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[实用新型]一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置-CN201822034632.6有效
发明人：郎文昌;刘俊红;杜昊 -专利权人：苏州艾钛科纳米科技有限公司
申请日： 2018-12-05 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，涉及电弧离子镀技术领域。所述屏蔽罩主体环绕封围设置所述靶材的周边，并与所述靶材具有预定间隙，所述喇叭口与所述屏蔽罩主体连接处设有伸出以覆盖部分所述靶材的靶面的延伸部，所述延伸部与所述靶材的靶面间具有预定间隙；支架，用于将所述屏蔽罩安装至电弧离子镀设备的腔室内本实用新型提供了一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，以对放电过程中的电子进行屏蔽，有效增加电子的运动行程，提升等离子体浓度，提高电弧离子镀粒子的离化率。
屏蔽罩靶材弧光放电阴极屏蔽装置本实用新型预定间隙喇叭口延伸部支架等离子体电弧离子镀技术电弧离子镀设备电弧离子镀放电过程运动行程主体连接屏蔽靶面离化粒子环绕伸出室内覆盖

[发明专利]一种中空阴极溅射离子镀装置-CN200910272734.4无效
发明人：杨兵;丁辉 -专利权人：武汉大学
申请日： 2009-11-10 - 公布日： 2010-11-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及中空阴极磁控溅射离子镀涂层装置，包括真空室，真空室设有抽真空口，真空室内设有阴极电弧靶和工件架，所述真空室为空心圆柱形且与地绝缘，真空室内壁装上靶材，与溅射电源负极连接，形成中空阴极溅射靶；真空室中心设有柱状电弧靶，工件架位于圆柱形中空阴极电弧靶和柱状电弧靶所围成的区域。本发明由于采用上述结构，使得炉壁上中空阴极磁控靶和中心大功率旋转电弧靶工作时运行稳定。等离子体分布均匀，从而提高镀膜效率和离子镀效果，降低镀膜成本，提高涂层均匀性，使得镀膜过程更易于控制。
一种中空阴极溅射离子镀装置

[实用新型]双旋转模式的离子镀旋转装置-CN202321305258.3有效
发明人：朱恩光;杨兵;蒋佳丽;朱杨俊;卢嘉日;潘崇恩;周林 -专利权人：宁波迈柯新材料科技有限公司
申请日： 2023-05-25 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开了双旋转模式的离子镀旋转装置，包括底盘、搁置盘、多个自转盘和传动装置；传动装置设于底盘下方，自转盘设于搁置盘上方；传动装置包括受电机驱动的转轴、一个主齿轮和多个从齿轮；主齿轮设于底盘的底面中间从齿轮啮合于主齿轮外缘，且从齿轮通过从转轴与自转盘连接；转轴转动带动主齿轮转动，继而使从齿轮带动自转盘进行自转；转轴带动底盘转动，继而带动与底盘连接的搁置盘转动；从而使得本本实施例的装置，不仅可对模具的单面进行电弧离子镀，还可以单个模具的整个周身进行电弧离子镀。
旋转模式离子镀装置

[发明专利]一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材及应用-CN201310009959.7无效
发明人：孙超;常正凯;肖金泉;宫骏 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2013-01-10 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明属于薄膜制备领域，具体地说是一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材结构的设计及其应用。本发明解决了电弧离子镀难于沉积磁性材料涂层的难题，以及铁磁性靶材表面增加沟槽克服磁屏蔽时，降低了靶材使用寿命，难以在工业上应用的问题等，提出一种装置制作简单、成本低廉的复合结构靶材的设计思路，拓展了电弧离子镀的应用范围
一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层复合应用

[发明专利]一种抗热冲击热障涂层的制备方法-CN03133344.3无效
发明人：孙超;柯培玲;武颖娜;华伟刚;宫骏;闻立时;王启民;肖金泉;汪爱英;纪爱玲;郑静地;曹鸿涛 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2003-05-21 - 公布日： 2004-11-24 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：具体操作为：采用电弧离子镀法在基体上沉积30－50μm厚的NiCoCrAlY层，然后采用爆炸喷涂技术在NiCoCrAlY粘结层上喷涂200－500μm厚的陶瓷层，获得热障涂层。其特征在于：采用电弧离子镀和爆炸喷涂技术复合制备热障涂层，电弧离子镀制备的NiCoCrAlY粘结层均匀、致密，孔洞、夹杂等缺陷少，抗氧化性优，与陶瓷层结合强度高；采用爆炸喷涂技术制备的空心粉陶瓷层气孔率高
一种抗热冲击热障涂层制备方法

