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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]放射化学治疗用的化学组成物-CN201010173035.7无效
发明人：尤文正 -专利权人：尤文正
申请日： 2010-05-07 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： A61K51/00 文献下载
摘要：本发明公开一种放射化学治疗用的化学组成物，其应用于放射化学、核子造影、放射核种治疗及化学合成的领域，并包含与治疗性或诊断性配位体共轭且视情况与金属螯合的TA2S衍生物。
放射化学治疗组成

[发明专利]化学碳粉组成物及其制法-CN200810213385.4有效
发明人：邱桂英;黄国栋;廖如凤;陈宜见;张瑞发;黄建胜;刘怡伶 -专利权人：全通科技股份有限公司
申请日： 2008-09-02 - 公布日： 2010-03-10 - 主分类号： G03G9/08 文献下载
摘要：本发明是有关于一种化学碳粉组成物及其制法，其化学碳粉组成物包括：树脂乳胶、颜料分散液、腊分散液、以及高分子分散型凝集剂，其中，该高分子分散型凝集剂为包括有不饱和酯类单体与含胺基单体的共聚物。
化学碳粉组成及其制法

[发明专利]化学机械研磨的组成物-CN200810097832.4有效
发明人：张松源;陆明辉;何明彻 -专利权人：盟智科技股份有限公司
申请日： 2008-05-16 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明化学机械研磨的组成物，该抑制剂组成物至少包含有咪唑啉类化合物或三唑类化合物或其组合物，以及肌胺酸及其盐类化合物或其组合物，该抑制剂组成物应用于化学机械研磨中，可以在维持金属层的高研磨去除率的同时，
化学机械研磨组成

[发明专利]化学发热组成物及发热袋-CN200710093932.5有效
发明人：方侃;方佑龄 -专利权人：上海超迪科技有限公司
申请日： 2007-07-06 - 公布日： 2009-01-07 - 主分类号： C09K5/16 文献下载
摘要：本发明属于发热材料领域，具体公开了一种化学发热组成物，该组成物由铁粉、竹炭粉、非钠可溶性无机盐、水、无机多孔保水剂和高吸水性树脂组成，在空气中，该发热组成物作为发热材料使用后，其废弃物能作为肥料和土壤改良剂再利用另外，本发明还公开了一种发热袋，具有双层结构，内层为封装有上述的化学发热组成物的透气性包装袋，外层为非透气性包装袋，其中，内层透气性包装袋由生物降解非织造布和生物降解塑料加工而成，内层透气性包装袋废弃后
化学发热组成

[发明专利]电化学方法、组件和组成-CN201780056357.3有效
发明人：丹尼尔·A·科诺普卡;杰森·A·赛德格 -专利权人：英奥创公司
申请日： 2017-07-13 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C25D5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种方法，其包含在辅助电荷源与第一电极之间感应产生第一电流，所述第一电流穿过电解质。跨所述第一电极感应产生第二电流，所述第二电流在所述第一电流的横向上，且所述第二电流跨所述第一电极感应产生相对电荷。
电化学方法组件组成

[发明专利]化学增幅光阻剂组成物-CN03110144.5无效
发明人：陈启盛;蔡茜茜;简镔;廖信明 -专利权人：台湾永光化学工业股份有限公司
申请日： 2003-04-14 - 公布日： 2004-10-20 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物，是含有如下式(I)结构单元的高分子聚合物其中R¹为氢、C₁－C₄的烷基、三氟甲基(CF_{本发明中的化学增幅光阻剂组成物，可以应用于目前一般的微影制程法，尤其针对于波长193nm光源的微影制程法，能得到优良的微影图形、解析度、轮廓与感光度。}
化学增幅光阻剂组成

[发明专利]化学增幅光阻剂组成物-CN03110103.8无效
发明人：陈启盛;李晏成;郑孟勋 -专利权人：美国永光公司
申请日： 2003-04-10 - 公布日： 2003-12-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种化学增幅光阻剂组成物，其包含有如右式(II)结构重复单元的高分子聚合物，其中R1为H或C1－C4的烷基；R2为羟基、C1－C8烷氧基或C1－C8烷硫基；G为(CH2)n、氧或硫，其中n为0～4的整数本发明的化学增幅光阻剂组成物，可以应用在一般的微影成像制造方法，尤其是波长193nm光源的微影成像制造方法，并具有极佳的解析度、轮廓及感光度。
化学增幅光阻剂组成

