专利]低温电弧离子镀涂层-CN201280070072.2有效
发明人： S.克拉斯尼策尔;D.库拉波夫;M.莱希塔勒 -专利权人：欧瑞康表面解决方案股份公司;普费菲孔
申请日： 2012-12-14 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：用于在真空室中电弧涂覆或电弧离子镀涂覆基材的涂覆方法，其中使用电弧蒸发器蒸发充当阴极的固体材料，在电弧蒸发过程中，使用磁场加速阴极辉点在固体材料表面上的移动来避免从固体材料表面逐出大量的大颗粒或液滴，由电弧蒸发产生的带负电荷的颗粒从阴极流向阳极
低温电弧离子镀涂层

[发明专利]一种镁合金表面改性沉积非晶碳薄膜的方法-CN201010147944.3无效
发明人：邹友生;吴远方 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2010-04-16 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种镁合金表面改性沉积非晶碳薄膜的方法，该方法采用电弧离子镀技术，以石墨为阴极靶材，利用电弧离子镀在镁合金上低温制备硬度高、摩擦系数小、与基片结合强度高、耐磨耐腐蚀的非晶碳薄膜。
一种镁合金表面改性沉积非晶碳薄膜方法

[发明专利]多级磁场直管磁过滤与脉冲偏压复合的电弧离子镀方法-CN201310226754.4有效
发明人：魏永强;宗晓亚;蒋志强;文振华;陈良骥 -专利权人：魏永强
申请日： 2013-06-08 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：多级磁场直管磁过滤与脉冲偏压复合的电弧离子镀方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决弧源上施加磁过滤引起等离子体传输效率低和脉冲偏压不能彻底清除大颗粒的问题。本发明方法包括：一、将工件接脉冲偏压电源，电弧离子镀靶源接靶电源，在靶源前接多级磁场直管磁过滤装置；二、薄膜沉积：待真空室内气压小于10-2Pa时，通入工作气体至0.01～10Pa；开启脉冲偏压电源，调节脉冲偏压幅值、频率和占空比；开启靶电源，产生等离子体；开启多级磁场直管磁过滤装置，实现大颗粒的清除和等离子体在磁过滤装置中的高效传输；调节工艺参数，快速制备无大颗粒缺陷的薄膜；三、采用单级磁场结合直流/脉冲偏压，获得一定厚度的薄膜
多级磁场直管磁过滤脉冲偏压复合电弧离子镀方法

[发明专利]一种钛合金耐磨抗氧化复合涂层及其制备方法-CN202111511806.3在审
发明人：郭巧琴;杨忠;夏峰;郭永春;李建平;杨伟;马志军;段洪波 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：所述制备方法包括以下步骤：S1、将预处理后的钛合金基体置于真空炉中，在真空条件下，获得表面含有碳氮共渗层的钛合金基体；S2、将获得的含有碳氮共渗层的钛合金基体经离子清洗后，在氩气和氮气的混合气体条件下，采用电弧离子镀Cr靶，在其表面首先沉积过渡层；S3、在获得的过渡层表面施镀工作层，即在钛合金基体表面获得耐磨抗氧化复合涂层。本发明采用等离子碳氮共渗/电弧离子镀复合技术制备抗冲击、耐磨涂层，使钛合金表面具有良好的抗冲击、耐磨及减摩性能，提升钛合金在装甲上的服役寿命。
一种钛合金耐磨氧化复合涂层及其制备方法

[发明专利]脉冲偏压电弧离子镀钛/氮化钛纳米多层超硬薄膜的方法-CN200410155489.6无效
发明人：林国强;赵彦辉;肖微;夏元化;董闯;闻立时 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2004-11-30 - 公布日： 2005-10-12 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：脉冲偏压电弧离子镀钛/氮化钛纳米多层超硬薄膜的方法属于金属材料表面改性技术领域。该方法在电弧离子镀过程中，通过施加脉冲偏压来提高薄膜沉积质量；通过氩和氮的反复交替送气获得钛/氮化钛的多层薄膜结构，并且通过控制交替送气的时间间隔来控制单元层纳米厚度；从而沉积合成虽原材料简单、成本低，
脉冲偏压电弧离子镀氮化纳米多层薄膜方法

[实用新型]一种可拆卸式阳极装置-CN201822033756.2有效
发明人：郎文昌;刘俊红;杜昊 -专利权人：苏州艾钛科纳米科技有限公司
申请日： 2018-12-05 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种可拆卸式阳极装置，涉及电弧离子镀技术领域。若干个锥形阳极和阳极板主体；所述阳极板主体为平板状形状，所述阳极板主体的周侧设置有翻边；所述锥形阳极为固定连接在所述阳极板主体上的具有锥面的空心圆柱，所述锥形阳极的一端与所述阳极板主体连接，所述锥形阳极的另一端与电弧离子镀设备的腔室内的阳极筒紧固连接
阳极板阳极可拆卸式阳极装置本实用新型电弧离子镀技术电弧离子镀设备平板状形状弧光放电紧固连接空心圆柱维护保养主体连接阳极筒拆卸翻边室内

