“研磨处理”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果4005446个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基板的研磨装置、研磨方法及记录介质-CN201710142830.1有效
发明人：小畠严贵;渡边和英;安田穗积;八木裕治;高桥信行;武田晃一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明的技术问题在于提供一种能够提高处理对象物的研磨处理面上的处理精度的研磨装置和研磨方法。提供一种对处理对象物进行研磨处理的方法。该方法具有：一边使尺寸比处理对象物的尺寸小的第一研磨垫与处理对象物接触、一边使处理对象物和第一研磨垫相对运动来进行第一研磨处理的步骤；在第一研磨处理之后、一边使尺寸比处理对象物的尺寸大的第二研磨垫与处理对象物接触、一边使处理对象物和第二研磨垫相对运动来进行第二研磨处理的步骤；以及在进行第一研磨处理之前对处理对象物的研磨处理面的状态进行检测的步骤。
研磨装置方法记录介质

[发明专利]处理模块、处理装置及处理方法-CN201510579253.3在审
发明人：山口都章;水野稔夫;小畠严贵 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-09-11 - 公布日： 2016-03-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的处理模块、处理装置及处理方法提高处理对象物的研磨处理面的研磨精度。上侧处理模块(300A)通过一边使直径小于晶圆(W)的研磨垫(502)与晶圆(W)接触，一边使晶圆(W)与研磨垫(502)相对运动来进行研磨处理。上侧处理模块(300A)包括对进行研磨处理之前或者研磨处理实施过程中的晶圆(W)的研磨处理面的状态进行检测的状态检测部(910)，以及根据由状态检测部(910)检测到的研磨处理面的状态对晶圆(W)的研磨处理面的一部分的研磨处理的条件进行控制的控制部
处理模块装置方法

[发明专利]一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法-CN200910223958.6无效
发明人：杨益郎 -专利权人：正峰新能源股份有限公司
申请日： 2009-11-20 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： B82B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法，主要是利用湿式砂磨法，包括个别研磨处理、混合均质处理、初级研磨处理及进阶研磨处理，其中个别研磨处理将含有铜、铟、镓及/或硒的个别颗粒或化合物颗粒研磨成500纳米至600纳米的个别研磨物，混合均质处理将所有个别研磨物混合成混合均质物，初级研磨处理将混合均质物研磨成100纳米至200纳米的初级研磨物，进阶研磨处理将初级研磨物研磨成50纳米以下的进阶研磨物，当作用以制作铜铟镓硒太阳能电池的吸收层的铜铟镓硒纳米颗粒
一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法

[发明专利]二次处理垃圾处理器的研磨机构-CN201310339228.9有效
发明人：钱海荣 -专利权人：苏州韩博厨房电器科技有限公司
申请日： 2013-08-06 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： B02C18/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种二次处理垃圾处理器的研磨机构，包括电机驱动的二次处理垃圾处理器的研磨机构；二次处理垃圾处理器的研磨机构上设有进料口和排污口，所述二次处理垃圾处理器的研磨机构包括一级研磨机构和二级研磨机构，一级研磨机构包括研磨罩（1）、研磨座（2）和刀盘（4），所述研磨罩（1）密封固定在研磨座（2）的上端面，研磨罩（1）与研磨座（2）的内部形成研磨室；所述刀盘（4）设于研磨室内，且刀盘（4）将研磨室分为上下两部分，分别为一级研磨室和二级研磨室。通过上述方式，本发明能够对垃圾进行分级研磨，产生的残留物较小，研磨充分，而且研磨机构结构简单，不易卡死。 1
研磨机构研磨垃圾处理器二次处理研磨室研磨座刀盘电机驱动密封固定进料口排污口上端面分级卡死室内垃圾

[发明专利]研磨处理方法及研磨处理装置-CN200910147029.1无效
发明人：村上大;伊藤秀知 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2009-06-08 - 公布日： 2009-12-16 - 主分类号： B24B7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种通过去除研磨处理中产生的尘埃，且使研磨布的绒毛的方向性在联机下一致，并且实现研磨片的长寿命化从而能够提高生产率的研磨处理方法及研磨处理装置。所述研磨处理方法的特征在于，具有：使具备取向膜形成材料层的长条可挠性薄膜(12)在其长度方向上移动，同时使粘贴在研磨辊(16)的研磨布(28)以旋转状态接触取向膜形成材料层的表面而形成取向膜的取向膜形成工序；在使研磨布(28)与长条可挠性薄膜(12)接触后，使除尘部件(26)接触研磨布(28)的表面，去除附着在研磨布(28)的尘埃的研磨布除尘工序；排气去除在研磨布除尘工序中去除的尘埃的尘埃排气工序。
研磨处理方法装置

