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[发明专利]化学沉积系统-CN202010054552.6在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;连传泰 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本发明的化学沉积统主要具有一槽体，该槽体内容置有一化学镀液，可供一加工物置入进行化学沉积；其中，该槽体的内壁为导电材料，另具有一牺牲阴极以及一电源，该牺牲阴极浸置于该化学镀液，而该电源的一正极连接于该内壁，该电源的一负极则连接于该牺牲阴极，利用该电源通电让化学镀液内的金属离子可沉积于该牺牲阴极表面，而不会沉积于该内壁，以减少化学沉积槽体的保养频率，以及减少沉积在内壁上的物质脱落而沾附到加工物，以提升化学沉积的良率。
化学沉积系统

[实用新型]化学沉积系统-CN202020111872.6有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;连传泰 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本实用新型的化学沉积系统主要具有一槽体，该槽体内容置有一化学镀液，可供一加工物置入进行化学沉积；其中，该槽体的内壁为导电材料，另具有一牺牲阴极以及一电源，该牺牲阴极浸置于该化学镀液，而该电源的一正极连接于该内壁，该电源的一负极则连接于该牺牲阴极，利用该电源通电让化学镀液内的金属离子可沉积于该牺牲阴极表面，而不会沉积于该内壁，以减少化学沉积槽体的保养频率，以及减少沉积在内壁上的物质脱落而沾附到加工物，以提升化学沉积的良率。
化学沉积系统