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[发明专利]钢表面沉积铜方法-CN93107896.2无效
发明人：胡建东;吴慧;丁向东;王红颖;王玉芳;郭作兴 -专利权人：胡建东
申请日： 1993-07-03 - 公布日： 1995-01-11 - 主分类号： C23C20/04 文献下载
摘要：本发明涉及在基体钢表面沉积铜的方法。其特点是先把铜基涂料均匀涂覆在清洗过的基体钢表面，以形成一定厚度的涂料层，然后采用激光束辐射涂料层获得，致密、均匀并与基体有良好冶金结合状态的金属沉积膜，工艺过程简单，节能、高效及无环境污染。
表面沉积方法

[发明专利]碳纤维表面沉积贵金属电泳沉积装置-CN201710314497.8有效
发明人：姜波;徐志明;黄玉东;刘丽;陈一凡;杨剑;张亮;赵立伟;张彤;张奎元;蔡青福;李莹 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2017-05-06 - 公布日： 2018-11-27 - 主分类号： C25D13/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种碳纤维沉积贵金属电泳沉积装置，所述沉积装置包括内电泳槽、外电泳槽、支撑装置、电泳仪、金属管、金属片、碳纤维、磁子、磁力搅拌器，其中：内电泳槽的上部设有相对设置的小孔，底部中心处设置有通孔
电泳槽金属管支撑装置碳纤维贵金属电泳沉积椭圆形孔金属片穿过磁子小孔圆孔沉积正极磁力搅拌器底部中心处碳纤维表面电泳负极沉积装置电泳装置相对设置种碳纤维电泳仪横卧式通孔下套紧凑支撑

[发明专利]沉积室表面增强和最后得到的沉积室-CN200480002054.6无效
发明人： G·J·戴德里安;G·S·桑德胡;R·S·丹多;C·M·卡彭特;P·H·坎贝尔 -专利权人：微米技术股份有限公司
申请日： 2004-01-08 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：揭示了在基片上沉积薄膜用的装置内的暴露面进行钝化的方法。沉积室和与之相通管道的内表面经钝化处理而阻止了在沉积工艺中反应物和反应产物在所述内表面上的吸附或化学吸附。为此目的而进行的表面钝化处理包括表面处理、衬里、温度调节或它们的组合。还揭示了一种测量温度或温度范围的方法，该温度范围使得表面上反应物和反应产物积聚的量最小。也揭示了在沉积室和气体流通管道内表面钝化的沉积装置。
沉积表面增强最后得到

[发明专利]形成膜层的方法-CN97117185.8无效
发明人：本田和义;小田桐优;高桥喜代司;越后纪康;砂流伸树 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 1997-05-21 - 公布日： 2004-09-15 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：一种形成膜层的方法，包括下列步骤：蒸发液态的沉积材料；该蒸发后的沉积材料加到一可旋转的加热表面上从而使该蒸发后的沉积材料沉积到该加热表面上；加热和蒸发位于，旋转的加热表面上的该已沉积的沉积材料，同时将该已沉积的沉积材料移动；以及将在旋转的加热表面上被蒸发的沉积材料沉积在沉积表面上，将该沉积材料加到加热表面上的使在蒸发步骤中蒸发的沉积材料不能线性地到达沉积表面的位置处。
形成方法

[发明专利]沉积设备-CN201410150441.X在审
发明人：程相慜;黄正宇 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-04-15 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种沉积设备，该沉积设备包括：沉积室；沉积源，在沉积室中；膜固定部，被构造为固定膜，膜设置有沉积材料沉积到的沉积表面；以及保护板，在沉积室中，以防止沉积材料沉积到沉积室中的侧壁和上壁，从而控制沉积材料仅沉积到有效膜形成区域尺寸与沉积表面的有效膜形成区域对应的第一开口以及形成在有效膜形成区域的外部区域中的至少一个第二开口形成在保护板上，并且当沉积材料通过沉积源沉积到沉积表面时，通过第二开口的沉积材料在沉积表面上形成对准标记
沉积设备

[发明专利]太阳能电池低表面磷源浓度扩散方法-CN201711084940.3在审
发明人：王森栋;白翔;梁玲 -专利权人：山西潞安太阳能科技有限责任公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： H01L21/223 文献下载
摘要：太阳能电池低表面磷源浓度扩散方法，第一步沉积沉积过程，沉积过程采用恒温沉积；第二步沉积沉积过程，沉积过程采用升温沉积；第三步沉积沉积过程，沉积过程采用升温沉积。本发明采用三步沉积，并且在沉积过程中同时减少氧气增加磷源的通量，在沉积的同时进行氧化，在硅片表面形成氧化层使磷源在硅片表面充分堆积，在降低表面掺杂浓度的同时保证方阻的偏差范围满足需求。这样在推进时氧化层可有效的减少表面死层，并且在沉积过程，使磷源通量递增，改善方阻均匀性。
太阳能电池表面浓度扩散方法

