专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]能量照射-CN201220141093.6有效
  • 林锡良 - 林锡良
  • 2012-04-06 - 2013-01-30 - A61N5/00
  • 一种能量照射仪,包括:能量照射主体,设有第一枢接座;滑杆,其第一端设有第二枢接座,并以第一枢轴穿置于该罩体的第一枢接座与第二枢接座间;滑座,含有一套孔,该套孔套置该滑杆于内,并于该滑座上设有第三枢接座;以及一固定座,含有一座体,于该座体上锁固有连杆,令该连杆设有第四枢接座,并以第二枢轴穿置于该第四枢接座与该滑座的第三枢接座间;如是使该能量照射主体,可以依第一枢轴旋转地进行照射角度的调整,并可以藉由滑杆于该滑座上滑动,以进行远、近位置的调整,或藉由第二枢轴,进行能量照射主体高低位置的调整,以使该能量照射主体,可以更简易、快速地调整至适当的位置,以符合不同使用者的需求。
  • 能量照射
  • [发明专利]能量线照射装置-CN200410032217.7无效
  • 中田胜之;高井充 - TDK股份有限公司
  • 2004-03-24 - 2004-09-29 - G21K5/00
  • 一种能量线照射装置,具有:安装基材(12)的基材用支架(8);使该基材用支架(8)移动的移动台(9);以及根据以移动台(9)的基准点作为基准所设定的移动图形使移动台(9)进行移动、在基材(12)上形成由电子束(B)所产生的照射图形的总控制部(11),基材用支架(8)具有:载置基材(12)的支架本体(21);以及在使基材(12)的外缘或内缘上的一部分的区域和基材(12)的照射图形形成区域露出的状态下、对基材(即使在圆盘状基材位置偏移的状态下被安装在基材用支架上时,也能在圆盘状基材上正确地形成照射图形。
  • 能量照射装置
  • [实用新型]转换能量照射装置-CN200520003044.6无效
  • 俞其进 - 俞其进
  • 2005-02-06 - 2006-04-12 - A61N5/06
  • 一种转换能量照射装置,其包含有一加套在光源上的聚能板及复数个光源;聚能板上形成有复数个贯穿该聚能板的穿孔,其项面上并形成有数个凸体,又聚能板的外表面上并涂佈有一光、热能转换层;各光源分别由聚能板上的各穿孔穿出,并突伸于聚能板的顶面之外;该光源朝侧向发出的光线可由凸体柱所折射,使得光线被折射到较佳的光照射路径,光、热能转换层则吸收光源所发出的废热及光线,并转换为4-12μm的远红外线光波,以照射到人体或动植物上
  • 转换能量照射装置
  • [实用新型]能量照射仪结构-CN200520110769.5无效
  • 黄福得;林锡良 - 黄福得;林锡良
  • 2005-06-27 - 2006-09-20 - A61N5/00
  • 本实用新型提供一种能量照射仪结构,其是在中空基座内设有隔热盘及数个电阻,并设有电线以连接外界电路,电线将电能传导至电阻上,电阻将能转换成热能,配合隔热盘将热能转换为频弧领域宽广波长2-80微米区间的热能量辐射,据此辐射来照射人体,可达到促进血液循环及新陈代谢的功效,进而缓解人体的不适症状。
  • 能量照射结构
  • [发明专利]结晶半导体膜的制造方法及制造装置-CN201380051586.8有效
  • 次田纯一;町田政志;郑石焕 - 株式会社日本制钢所
  • 2013-09-30 - 2018-04-27 - H01L21/20
  • 在通过脉冲激光的照射来对非单晶半导体膜进行结晶化时,本发明为了防止产生照射不均,具有第1阶段和第2阶段,在第1阶段,将低于因脉冲激光的照射而使得所述非单晶半导体膜产生微结晶化的照射脉冲能量密度、且适于基于多次即N次的照射的结晶化的照射脉冲能量密度设为E0,从而以与照射脉冲能量密度E0相同的照射脉冲能量密度E1来照射所述脉冲激光,在第2阶段,以低于照射脉冲能量密度E1、且在为了使结晶再次熔融而所需的照射能量密度以上的照射脉冲能量密度E2来照射所述脉冲激光,对于同一照射面所进行的第1阶段和第2阶段的总计照射次数设为N次以上。