[实用新型]一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材-CN201320013457.7有效
发明人：孙超;常正凯;肖金泉;宫骏 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2013-01-10 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型属于薄膜制备领域，具体地说是一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材。本实用新型解决了电弧离子镀难于沉积磁性材料涂层的难题，以及铁磁性靶材表面增加沟槽克服磁屏蔽时，降低了靶材使用寿命，难以在工业上应用的问题等，提出一种装置制作简单、成本低廉的复合结构靶材的设计思路，拓展了电弧离子镀的应用范围
一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层复合

[发明专利]用电弧离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜的方法-CN00108513.1无效
发明人：林国强 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2000-04-28 - 公布日： 2003-12-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：用电弧离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜的方法属于金属材料表面改性技术领域。该方法通过调节电弧离子镀纯钛、纯铌金属阴极靶在镀膜过程中弧电流随时间函数的连续变化，来控制薄膜沉积生长到不同厚度时的成分，合成结合力好，硬度超过普通氮化钛铌薄膜峰值硬度的氮化钛铌超硬质梯度薄膜。
用电离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜方法

[发明专利]一种结构紧凑的特种多功能离子镀枪-CN201210430934.X有效
发明人：郎文昌 -专利权人：温州职业技术学院
申请日： 2012-11-02 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及表面防护涂层制备领域，具体地说是一种结构紧凑的特种多功能离子镀枪。靶材底座内部通过冷却通道隔板形成上下冷却水通道；靶材底座安装在细长型的靶材底柱上，电磁线圈围套在靶材底座后的靶材底柱周围；靶材底柱底部安装冷却水通道底座，与冷却水管相连接；电源接头端子安装在靶材底柱上；离子镀枪底盘通过绝缘套与靶材底柱安装，离子镀枪装置通过离子镀枪底盘的安装孔与真空室连接安装。本发明用以改善传统电弧离子镀弧源结构复杂、适应性差、功能单一、难以实现特殊镀膜需求、操作复杂、靶材更换难度大、位置可调性差、等离子体空缺区域大的缺点。
一种结构紧凑特种多功能离子镀

[发明专利]一种电弧离子镀沉积高质量精密涂层的设备和方法-CN201710033000.5有效
发明人：林国强 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2017-01-20 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种电弧离子镀沉积高质量精密涂层的设备和方法，属于金属材料表面改性技术领域。在增强磁过滤电弧离子镀设备基础上再同时设置并使用大面积气体离子源和热丝等离子体增强放电装置来提高设备功能；再在工件基体与表面涂层之间增加一层在腐蚀介质环境下耐腐蚀的特殊防护层，防护层材料依据配合金设计理论并进行实验验证来确定中间防护层和最表面精密涂层均应用附带有大面积气体离子源和热丝等离子体增强放电的磁过滤电弧离子镀方法来制备，既能大幅度过滤减少大颗粒的尺度和数量，又能有效地消除涂层中的疏松和针孔等缺陷，大大提高涂层结合力和表面质量
一种电弧离子镀沉积质量精密涂层设备方法

[发明专利]一种防眩光玻璃的制备方法-CN201810798610.9在审
发明人：裘友玖;张鑫;朱华 -专利权人：佛山陵朝新材料有限公司
申请日： 2018-07-19 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明采用离子渗氮技术和电弧离子镀法，在玻璃片表面形成氮化层，渗氮处理能增强薄膜的耐磨损性能和与基体玻璃片的结合强度，本发明以聚甲基丙烯酸甲酯为基材的防眩光材料具有好的抗冲击性、质量轻、成型加工容易等优点，掺有AG防眩液的防护材料具有高的抗冲击性，良好的透明性和高的防眩光性，在室外风吹雨淋等苛刻的环境条件下不容易脱落，不会在表面留下划痕、斑纹，采用电弧离子镀法，将防眩光材料做为靶材溅射成膜覆盖在玻璃片表面上，电弧离子镀法具有晶化容易、镀膜牢固、均匀致密且效率高，通过Ar+辉光放电效应进行溅射清洗，减少污染。
电弧离子镀法玻璃片表面防眩光玻璃抗冲击性眩光制备聚甲基丙烯酸甲酯耐磨损性能斑纹玻璃材料成型加工防护材料防眩光性辉光放电基体玻璃减少污染溅射成膜溅射清洗均匀致密离子渗氮渗氮处理增强薄膜氮化层防眩液靶材镀膜划痕基材晶化室外覆盖