[发明专利]一种半导体设备-CN201711266540.4有效
发明人：丁安邦;师帅涛;陈鹏;史小平;傅新宇;李春雷;荣延栋;何中凯 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体设备，包括：沉积腔室，用于对衬底进行沉积工艺，形成沉积层；表面处理腔室，用于对沉积层进行表面钝化或刻蚀工艺处理；远程等离子体源，共用于沉积腔室和表面处理腔室，用于向表面处理腔室通入第一等离子体，以对沉积层进行表面钝化处理或刻蚀工艺，以及用于对沉积腔室通入第二等离子体，以对沉积腔室进行清洗。本发明通过设置单独的表面处理腔室进行表面钝化工艺，可简化现有沉积工艺腔室结构，拓宽沉积工艺和表面处理工艺的工艺窗口，并通过使沉积腔室和表面表面处理腔室共用一个远程等离子体源，可提升远程等离子体源的利用率，降低表面钝化或刻蚀工艺腔室的整体成本。
一种半导体设备

[发明专利]遮罩-CN201310005827.7无效
发明人：李仲仁;赵勤孝;郦唯诚 -专利权人：旭晖应用材料股份有限公司
申请日： 2013-01-08 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明是关于一种遮罩，其包含有一具有多个镀膜区位孔的遮罩板体，该遮罩板体于其沉积材迎接侧形成粗糙化沉积材附着表面。由此，应用于蒸镀或溅镀等镀膜沉积制程中，遮罩设置于沉积材料源与基材之间，可使解离的部分沉积材原子或分子通过遮罩的镀膜区位孔而沉积于基材表面形成镀膜，被遮罩阻隔的沉积材原子或分子则能附着于粗糙化沉积材附着表面，并通过粗糙化沉积材附着表面的粗糙化表面提升沉积材料附着的结合力，使附着于粗糙化沉积材附着表面上的沉积材料不易因剥离而污染镀膜，确保基材镀膜沉积制程的良好品质。
遮罩

[发明专利]涂覆带材-CN201880024916.7在审
发明人： W·J·布顿 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2018-04-11 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： B05D1/08 文献下载
摘要：一种用于制造连续陶瓷带材的方法包括将陶瓷原料加热到熔融状态以及将原料的熔融液滴喷洒到沉积表面上的步骤。所述方法还包括：通过聚集液滴，并且该液滴固化并彼此直接结合而在沉积表面上形成陶瓷涂层。沉积表面相对于陶瓷涂层是不粘的，使得涂层可以作为连续陶瓷带材从沉积表面剥离而不断裂。另外，在实施方式中，通过使沉积表面经过弯曲边缘，化学剥落或溶解沉积表面，或燃烧沉积表面来移除沉积表面。
沉积连续陶瓷陶瓷涂层带材液滴表面相对熔融液滴熔融状态陶瓷原料弯曲边缘直接结合不粘的移除剥落固化加热喷洒断裂溶解剥离燃烧制造

[发明专利]沉积装置和用于沉积的方法-CN201780049071.2在审
发明人：赫伯特·利夫卡 -专利权人：荷兰应用科学研究会(TNO)
申请日： 2017-07-17 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：提供了一种沉积装置(1)，用于在衬底(ST)的衬底表面(ST1)上沉积物质(SB)。该沉积装置包括沉积源(20)和布置在沉积源(20)与沉积表面之间的沉积掩模(30)。沉积掩模(30)具有面向沉积源的第一掩模表面(38)和面向衬底表面(ST1)的第二掩模表面(39)。沉积掩模(30)设置有由至少一个封闭区域(34)和至少一个穿孔区域(36)限定的空间图案，该至少一个穿孔区域由多个通孔(37)限定，并且其中设置了衬底载体(10)，从而以使衬底的衬底表面(ST1)与第二掩模表面
沉积掩模沉积装置衬底表面掩模表面沉积源衬底沉积穿孔区域衬底载体封闭区域空间图案通孔承载相距

