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[实用新型]一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统-CN201020593227.9有效
发明人：李一成 -专利权人：理想能源设备（上海）有限公司
申请日： 2010-11-05 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于生产薄膜太阳能电池的化学气相沉积系统，跨越设置在第一区域和第二区域，其中，第一区域的洁净度高于第二区域；该化学气相沉积系统包含依次连接的加载台、第一承载室、多个低压化学气相沉积反应室、第二承载室和卸载台；其中，该化学气相沉积系统整体呈弓形设置；该加载台和卸载台设置在第一区域中；该第一承载室、多个低压化学气相沉积反应室和第二承载室设置于第二区域中。由于本实用新型的化学气相沉积系统整体设置为弓形，因此其加载台和卸载台都设置在洁净度较高的第一区域中，故无需设置专门的回传机构，保证衬底在沉积过程中不受污染的同时也降低了系统的生产成本。同时，可有效降低该化学气相沉积系统的占地面积。
一种用于生产薄膜太阳能电池化学沉积系统

[实用新型]一种气藏井筒硫沉积伤害评价实验装置-CN201922170716.7有效
发明人：蒲治锦;王永清;李农;王丽;刘文仅;赵丹;安珏东 -专利权人：西南石油大学
申请日： 2019-12-06 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： E21B49/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气藏井筒硫沉积伤害评价实验装置，包括供给系统、硫沉积模拟系统、伤害评价系统、废气处理系统；所述供给系统包括通过管线相连的含硫气体存储罐和恒速恒压泵，所述恒速恒压泵的出口端与所述硫沉积模拟系统相连；所述硫沉积模拟系统包括并列设置的岩心夹持器、垂直井筒、水平井筒；所述伤害评价系统包括用于观测井筒硫沉积过程的高清摄像机或高倍显微镜、设置在所述岩心夹持器左右两端的压力传感器和流量传感器，所述高清摄像机或高倍显微镜本实用新型能够模拟地层条件，评价硫沉积对岩心渗透率以及井筒的伤害程度，为高含硫气藏的开发提供指导意见。
一种井筒沉积伤害评价实验装置

[发明专利]一种PVD法生产硒化锌的改进装置及生产方法-CN202110912238.1在审
发明人：杨锦春;王劲;吴玉堂;朱敏 -专利权人：南京波长光电科技股份有限公司
申请日： 2021-08-10 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： C30B28/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种PVD法生产硒化锌的改进装置及生产方法,PVD法生产硒化锌的改进装置，包括蒸发沉积系统和真空系统；蒸发沉积系统包括保温外壳和石英管罩；保温外壳内侧沿轴向分割为蒸发区和沉积区；石英管罩位于保温外壳内侧，位于蒸发区的石英管罩内侧设有盛料组件；位于沉积区的石英管罩内侧设有沉积模具；石英管罩外侧和蒸发区内侧之间设有蒸发加热器，石英管罩外侧和沉积区内侧之间设有沉积加热器；蒸发加热器和沉积加热器之间设有隔热层；位于沉积区的石英管罩端部伸出保温外壳与真空系统连通。
一种 pvd 生产硒化锌改进装置方法

[发明专利]沉积蒸发系统-CN201510349888.4在审
发明人：乐仲;孙福河;闻永祥;曹永辉 -专利权人：杭州士兰集成电路有限公司
申请日： 2015-06-19 - 公布日： 2015-09-16 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种沉积蒸发系统，用于对基片进行倾斜蒸发沉积，包括动力机构、沉积蒸发传动装置和真空蒸发器，所述动力机构与所述沉积蒸发传动装置相连接，用于驱动所述沉积蒸发传动装置转动；所述真空蒸发器位于所述沉积蒸发传动装置的下方；所述真空蒸发器的蒸发源面向所述沉积蒸发传动装置放置，所述蒸发源的纵向中心线与基片所在平面平行，所述沉积蒸发传动装置包括旋转架、基片载具和轨道，所述蒸发源的纵向中心线经过所述轨道所在圆的圆心。本发明提供的沉积蒸发系统具有多片蒸发、每个基片旋转速度可调和每个基片的倾斜角度可调等优点，可有利于产能提升和生产成本的降低，更适用于倾斜角蒸发纳米结构薄膜的批量生产。
沉积蒸发系统

[发明专利]智能沉积系统-CN201810820690.3在审
发明人：章金金 -专利权人：湖州多玛节能科技有限公司
申请日： 2018-07-24 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种智能沉积系统，包括控制组件、扫描模组、激光源、一驱动机构、至少两个第一反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；所述第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内
反射镜激光源固定平台真空室沉积系统驱动机构通光部射入沉积复合材料激光选择控制组件扫描模组预设夹角预设区域智能源材料靶材激光室内驱动移动

