专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高电致应变的压电薄膜及其制备方法-CN202211726940.X在审
  • 沈波;朱坤;翟继卫 - 同济大学
  • 2022-12-30 - 2023-06-06 - H10N30/853
  • 本发明提供了一种高电致应变的压电薄膜,化学通式为:0.9212(Bi0.5Na0.5)TiO压电薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤S1,按照压电薄膜的化学通式的化学计量比称取硝酸、乙酸钠、乙酸钡、乙酸镧、乙酸锶溶于乙酸,制得第一溶液;步骤S2,按照压电薄膜的化学通式的化学计量比称取乙酰丙酮、四丁酯、四水合乙酸锰溶于乙二醇甲醚,制得第二溶液;步骤S3,将第一溶液和第二溶液混合得到混合溶液,调整混合溶液的浓度和酸碱度,制得前驱体溶液;步骤S4,清洗基片,并将基片吹干;步骤S5,将前驱体溶液涂覆在基片上,制备得到高电致应变的压电薄膜。
  • 高电致应变钛酸铋钠基无铅压电薄膜及其制备方法
  • [发明专利]压电织构陶瓷及其制备方法-CN200610041830.4无效
  • 张昌松;高峰;郭晨洁;田长生 - 西北工业大学
  • 2006-02-27 - 2007-09-05 - C04B35/475
  • 本发明提出一种压电织构陶瓷及其制备方法,以替代传统的含系压电陶瓷。本发明以微晶模板与原始粉料、有机溶剂和粘结剂混合生成最终的压电织构陶瓷,其中,织构陶瓷的微晶模板是用二氧化、氧化铋、氯化钠以及氯化钾生成形貌为片状的粉体,原始粉料包括碳酸钠、碳酸钾、二氧化和氧化铋,经过球磨制浆、流延、叠压、热水等静压、切割、预烧及涂银工序,最终生成压电织构陶瓷。本发明的优点在于可以利用工厂现有的片式电子元件生产设备,同时整个过程完全符合环保要求,所制备出的压电织构陶瓷其电性能已经达到压电陶瓷实用化要求。
  • 钛酸铋钠钛酸铋钾无铅压电陶瓷及其制备方法
  • [发明专利]压电薄膜材料及其制备方法-CN201610583008.4在审
  • 刘洁;郭菲菲 - 安阳华森纸业有限责任公司
  • 2016-07-23 - 2016-11-16 - C23C14/08
  • 本发明涉及压电薄膜材料及其制备方法,可有效解决薄膜材料的制备及在制备、使用及废弃的过程中对生态环境和人类健康带来危害的问题,本发明解决的技术方案是,本发明压电薄膜材料为‑钴压电薄膜材料0.5TiO3xBiCoO3(BNT‑BC),其中x为摩尔数,0<x≤0.06,其制备方法采用PLD制备压电薄膜,本发明组分简单,原料丰富,易于制备,产品质量好,性能稳定、优异,是压电薄膜材料上的创新,有良好的经济和社会效益。
  • 压电薄膜材料及其制备方法
  • [发明专利]-钾压电陶瓷及其制备方法-CN201010223340.2无效
  • 刘来君;吴枚霞;杨曌;方亮;胡长征 - 桂林理工大学
  • 2010-07-08 - 2010-11-24 - C04B35/495
  • 本发明公开了一种铌-钾压电陶瓷及其制备方法。铌-钾压电陶瓷的化学组成通式为:(1-x)K0.5Na0.5NbO3-xBi0.5(K0.82Na0.18)TiO3,其中:0<x<0.2;x为摩尔分数。将碳酸钾、碳酸钠、二氧化、五氧化二铌、三氧化二,按化学计量比(1-x)K0.5Na0.5NbO3-xBi0.5(K0.82Na0.18)TiO3(0<x<0.2;x为摩尔分数)配料,经过球磨、煅烧、二次球磨、造粒、成型、排胶、高温烧结等工序,最终制备具有高压电性能的压电陶瓷。本发明方法大大的提高了无压电陶瓷体系的压电性能、提高了材料的工艺稳定性,从成分和工艺两方面使铌体系的压电陶瓷达到了实用化水平。
  • 铌酸钾钠钛酸铋钠钾压电陶瓷及其制备方法
  • [发明专利]高度择优取向-钛酸钡压电薄膜的制备方法-CN201510051148.2有效
  • 翟继卫;李朋;沈波;李伟 - 同济大学
  • 2015-01-30 - 2017-01-04 - C04B35/475
  • 本发明涉及高度择优取向‑钛酸钡压电薄膜的制备方法:(1)配置‑钛酸钡前驱体溶液;(2)在Pt/Ti/SiO2/Si基片上溅射镍镧,并在700℃热处理30分钟;(3)将溅射有镍镧的基片清洗干净后烘干;(4)在步骤(3)获得的基片上,使用‑钛酸钡前驱体溶液逐层进行旋转涂覆得到所需厚度的薄膜;(5)将步骤(4)获得的薄膜在700℃进行退火处理120分钟,即得到高度择优取向的‑钛酸钡压电薄膜本发明制备的‑钛酸钡压电薄膜取向度高、低电场下具有较高的电致应变,较高的介电常数和较低的介电损耗,在高精度位移控制器和微型执行器等领域具有很好的实用前景。
  • 高度择优取向钛酸铋钠钛酸钡压电薄膜制备方法

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