[发明专利]改善薄膜表面平坦度的方法-CN202211614670.3在审
发明人：刘雄 -专利权人：杭州富芯半导体有限公司
申请日： 2022-12-13 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本申请提供一种改善薄膜表面平坦度的方法，包括步骤：提供待进行薄膜沉积的衬底，获取所述衬底的表面平坦度数据；基于所述衬底的表面平坦度数据对基准薄膜沉积参数进行调节而得到预设沉积参数，所述预设沉积参数使得沉积出的薄膜表面平坦度数据和衬底的表面平坦度数据互补；依所述预设沉积参数进行薄膜沉积，以于衬底表面得到表面平坦度均匀的膜层。本申请通过基于薄膜沉积前的衬底形貌，针对具有不同的表面平坦度的区域分别制定薄膜沉积参数，可以沉积出与衬底形貌互补的膜层，可以有效改善薄膜的表面平坦度，且有助于改善薄膜和衬底之间的应力分布，有助于提高后续工艺良率
改善薄膜表面平坦方法

[发明专利]用于沉积金属氧化物膜的方法-CN200780102346.0无效
发明人：卡洛·塔利亚尼;彼得·诺扎尔 -专利权人：卡洛·塔利亚尼;彼得·诺扎尔
申请日： 2007-12-19 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在支撑体的表面上沉积金属氧化物膜的方法，该方法包括以下步骤：提供沉积室；在沉积室中提供电子和等离子体的脉冲束；在沉积室中提供支撑体，其中支撑体具有沉积表面；在沉积室中提供由包含金属氧化物的材料制成的靶体，其中靶体具有靶表面；通过电子和等离子体的脉冲束对靶表面进行撞击，形成从靶表面消融的金属氧化物的羽流；以及通过使羽流与沉积表面接触，在沉积表面上沉积金属氧化物膜。
用于沉积金属氧化物方法

[实用新型]一种用于制备掺硼金刚石薄膜的沉积工件-CN202321365534.5有效
发明人：薛军龙;郭俊;陈明靖 -专利权人：海南和风佳会电化学工程技术股份有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本实用新型涉及热丝化学气相沉积技术领域，具体是一种用于制备掺硼金刚石薄膜的沉积工件，其包括沉积室，沉积室的底端固定有进气管，沉积室的顶端固定有出气管，沉积室的内腔固定有上热丝组、下热丝组，沉积室的内腔中部固定有沉积工件；沉积工件I、沉积工件II和沉积工件III均包括水平基圈，水平基圈的内部固定有沿左右分布的若干根纵向栅杆；沉积工件II中纵向栅杆的上表面向上超出水平基圈的上表面、纵向栅杆的下表面与水平基圈的下表面齐平；沉积工件III中纵向栅杆的上表面与水平基圈的上表面齐平、纵向栅杆的下表面向下超出水平基圈的下表面；解决了现有HFCVD装置在沉积大面积的掺硼金刚石薄膜时存在质量差的问题。
一种用于制备金刚石薄膜沉积工件

[发明专利]电极板和电极板的制造方法-CN202210094511.9在审
发明人：大久保壮吉;上园知之;宫岛桃香;嶋崎汀;渡边正树;松山美由纪 -专利权人：泰星能源解决方案有限公司;丰田自动车株式会社
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01M4/139 文献下载
摘要：制造方法具备如下工序：沉积层形成工序，在集电箔的表面上形成沉积有活性物质粒子和粘结剂粒子的沉积层；以及，热压工序，对在集电箔的表面上具有沉积层的带有沉积层的集电箔进行加热压缩而在集电箔的表面上形成电极层沉积层具有位于集电箔侧的第1沉积层和形成沉积层的表面的第2沉积层。沉积层形成工序中，形成第2沉积层中的粘结剂粒子的含有率低于第1沉积层中的粘结剂粒子的含有率的沉积层。
极板制造方法

[发明专利]具有沉积物捕集器的过滤组件-CN201210537847.4有效
发明人： C.D.奥布里恩 -专利权人：通用汽车环球科技运作有限责任公司
申请日： 2012-12-13 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： B01D21/00 文献下载
摘要：提供了一种用于从动力系设备的流体收集沉积物的过滤组件。过滤组件包括底盘和沉积物捕集器。底盘具有底表面并且被构造成收集所述动力系设备的流体。底盘可具有侧壁，侧壁与底盘的底表面协作以限定底盘内的腔。沉积物捕集器具有相对的上表面和下表面。下表面可附接到底盘。上表面构造成在由于沉积物受到重力作用所述沉积物朝着底盘的底表面下落时接收该沉积物。沉积物捕集器被构造成捕集通过其上表面接收的沉积物。还提供了一种用于从动力系设备的流体收集沉积物的方法。
具有沉积物捕集器过滤组件

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