[发明专利]智能沉积系统-CN201810848817.2在审
发明人：商雪 -专利权人：贾英新
申请日： 2018-07-28 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供了一种智能沉积系统，包括控制组件、扫描模组、激光源、一驱动机构、至少两个第一反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；所述第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内
反射镜激光源固定平台真空室沉积系统驱动机构通光部射入沉积复合材料激光选择控制组件扫描模组预设夹角预设区域智能源材料靶材激光室内驱动移动

[发明专利]智能沉积系统-CN201810876065.0在审
发明人：姜丽 -专利权人：台州市皓仔邦工业设计有限公司
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：智能沉积系统，包括激光源、一驱动机构、至少两个第一反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；所述第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内，所述至少两个第一固定平台分别与所述基片的预设区域相对
反射镜激光源固定平台真空室沉积系统驱动机构通光部射入沉积复合材料激光选择预设夹角预设区域智能源材料靶材激光室内驱动移动

[发明专利]激光沉积系统-CN201711070220.1在审
发明人：谢宏林 -专利权人：惠州市宏策企业管理咨询有限公司
申请日： 2017-11-03 - 公布日： 2018-01-19 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明提供一种激光沉积系统，包括激光源、一驱动机构、一第一反射镜、至少两个第二反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内
激光沉积系统

[发明专利]激光沉积系统-CN201711072923.8在审
发明人：谢宏林 -专利权人：惠州市宏策企业管理咨询有限公司
申请日： 2017-11-04 - 公布日： 2018-01-19 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明提供一种激光沉积系统，包括激光源、一驱动机构、一第一反射镜、至少两个第二反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内
激光沉积系统

[发明专利]激光沉积系统-CN201711070219.9在审
发明人：谢宏林 -专利权人：惠州市宏策企业管理咨询有限公司
申请日： 2017-11-03 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明提供一种激光沉积系统，包括激光源、一驱动机构、一第一反射镜、至少两个第二反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内
激光沉积系统

[发明专利]激光沉积系统-CN201711071759.9在审
发明人：谢宏林 -专利权人：惠州市宏策企业管理咨询有限公司
申请日： 2017-11-03 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明提供一种激光沉积系统，包括激光源、一驱动机构、一第一反射镜、至少两个第二反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内
激光沉积系统

[发明专利]化学沉积系统-CN202010054552.6在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;连传泰 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本发明的化学沉积统主要具有一槽体，该槽体内容置有一化学镀液，可供一加工物置入进行化学沉积；其中，该槽体的内壁为导电材料，另具有一牺牲阴极以及一电源，该牺牲阴极浸置于该化学镀液，而该电源的一正极连接于该内壁，该电源的一负极则连接于该牺牲阴极，利用该电源通电让化学镀液内的金属离子可沉积于该牺牲阴极表面，而不会沉积于该内壁，以减少化学沉积槽体的保养频率，以及减少沉积在内壁上的物质脱落而沾附到加工物，以提升化学沉积的良率
化学沉积系统

[发明专利]沉积装置系统-CN201980096607.5在审
发明人：崔虔熏;申大成;金昇渊;洪熏护 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明的沉积装置系统可包括：真空室、设置在所述真空室的一个表面上的至少一个观察口、沉积装置(包括容纳在所述真空室中以容纳沉积原料的坩埚、被构造成加热所述坩埚的加热器单元、以及供由所述沉积原料蒸发的沉积材料通过的至少一个喷嘴
沉积装置系统

[发明专利]电弧沉积系统-CN202211624016.0在审
发明人： Z·泽姆鲍尔 -专利权人：蒸汽技术公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种电弧沉积系统，包括：涂覆腔室以及中央阴极靶，该中央阴极靶设置在该涂覆腔室内。至少两个阳极环绕该中央阴极靶。
电弧沉积系统

[发明专利]电沉积系统-CN200810037271.9有效
发明人：马悦;何川;逄振旭;施广涛;夏杰旭;N.纳其;王晖 -专利权人：盛美半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2008-05-12 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： C25B9/00 文献下载
摘要：具有三维堆叠结构的电沉积系统，包含用于接收晶圆的工厂接口，包含主框架传送机械手和多个置于其上的晶圆固持装置的主框架，多个置于主框架中的电镀单元，多个置于主框架中低于电镀单元位置的清洗单元，多个置于主框架和工厂接口之间的热处理腔，与电镀单元和清洗单元相连的流体分配系统，主框架传送机械手在工厂接口，电镀单元，清洗单元和热处理腔之间传送晶圆。因此，本发明系统在扩展增加新的工艺单元时不需过多增加占地面积。
沉积系统