[发明专利]一种多弧源阴极电弧离子镀装置及方法-CN202310697420.9在审
发明人：王娜;孙彦波;张晓;阴中炜;陈道勇 -专利权人：航天材料及工艺研究所
申请日： 2023-06-13 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧源阴极电弧离子镀装置，包括电磁屏蔽装置、金属离子阻断回收装置、分区隔离机构和机械手；电磁屏蔽装置包括第一金属板；金属离子阻断回收装置包括第二金属板；分区隔离机构包括隔板，隔板将真空腔室分隔为待工作区和工作区；机械手安装于真空腔室上方；导磁管下端外侧绕设通电线圈，导磁管上端伸入真空腔室的工作区并连接于靶材内部，导磁管上述两部分之间分别利用第一、二金属板隔离；炼靶时，待镀产品存放于待工作区，炼靶结束后，机械手将待镀产品转移至工作区中的靶材上方本发明还公开了一种基于上述装置实现的多弧源阴极电弧离子镀方法。本发明提高了沉积效率和沉积稳定性，实现了多台产品同时沉积的技术效果。
一种多弧源阴极电弧离子镀装置方法

[实用新型]多弧离子镀膜机-CN202120636477.4有效
发明人：王君;王思航;闫超颖;汪友林;李昌华 -专利权人：沈阳爱科斯科技有限公司;江苏爱科斯真空科技有限公司;辽宁卓越真空设备有限公司;王君
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种多弧离子镀膜机。一种多弧离子镀膜机，包括镀膜室以及电弧蒸发源；镀膜室包括侧壁段，侧壁段包括顺次连接而成的多个侧壁，在侧壁段中，相邻侧壁中的其中一个侧壁上至少设置有一个电弧蒸发源，另一个侧壁上至少间隔设置有两个电弧蒸发源，且相邻侧壁上的所述电弧蒸发源在侧壁的高度方向上交错设置。镀膜室上的相邻两个侧壁上的电弧蒸发源在镀膜时，其镀膜面积会重叠，从而形成有有效的镀膜面积，此有效的镀膜面积能够尽可能的保证待镀件的镀膜效果。
离子镀膜

[实用新型]一种离子渗氮及电弧离子镀膜的表面复合改性设备-CN201520060236.4有效
发明人：石昌仑;卢国英;林国强;韩治昀;魏科科 -专利权人：大连理工常州研究院有限公司
申请日： 2015-01-27 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种离子渗氮及电弧离子镀膜的表面复合改性设备，属于材料表面改性技术领域，该设备中，真空腔室底部活动安装有旋转平台，旋转平台下端与偏压电源负极相连，偏压电源正极与真空腔室相连；真空腔室壁上安装有热丝装置和等离子体蒸发源，热丝装置的负极与直流电源负极相连，直流电源正极与真空腔室相连；使用该设备在真空度条件下将工件加热升温，启动热丝装置，通入N₂及H₂，引发等离子体渗氮，获得渗氮层，通过电弧离子镀制备硬质薄膜层。该发明的设备通过热丝装置增加放电空间的电子数目及电子与气体分子的碰撞几率，在同一设备同一气压条件下连续进行离子渗氮及电弧离子镀膜的工艺，该方法能够获得平稳的硬度过渡区，提高层间结合力。
一种离子电弧镀膜表面复合改性设备

[发明专利]MAX相涂层的制备方法-CN201810029528.X在审
发明人：王振玉;李文涛;柯培玲;张栋;汪爱英 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2018-01-12 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及MAX相涂层的制备方法，包括以下步骤：提供一基底，采用阴极电弧离子镀方法结合磁控溅射方法在基底的表面沉积M‑A‑X涂层，其中，阴极电弧靶提供M源，M源中M为过渡族金属元素，磁控溅射靶提供A源，本发明采用阴极电弧离子镀方法结合磁控溅射方法交替形成富M元素涂层和富A元素涂层，其中富M元素涂层中M原子呈密排六方结构，C原子或N原子固溶于密排六方结构中，与MAX相涂层具有相似的晶体结构，因此，在退火时
基底元素涂层阴极电弧离子镀密排六方结构磁控溅射制备过渡族金属元素退火磁控溅射靶阴极电弧靶表面沉积反应气体交替形成晶体结构退火处理固溶减小沉积损伤

[发明专利]一种切削钛合金用含硼高熵合金刀具涂层及其制备工艺-CN202310526013.1在审
发明人：刘成斌;汪亮明 -专利权人：东莞市普拉提纳米科技有限公司
申请日： 2023-05-11 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明采用电弧离子镀结合磁控溅射的方式，保持涂层制备过程中BCrSi复合靶电弧电源的电流固定，TiAl合金靶电源的电流逐渐降低，对刀具基体同时进行BCrSi复合靶电弧离子镀和TiAl合金靶磁控溅射，得到梯度涂层
一种切削钛合金用含硼高熵合金刀具涂层及其制备工艺

[发明专利]离子注入复合镀膜设备-CN03129551.7有效
发明人：蔡珣;童洪辉;陈庆川;蒲世豪;赵军;陈秋龙;刘佑铭 -专利权人：上海交通大学;核工业西南物理研究院
申请日： 2003-06-26 - 公布日： 2004-02-04 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：一种离子注入复合镀膜设备属于镀膜技术领域。本发明的气体离子源、金属离子源、直流磁控溅射靶源、中频脉冲磁控溅射靶源和两套直流磁过滤电弧离子镀源、六个源头共用一个真空室，并固定在复合镀膜机的外壳上，气体离子源垂直位于真空室上部的正中，金属离子源位于气体离子源的一侧，斜插于真空室上部，直流磁控溅射靶源和中频磁控溅射靶源、两个直流磁过滤电弧离子镀源则分布在二条对角线上，并位于真空室两侧偏上部位，六个源头的中心线汇聚在多用样品台工件上，真空抽气系统与真空室连接。
离子注入复合镀膜设备