[实用新型]一种多层膜复合钎料制备装置-CN202220754012.3有效
发明人：王星星;李阳;何鹏;李红;温国栋;贾连辉;龙伟民;于华;纠永涛;方乃文;金李梅;吴文君;顾立勇;李帅;王振 -专利权人：华北水利水电大学
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： B23K35/40 文献下载
摘要：一种多层膜复合钎料制备装置，包括机架和设置在机架上的电弧离子镀室与磁溅真空室；所述电弧离子镀室和磁溅真空室均设置有用于调节气压的真空调节组件；所述电弧离子镀室包括镀膜室本体和设置在镀膜室本体内的内圆圈架，镀膜室本体侧壁上设置有多个离子源，镀膜室本体底部设置有旋转组件，旋转组件用于带动内圆圈架转动，内圆圈架上固定有样品托，内圆圈架内沿轴向贯穿设置有加热棒；所述磁溅真空室包括磁溅真空室本体、磁控溅射枪和样品托
一种多层复合制备装置

[发明专利]离子束稳流装置及电弧离子镀设备-CN202310919927.4在审
发明人：廖斌;欧阳潇;陈琳;罗军;英敏菊;庞盼 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开一种离子束稳流装置，包括弧电源、阴极组件以及触发组件，其中，弧电源的正极接地；阴极组件包括阴极靶材和靶材座，靶材座处还设置永磁体；触发组件包括触发电极、触发针和辅助阳极板。弧电源在靶材座和触发电极施加电压，使触发针与阴极靶材接触形成短路，瞬间形成电弧，在电弧中形成等离子体，电弧斑在阴极靶材表面移动；辅助阳极板接地，当电弧斑运动至阴极靶材边缘时，由于辅助阳极板的电位较阴极靶材的电位高，电弧斑返回阴极靶材中心，从而避免电弧斑落在阴极靶材的侧面而导致灭弧。本发明还提供一种电弧离子镀设备，包含上述的离子束稳流装置，提高离子束稳定性，进而提升电弧离子镀质量。
离子束装置电弧离子镀设备

[发明专利]钢铁、钛合金低温脉冲离子氮碳共渗及阴极电弧离子镀M/MN交替镀厚膜工艺-CN201510209454.4有效
发明人：董闯;陈宝清;陈大民;谷伟;胡小刚 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2015-04-27 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：一种钢铁、钛合金低温脉冲离子氮碳共渗及阴极电弧离子镀M/MN交替镀厚膜工艺，属于材料表面技术领域。其特征是工件3经冷轧或冷拔成型进行消除应力退火；制备工件表面耐磨层的硬度呈缓和过渡分布的氮碳共渗层+M/MN交替复合厚膜层，防止镀膜脱落；改性层与离子镀M膜层之间形成1～3μm厚度的过渡层，提高镀膜附着性；离子镀M与MN交替镀膜，离子镀M镀膜能部份吸收MN镀膜内应力，镀膜不易脱落；本发明的效果和益处是解决钛合金硬度不高耐磨性不足；取代电镀硬铬，对环境旡汚染，对人体无害；应用面很广泛如模具、机床零部件、矿山机械
钢铁钛合金低温脉冲离子氮碳共渗阴极电弧离子镀 mn 交替镀厚膜工艺

[实用新型]一种电弧离子镀装置及ta-C沉积镀膜装置-CN202123451867.3有效
发明人：章柯;郎文昌;张祖航;张振华;林琪澳 -专利权人：温州职业技术学院;温州大学
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种电弧离子镀装置及ta‑C沉积镀膜装置。其包括具有一端封闭且另一端为开口的直筒方形状空腔的离子镀壳体，其内固定有两组阴极弧源组件，其相对直筒方形状空腔中心轴倾斜一定角度或平行，工作后，阴极弧源组件靶材表面产生沉积的正离子和不带电的粒子，当所镀工件接入偏压电源负极，正离子在导引磁场及辅助阳极形成的电磁驱动作用下向所镀工件方向运动，在负偏压作用下沉积在工件表面形成镀膜，而不带电的粒子沿其本身的速度方向向前移动，沉积在另一个碳靶或离子镀壳体内壁上。离子镀壳体的体积大，路程短，并且直接与真空腔体相连，沉积速率将大幅度提升。
一种电弧离子镀装置 ta 沉积镀膜

[发明专利]压铸用被覆模具的制造方法-CN201580044403.9有效
发明人：沙勒·阿布苏里克 -专利权人：日立金属株式会社
申请日： 2015-08-19 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： B22C9/06 文献下载
摘要：一种压铸用被覆模具的制造方法，其具有：通过电弧离子镀法在压铸用模具的基材的表面上被覆第1硬质覆膜的工序、对前述第1硬质覆膜的表面进行平滑化处理的工序、以及通过电弧离子镀法在经前述平滑化处理的第1硬质覆膜上被覆第
压铸被覆模具制造方法