[实用新型]一种多级垃圾处理机-CN202223165009.7有效
发明人：王英东;谢怀恩;林景彬 -专利权人：勃汉威（厦门）环保科技有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： E03C1/266 文献下载
摘要：本实用新型涉及垃圾处理技术领域，具体公开了一种多级垃圾处理机，包括上下依序装配的进料组件、研磨组件、出料定盘和驱动机构，研磨组件包括研磨盘和研磨件，研磨盘和研磨件均安装在出料定盘内部，且研磨件位于研磨盘下方，且研磨件、研磨盘均与驱动机构驱动连接，驱动机构驱动研磨件、研磨盘同轴转动，进而对垃圾进行多级研磨处理。本实用新型能够通过研磨件、研磨盘同轴转动对垃圾进行多级研磨处理，提高垃圾的研磨精细度、以及研磨效率，避免处理垃圾的量较多时，垃圾堆积堵塞在出料定盘处，从而保证本实用新型的多级垃圾处理机能够长期保持可靠稳定的工作状态
一种多级垃圾处理机

[发明专利]化学研磨装置-CN201380021338.9在审
发明人：西山荣 -专利权人：株式会社NSC
申请日： 2013-05-29 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备第1研磨处理部(4)、第2研磨处理部(2)与洗涤部(70)。第1研磨处理部(4)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用第1处理液进行化学研磨处理。所述第2研磨处理部(2)构成为对沿着搬送通路被搬送的玻璃基板(100)使用与所述第1处理液不同的第2处理液进行化学研磨处理。洗涤部(70)构成为配置于搬送通路的第1研磨处理部(4)的下游侧且第2研磨处理部(2)的上游侧，洗涤附着于所述玻璃基板(100)的处理液。
化学研磨装置

[实用新型]二次处理垃圾处理器的研磨机构-CN201320477447.9有效
发明人：钱海荣 -专利权人：苏州韩博厨房电器科技有限公司
申请日： 2013-08-06 - 公布日： 2014-03-19 - 主分类号： B02C21/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种二次处理垃圾处理器的研磨机构，二次处理垃圾处理器的研磨机构上设有进料口和排污口，所述二次处理垃圾处理器的研磨机构包括一级研磨机构和二级研磨机构，一级研磨机构包括研磨罩（1）、研磨座（2）和刀盘（4），所述研磨罩（1）密封固定在研磨座（2）的上端面，研磨罩（1）与研磨座（2）的内部形成研磨室；所述刀盘（4）设于研磨室内，且刀盘（4）将研磨室分为上下两部分，分别为一级研磨室和二级研磨室通过上述方式，本实用新型能够对垃圾进行分级研磨，产生的残留物较小，研磨充分，而且研磨机构结构简单，不易卡死。
二次处理垃圾处理器研磨机构

[发明专利]一种垃圾处理器用研磨圈及垃圾处理器-CN201510662847.0有效
发明人：陈诗洁;陈伟杰;高静远;张弛;滕勇;吴雄浩 -专利权人：珠海格力电器股份有限公司
申请日： 2015-10-14 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： B02C18/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种垃圾处理器用研磨圈及垃圾处理器，涉及垃圾处理技术领域。该垃圾处理器用研磨圈的内壁上设置有多个研磨齿，所述多个研磨齿包括第一研磨齿和第二研磨齿，所述第一研磨齿的齿端朝向沿所述研磨圈周向的第一方向设置，所述第二研磨齿的齿端朝向沿所述研磨圈周向的第二方向设置。同时提出具有上述研磨圈的垃圾处理器。本发明提供的垃圾处理器用研磨圈具有齿端朝向相反的两种研磨齿，使得无论垃圾处理器的研磨盘正转还是反转均有研磨齿对垃圾进行有效切割、粉碎，从而大大提高了研磨效果和研磨效率。
一种垃圾处理器用研磨垃圾处理器

[实用新型]一种垃圾处理器用研磨圈及垃圾处理器-CN201520792383.0有效
发明人：陈诗洁;陈伟杰;高静远;张弛;滕勇;吴雄浩 -专利权人：珠海格力电器股份有限公司
申请日： 2015-10-14 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： B02C18/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种垃圾处理器用研磨圈及垃圾处理器，涉及垃圾处理技术领域。该垃圾处理器用研磨圈的内壁上设置有多个研磨齿，所述多个研磨齿包括第一研磨齿和第二研磨齿，所述第一研磨齿的齿端朝向沿所述研磨圈周向的第一方向设置，所述第二研磨齿的齿端朝向沿所述研磨圈周向的第二方向设置。同时提出具有上述研磨圈的垃圾处理器。本实用新型提供的垃圾处理器用研磨圈具有齿端朝向相反的两种研磨齿，使得无论垃圾处理器的研磨盘正转还是反转均有研磨齿对垃圾进行有效切割、粉碎，从而大大提高了研磨效果和研磨效率。
一种垃圾处理器用研磨垃圾处理器

