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[发明专利]铜离子浓度监控方法-CN202010054568.7有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G01N27/28 文献下载
摘要：本发明的监控方法包括以下步骤：提供一含有铜离子的待测溶液；提供一监控装置；于一特定电位区间内，借由该监控装置测定该待测溶液的一循环伏安曲线，该循环伏安曲线具有一峰电流值；提供复数组浓度已知的铜离子标准溶液，于该特定电位区间，借由该监控装置测定该复数组标准溶液的循环伏安曲线，每一浓度的标准溶液的循环伏安曲线具有一峰电流值，以该复数组标准溶液的铜离子浓度值及其相对应的循环伏安曲线的峰电流值确定一线性方程式，该线性方程式为Y＝AX+B，其中Y表示该峰电流值，A表示该线性方程式的斜率，X表示铜离子浓度，B表示该线性方程式的截距；以该线性方程式及该待测溶液的循环伏安曲线的峰电流值，确定该待测溶液的铜离子浓度。
离子浓度监控方法

[发明专利]喷盘检测系统及其检测方法-CN202010231117.6有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明的复数喷盘分别以复数副管路并联于一主管路，该检测系统装设于该副管路及该主管路，该检测系统至少包含：泵浦、变频器、复数第一自动开关、压力表、第一流量计以及控制器，利用复数第一自动开关开启主管路与复数副管路的连通并输入液体，取得主管路的一标准流体压力值以及一标准流体流量值，以标准流体压力值与标准流体流量值的比值得到一标准阻力值，再利用复数第二自动开关仅开启其中一副管路与主管路的连通，而关闭其他副管路，取得主管路的一流体压力值以及一流体流量值，以两者的比值得到一阻力值，若阻力值高于该准阻力值，则判定其中一喷盘有阻塞现象。
检测系统及其方法

[发明专利]化学沉积系统-CN202010054552.6在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;连传泰 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本发明的化学沉积统主要具有一槽体，该槽体内容置有一化学镀液，可供一加工物置入进行化学沉积；其中，该槽体的内壁为导电材料，另具有一牺牲阴极以及一电源，该牺牲阴极浸置于该化学镀液，而该电源的一正极连接于该内壁，该电源的一负极则连接于该牺牲阴极，利用该电源通电让化学镀液内的金属离子可沉积于该牺牲阴极表面，而不会沉积于该内壁，以减少化学沉积槽体的保养频率，以及减少沉积在内壁上的物质脱落而沾附到加工物，以提升化学沉积的良率。
化学沉积系统

[实用新型]喷盘检测系统-CN202020424981.3有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型的复数喷盘分别以复数副管路并联于一主管路，该检测系统装设于该副管路及该主管路，该检测系统至少包含：泵浦、变频器、复数第一自动开关、压力表、第一流量计以及控制器，利用复数第一自动开关开启主管路与复数副管路的连通并输入液体，取得主管路的一标准流体压力值以及一标准流体流量值，以标准流体压力值与标准流体流量值的比值得到一标准阻力值，再利用复数第二自动开关仅开启其中一副管路与主管路的连通，而关闭其他副管路，取得主管路的一流体压力值以及一流体流量值，以两者的比值得到一阻力值，若阻力值高于该准阻力值，则判定其中一喷盘有阻塞现象。
检测系统

[实用新型]化学沉积系统-CN202020111872.6有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;连传泰 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C23C18/38 文献下载
摘要：本实用新型的化学沉积系统主要具有一槽体，该槽体内容置有一化学镀液，可供一加工物置入进行化学沉积；其中，该槽体的内壁为导电材料，另具有一牺牲阴极以及一电源，该牺牲阴极浸置于该化学镀液，而该电源的一正极连接于该内壁，该电源的一负极则连接于该牺牲阴极，利用该电源通电让化学镀液内的金属离子可沉积于该牺牲阴极表面，而不会沉积于该内壁，以减少化学沉积槽体的保养频率，以及减少沉积在内壁上的物质脱落而沾附到加工物，以提升化学沉积的良率。
化学沉积系统