[发明专利]化学增幅光阻剂组成物-CN200510071380.9无效
发明人：陈启盛;蔡茜茜;简镔;廖信明 -专利权人：台湾永光化学工业股份有限公司
申请日： 2003-04-14 - 公布日： 2005-11-16 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物，是含有如右式(I)结构单元的高分子聚合物，其中R¹为氢、C₁－C₄的烷基、三氟甲基(CF化学增幅光阻剂组成物，可以应用于目前一般的微影制程法，尤其针对于波长193nm光源的微影制程法，能得到优良的微影图形、解析度、轮廓与感光度。
化学增幅光阻剂组成

[发明专利]确定炉渣部分的化学组成的方法-CN201580081162.5有效
发明人：阿西耶·维森特罗霍;阿尔特扎伊·皮孔鲁伊斯;塞尔希奥·罗德里格斯巴蒙德 -专利权人：安赛乐米塔尔公司
申请日： 2015-05-11 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G01J3/14 文献下载
摘要：确定炉渣部分(5)的化学组成的方法，所述方法包括以下步骤：‑提供炉渣部分(5)，所述炉渣部分具有表面(S)；‑使用光学系统(10)收集从所述表面(S)反射的光(L)；‑从所收集的光获得数据组，所述数据组至少限定包含代表所述所收集的光的部分之一在多个波长之一下收集，所述矩阵至少通过以下而被编索引：‑所述多个点的多个空间坐标，和‑代表所述多个波长的多个光谱参数；‑调节所述矩阵以便获得简化的值组，以及‑使用所述简化的值组来执行(130)数学算法，以便获得所述化学组成
确定炉渣部分化学组成方法

[发明专利]吐温80化学组成的检测方法-CN201811257163.2有效
发明人：张阳洋;初玎鲒;冉文华;曹金;黄虎;胡瑞;李盛 -专利权人：湖北葛店人福药用辅料有限责任公司
申请日： 2018-10-26 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种吐温80化学组成的检测方法。
吐温 80 化学组成检测方法

[发明专利]一种化学机械研磨浆料组成-CN02131650.3无效
发明人：胡绍中;蔡腾群;许嘉麟 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2002-09-12 - 公布日： 2003-04-16 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：一种化学机械研磨浆料组成。包含有一研磨粒成分金属氧化物、预定浓度的溶解态臭氧及添加剂，浆料组成的pH值介于1－10之间。
一种化学机械研磨浆料组成

[发明专利]紧固件尖端涂层的化学组成-CN201080016577.1有效
发明人：杰罗尼莫·E.·拉特;劳伦斯·S.·谢尔顿;丹尼尔·P.·比尔;亚瑟·C.·瓦霍夫斯基;丹尼尔·V.·芊 -专利权人：伊利诺斯工具制品有限公司
申请日： 2010-04-15 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： F16B15/00 文献下载
摘要：一种紧固件易驱涂层，该涂层由树脂配制而成，该树脂至少具有两种不同的减摩成分，如硅酮和石墨。一种紧固件和紧固件条带，包括至少具有两种不同减摩成分的树脂配剂。
紧固尖端涂层化学组成

[发明专利]应用于标靶造影的化学组成物-CN201010173032.3无效
发明人：尤文正 -专利权人：尤文正
申请日： 2010-05-07 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： A61K49/00 文献下载
摘要：本发明公开一种应用于标靶造影的化学组成物，其应用于放射化学、核子造影、放射核种治疗及化学合成的领域，并包含与治疗性或诊断性配位体共轭且视情况与金属螯合的TA2S衍生物。
应用于造影化学组成

[发明专利]正型化学放大型光阻组成物-CN03121330.8无效
发明人：难波克彦;中西润次;上谷保则 -专利权人：住友化学工业株式会社
申请日： 2003-03-26 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种正型化学放大型光阻组成物，其包括交联剂、酸产生剂与本身不溶或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下会裂解且具有保护基，此保护基在裂解后使其转变成可溶于碱性水溶液的树脂组成物。此正型化学放大型光阻组成物可维持高敏感度与成膜率，又同时保有高分辨率。
化学大型组成

[发明专利]用于加工系统的材料和气体化学组成-CN00818379.1无效
发明人： A·D·拜利三世;A·M·舍普;D·J·赫姆克尔;M·H·维尔科克森 -专利权人：兰姆研究有限公司
申请日： 2000-11-14 - 公布日： 2003-06-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：该等离子体加工腔室包含基本不与送入该等离子体加工腔室的反应性气体化学物质反应的材料。此外,本发明公开了流入所述等离子体加工腔室的反应物气体。
用于加工系统材料气体化学组成

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