[实用新型]一种PEEK轴套废料处理装置-CN202021316939.6有效
发明人：陈威 -专利权人：常州瑞璐塑业有限公司
申请日： 2020-07-07 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： B29B17/04 文献下载
摘要：本实用新型属于废料处理技术领域，具体涉及一种PEEK轴套废料处理装置。本PEEK轴套废料处理装置包括：箱体、位于箱体内的研磨机构、驱动机构，以及设置在研磨机构下方的分选机构；所述驱动机构适于驱动研磨机构研磨PEEK轴套废料；所述分选机构适于对研磨机构研磨后的PEEK轴套废料进行分类处理本实用新型的PEEK轴套废料处理装置，通过研磨机构对粉碎处理后的PEEK轴套废料进行研磨处理，并对研磨机构研磨后的PEEK轴套废料进行分类处理，以便于后期的加工与再利用。
一种 peek 轴套废料处理装置

[实用新型]一种食物垃圾处理器粉碎机构-CN201921052732.X有效
发明人：尚通平;陆斌斌;梁永君;王能 -专利权人：台州登尚机电有限公司
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： B02C18/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种食物垃圾处理器粉碎机构包括壳体和研磨组件；所述研磨组件包括上研磨圈、刀盘和下研磨圈，研磨组件设置于上罩与处理座之间；所述上研磨圈设置于上罩，所述下研磨圈设置于处理座；所述刀盘设置于上研磨圈和下研磨圈之间；所述上研磨圈的内侧壁设置有粉碎齿；所述下研磨圈设置有切齿；采用上述技术方案，由于所述研磨组件包括上研磨圈、刀盘和下研磨圈，研磨组件设置于上罩与处理座之间；所述上研磨圈设置于上罩，所述下研磨圈设置于处理座；所述刀盘设置于上研磨圈和下研磨圈之间；所述上研磨圈的内侧壁设置有粉碎齿；所述下研磨圈设置有切齿，使得垃圾处理器提高粉碎效率及粉碎效果，营造健康的厨房环境。
一种食物垃圾处理器粉碎机构

[发明专利]基片处理装置、研磨垫检查装置和研磨垫检查方法-CN202210161774.7在审
发明人：福永努 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置、研磨垫检查装置和研磨垫检查方法，其在适当的时机检查对基片进行研磨的研磨垫的研磨面。基片处理装置包括：对基片进行研磨的研磨垫；盒，其收纳上述研磨垫的与上述基片接触的研磨面；拍摄部，其隔着上述盒对上述研磨垫的上述研磨面进行拍摄；和图像处理部，其对由上述拍摄部拍摄到的图像数据进行处理，检测上述研磨垫的劣化
处理装置研磨检查方法

[发明专利]玻璃基板的研磨方法、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法、研磨液和氧化铈的还原方法-CN201780051993.7有效
发明人：中川裕树;中山嘉四雄 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2017-11-24 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供一种玻璃基板的研磨方法，其在以氧化铈为研磨磨粒的玻璃基板的研磨处理中能够长时间维持比以往高的研磨速度。本发明中，将包含氧化铈作为研磨磨粒的研磨液供给到玻璃基板的研磨面而对玻璃基板进行研磨处理。该研磨液包含上述氧化铈作为研磨磨粒，进而包含接收光而将氧化铈还原的物质。并且，在研磨处理时进行对研磨液照射光的处理。
玻璃研磨方法制造磁盘氧化还原

[发明专利]一种研磨垫的处理方法-CN201611251521.X有效
发明人：唐强;张溢钢 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2016-12-29 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫的处理方法，包括以下步骤：将待处理的研磨垫固定于研磨装置的研磨台上；提供虚拟晶圆，使用所述研磨垫对所述虚拟晶圆进行研磨处理；用氧化性溶液对所述研磨垫的表面进行处理。根据本发明的处理方法，降低了研磨垫上沟槽的深度差，改善了研磨垫的平整性，从而改善凹陷缺陷，进而改善由凹陷缺陷引起的腐蚀，提高产品良率。
一种研磨处理方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条