[实用新型]铜离子浓度监控系统-CN202020112584.2有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： G01N27/28 文献下载
摘要：本实用新型的铜离子浓度监控系统至少包含：一容置槽、一工作电极、一辅助电极、一参考电极、一供电单元、一控制单元、一安培计以及一伏特计，该工作电极、该辅助电极及该参考电极配置于该容置槽内，而该伏特计连接于该工作电极与该参考电极之间，该供电单元与该工作电极以及该辅助电极电性连接，该安培计则连接于该辅助电极与该供电单元之间，而该控制单元与该供电单元电性连接，利用本实用新型的监控系统可对待测溶液进行循环伏安法，达到定量测定铜离子浓度的功效。
离子浓度监控系统

[发明专利]电化学处理系统-CN201910039162.9在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2019-01-16 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： C02F1/467 文献下载
摘要：本发明的电化学处理系统至少包含：第一基体、第二基体、离子膜以及二隔板，该第一、第二基体结构大致相同，分别具有进水口出水口以及位于侧面的副出水口，而该第一基体其中一侧为阳极表面，该第二基体其中一侧为阴极表面，且该阴极表面与该阳极表面相对设置，该离子膜位于该阳极表面与该阴极表面之间，并区隔成一阳极室及一阴极室，该二隔板分别配置于该阳极室及该阴极室内，可分别导引该阳极室及该阴极室的液体，利用本发明的电化学处理系统可处理例如蚀刻废液的回收再利用。
电化学处理系统

[发明专利]电镀系统的搅拌装置-CN201810835645.5在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;黄伯轩;吴博轩 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2018-07-26 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：本发明中为电镀系统的搅拌装置，该电镀系统具有一槽体，其具有一底壁以及复数竖立于该底壁上的侧壁，由该底壁及该复数侧壁围成一供装设电镀液及待镀物的空间，该搅拌装置至少包含：一气体导管以及二出水管，该气体导管设有一气体喷出区域，该出水管设有一液体喷出区域，该气体喷出区以及液体喷出区域配置于该待镀物下方，该气体喷出区域与该待镀物重叠，而二出水管的该液体喷出区域分别位于该气体喷出区域的两外侧，利用气体喷出区域将气体喷出且集中于该待镀物的正下方，同时利用两外侧的液体喷出区域所喷出的液体造成扰动，进而对电镀液形成搅拌作用，可提升电镀效率以及改善膜厚分布。
喷出出水管底壁电镀系统搅拌装置气体导管电镀液电镀效率复数侧壁膜厚分布区域配置扰动槽体侧壁复数装设竖立

[发明专利]电镀系统的气体搅拌装置-CN201810835611.6在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;黄伯轩;吴博轩 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2018-07-26 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：本发明是电镀系统的气体搅拌装置，该电镀系统具有一槽体以供装设电镀液，该气体搅拌装置至少包含：一扩散板以及一气体导管，该扩散板设置于该槽体接近底部，与该槽体底部形成一空间，该扩散板具有复数穿孔，且该扩散板并设有至少一突出部，该突出部朝向该槽体顶部；该气体导管由该槽体的一个壁面穿入，以将一气体注入该槽体，该气体导管位于该扩散板下方的部分更设置复数个朝下的气体流出孔，除了可透过气体导管的复数气体流出孔所排出的气泡，产生加速电镀液活动性的搅拌作用，并透过特殊扩散板的形状设计可改良电镀时流场不均匀的缺失，以提升电镀品质。
扩散板槽体气体导管复数气体搅拌装置气体流出孔电镀系统电镀液突出部电镀活动性槽体顶部形状设计不均匀可透过穿孔壁面穿入流场排出装设改良

[实用新型]电化学处理系统-CN201920069746.6有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2019-01-16 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C02F1/467 文献下载
摘要：本实用新型的电化学处理系统至少包含：第一基体、第二基体、离子膜以及二隔板，该第一、第二基体结构大致相同，分别具有进水口出水口以及位于侧面的副出水口，而该第一基体其中一侧为阳极表面，该第二基体其中一侧为阴极表面，且该阴极表面与该阳极表面相对设置，该离子膜位于该阳极表面与该阴极表面之间，并区隔成一阳极室及一阴极室，该二隔板分别配置于该阳极室及该阴极室内，可分别导引该阳极室及该阴极室的液体，利用本实用新型的电化学处理系统可处理例如蚀刻废液的回收再利用。
阳极表面阴极表面阳极室电化学处理系统隔板本实用新型离子膜阴极室阴极副出水口基体结构蚀刻废液相对设置出水口进水口再利用导引区隔室内侧面回收配置