  • 结晶半导体制造方法装置
  • [发明专利]紫外线照射装置-CN200610073869.4有效
  • 饭田雄介;中下直哉;井上宏之;及川贵弘;堀江健嗣 - 欧姆龙株式会社
  • 2006-04-06 - 2006-10-18 - B05D3/06
  • 本发明提供一种具有能够以高精度进行寿命管理的指标的紫外线照射装置。控制部(4)接受从光源用电源部(6)供给到各个照射部(2)的电流值,并按照所规定的每个控制周期进行积算。然后,控制部(4)对积算了的电流值乘以UV光源(16)的电压降,来计算UV光源(16)的照射能量。并且,控制部(4)在从照射部(2)的存储部(18)中读出的照射能量的累积值上加上所计算出的照射能量,并用该合计后的值更新存储部(18)存储的照射能量的累积值。另外,控制部(4)将计算出的UV光源(16)的照射能量以及照射能量的累积值等显示在显示部(8)上。
  • 紫外线照射装置
  • [发明专利]显示装置用构件的制造装置以及制造方法-CN201611052584.2在审
  • 田辺昌平;西垣寿;铃木端生 - 芝浦机械电子装置株式会社
  • 2016-11-24 - 2017-06-20 - G09F9/00
  • 本发明涉及一种显示装置用构件的制造装置以及制造方法,既能防止粘合剂的突出,又能防止显示区域中的粘合剂的未填充与粘合剂的未硬化部分的残存,所述显示装置用构件的制造装包括贴合部,将工件经由通过能量照射而硬化的粘合剂来予以贴合,工件是构成显示装置的一对工件,且其中一者具有划分显示区域的印刷框;以及照射部,从第一照射状态切换到第二照射状态来照射能量,第一照射状态是对于被贴合的工件间的到达显示区域外的粘合剂,对能量仅被照射至粘合剂缘部的区域照射能量的状态,第二照射状态是对能量入射至较粘合剂的缘部更靠内侧的区域照射能量的状态。
  • 显示装置构件制造装置以及方法
  • [实用新型]曝光机的UV能量调整装置-CN201521099414.0有效
  • 王启毓;张永裕 - 志圣工业股份有限公司
  • 2015-12-22 - 2016-05-11 - G03F7/20
  • 本实用新型提供一种曝光机的UV能量调整装置,包含UV能量传感器及移动机构,移动机构驱动UV能量传感器移动,UV能量传感器感测曝光机的平面光源的UV-LED的照射能量,UV-LED用以照射曝光对象;UV能量调整部,连接UV-LED、UV能量传感器及移动机构以调整UV-LED的照射能量为相同。因此,本实用新型可调整各式机型的曝光机的UV-LED的照射能量为均匀以提升制程的合格率。
  • 曝光uv能量调整装置
  • [发明专利]用于添加式地制造三维物体的设备-CN201810216808.1有效
  • P·庞蒂勒-许穆拉;F·舒德尔;B·艾肯伯格 - CL产权管理有限公司
  • 2018-03-16 - 2021-09-07 - B29C64/153
  • 一种用于通过依次逐层地选择性地照射和固化由能借助包括至少两个照射元件的照射装置固化的建造材料构成的层来添加式地制造三维物体的设备,所述照射元件作为照射阵列特别是布置在至少一个共同的照射元件载架上,其中每个照射元件适配于出射沿着或可沿着所述建造平面中的特别是至少部分地弯曲的能量束路径被引导的能量束,其中所述照射阵列能相对于所述建造平面移动,其中设置了控制单元,所述控制单元适配于控制输入到至少两个能量束的至少两个能量束路径中的至少两个能量输入的比率和/或由至少两个照射元件出射的至少两个能量束的光斑大小的比率
  • 用于添加制造三维物体设备

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