专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]碳纳米管的制备装置-CN200510100354.4无效
  • 何纪壮 - 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
  • 2005-10-14 - 2007-04-18 - C01B31/00
  • 本发明提供一种碳纳米管的制备装置,其包括:一反应腔,该反应腔包括一对相对设置的进气口与排气口,其分别位于该反应腔的底部与顶部;一基底承载装置,其位于该反应腔内,用于承载碳纳米管生长用基底;以及一对相对设置的网格电极本发明通过设置一对相对的网格电极,可使碳源气通过,使气流方向与碳纳米管生长平行,有利于碳纳米管准直生长;在该对网格电极间施加一电压可在两者之间产生电场,碳纳米管在该电场中生长,其生长将取向于该电场方向
  • 纳米制备装置
  • [发明专利]发光二极管外延片的生长法及发光二极管外延片-CN201910350596.0有效
  • 兰叶;顾小云 - 华灿光电(苏州)有限公司
  • 2019-04-28 - 2020-09-29 - H01L33/00
  • 本发明公开了一种发光二极管外延片的生长法及发光二极管外延片,属于半导体技术领域。所述生长法包括:在衬底上生长缓冲层;在所述缓冲层上生长N型半导体层;在所述N型半导体层上生长应力释放层,所述应力释放层包括第一叠层结构,所述第一叠层结构由交替层叠的多个高温子层和多个低温子层组成,所述高温子层和所述低温子层均为N型掺杂的GaN层,每个所述高温子层的生长温度高于各个所述低温子层的生长温度,所述多个高温子层的生长温度保持不变,所述多个低温子层的生长温度沿所述发光二极管外延片的生长逐层降低;在所述应力释放层上生长有源层;在所述有源层上生长P型半导体层。
  • 发光二极管外延生长方法
  • [发明专利]一种绿化构件-CN202211192159.9在审
  • 宋川 - 四川省交通勘察设计研究院有限公司
  • 2022-09-28 - 2022-12-09 - A01G9/02
  • 本申请公开了一种绿化构件,涉及生态绿化技术领域,包括砖体,所述砖体内设置有种植腔,所述砖体上设置有若干条用于供藤蔓植物蔓延的生长槽,所述生长槽内设置有用于将所述藤蔓植物限制于所述生长槽内的固定件。本申请以生长槽和固定件干预藤蔓植物生长的方式,使藤蔓植物按预设方向生长,从而达到复绿整个岩质边坡的目的。
  • 一种绿化构件
  • [发明专利]SiC锭和SiC晶片-CN202211254037.8在审
  • 西原祯孝 - 昭和电工株式会社
  • 2022-10-13 - 2023-04-21 - C30B25/02
  • 本实施方式涉及的SiC锭,具有晶种和在晶种上生长的单晶,所述单晶在内部具有在生长上贯穿的微管,当对从所述单晶沿着与所述生长交叉的方向切出的多个晶片进行光致发光观察时,所述多个晶片之中从最接近所述晶种的位置切出的第
  • sic晶片
  • [发明专利]结晶性氧化物膜-CN201980043074.4在审
  • 高桥勋;四户孝 - 株式会社FLOSFIA
  • 2019-06-21 - 2021-02-05 - C30B29/16
  • 本发明提供一种具有刚玉结构的外延膜,其具有优异的对于减少了由于小面生长引起的位移等缺陷的半导体装置等有用的晶体品质。一种结晶性氧化物膜,包括刚玉结构的横向生长区域,所述横向生长区域实质上不包含小面生长区域,晶体生长为c轴或大致c轴方向,并包括在c轴或大致c轴方向上延伸的位移线,晶体生长已在c轴或大致c轴方向上扩展的结晶性氧化物彼此相互接合
  • 结晶氧化物

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