[发明专利]电镀辅助板及应用其的电镀系统-CN201710841944.5在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;吴博轩;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2017-09-18 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明的电镀辅助板应用于电镀系统，其主要具有一不导电的板体，设置于该阳极与该待镀面之间，该电镀辅助板将该阳极部分遮蔽而形成遮蔽区域，而该电镀辅助板设有至少一朝向于该阳极的遮蔽件，该遮蔽件可阻断遮蔽区域处的电镀液与电镀槽其他区域的电镀液间的流动，即可以更为积极、可靠的手段阻止金属镀层沉积于相对该遮蔽区域的待镀面上，具有调整电镀时的电场分布的能力。
电镀辅助板阳极遮蔽区域电镀系统电镀液遮蔽件电场分布金属镀层不导电电镀槽板体遮蔽沉积应用流动

[实用新型]电镀系统的气体搅拌装置-CN201821197695.7有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;黄伯轩;吴博轩 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2018-07-26 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： C25D21/10 文献下载
摘要：本实用新型是电镀系统的气体搅拌装置，该电镀系统具有一槽体以供装设电镀液，该气体搅拌装置至少包含：一扩散板以及一气体导管，该扩散板设置于该槽体接近底部，与该槽体底部形成一空间，该扩散板具有复数穿孔，且该扩散板并设有至少一突出部，该突出部朝向该槽体顶部；该气体导管由该槽体的一个壁面穿入，以将一气体注入该槽体，该气体导管位于该扩散板下方的部分更设置复数个朝下的气体流出孔，除了可透过气体导管的复数气体流出孔所排出的气泡，产生加速电镀液活动性的搅拌作用，并透过特殊扩散板的形状设计可改良电镀时流场不均匀的缺失，以提升电镀品质。
扩散板槽体气体导管气体搅拌装置电镀系统复数气体流出孔电镀液突出部电镀活动性本实用新型槽体顶部形状设计不均匀可透过穿孔壁面穿入流场排出装设改良

[实用新型]电镀系统-CN201721195569.3有效
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;吴博轩;许宏玮 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2017-09-18 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型的电镀辅助板应用于电镀系统，其主要具有一不导电的板体，设置于该阳极与该待镀面之间，该电镀辅助板将该阳极部分遮蔽而形成遮蔽区域，而该电镀辅助板设有的遮蔽件朝向于该阳极，可阻断遮蔽区域处的电镀液与电镀槽其他区域的电镀液间的流动，即可以更为积极、可靠的手段阻止金属镀层沉积于相对该遮蔽区域的待镀面上，具有调整电镀时的电场分布的能力。
电镀阳极遮蔽区域辅助板电镀系统电镀液本实用新型电场分布金属镀层不导电电镀槽遮蔽件板体遮蔽沉积流动应用

[发明专利]触媒涂料及使用其的阳极-CN201610725409.9在审
发明人：郑文锋;许吉昌;孙尚培;黄柏轩;吴博轩 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2016-08-25 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：本发明主要将预先设定重量份比例的铂系金属材料或其氧化物、阀金属氧化物、奈米碳材料混合组成可应用于阳极的触媒涂料，经热处理定型后可于阳极的基材表面可使阳极具有高度电化学活性的触媒涂层；尤其，透过奈米碳材料表现出良好的导电性，有效降低阳极表面电阻，使其工作电压得以长效维持在较为平稳的稳定区内，以相对更为积极、可靠的手段延长阳极使用寿命。
阳极触媒涂料碳材料阀金属氧化物导电性电化学活性金属材料热处理触媒涂层工作电压基材表面使用寿命阳极表面重量份氧化物铂系电阻定型应用表现

[发明专利]电镀系统-CN201610146320.7在审
发明人：郑文锋;萧舜昌;罗焕星;许吉昌;孙尚培 -专利权人：先丰通讯股份有限公司
申请日： 2016-03-15 - 公布日： 2017-09-22 - 主分类号： C25D17/12 文献下载
摘要：本发明的电镀系统，于一电镀槽中配置有一阴极端，以及至少一阳极端；其至少一阳极端设有复数个呈相互绝缘状态配置的阳极件，另有复数个导电件分别与各阳极件电气连接，使得以透过对任一或任意数个阳极件通电的方式，于电镀槽中产生不同电力线分布状态；尤其，不须更动原有阳极端设备,即可以更为积极、可靠的手段增加电镀质量,并能产生良好的效益。
电镀系统

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