专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]简易防单插保护门-CN201711337396.9有效
  • 贺微微;胡海舰 - 贵派电器股份有限公司
  • 2017-12-14 - 2020-11-17 - H01R13/453
  • 本发明属于插座技术领域,公开一种简易防单插保护门,包括安装面、L接触部、N接触部和弹性部件安装部,L接触部和N接触部均设于安装面上且对称设于弹性部件安装部两侧,L接触部和N接触部结构相同;L接触部包括L接触面和L覆盖面,N接触部包括N接触面和N覆盖面,L接触面为L覆盖面与安装面之间的连接面;弹性部件安装部包括与L接触面相接的L连接部、与N接触面相接的N连接部、连接L连接部与N连接部的安装部,L接触面在自L接触面与L连接部的交接处至与交接处相对的边缘处与安装面呈4~10度角。本保护门可避免L接触部和N接触部被插头插片大力推开的极端现象。
  • 简易防单插保护
  • [发明专利]晶体管栅极接触件及其形成方法-CN202110813522.3在审
  • 李凯璇;杨世海;徐志安 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-07-19 - 2022-08-02 - H01L27/092
  • 本公开总体涉及晶体管栅极接触件及其形成方法。在一个实施例中,一种器件包括:源/漏区域,该源/漏区域与衬底的沟道区域邻接;接触蚀刻停止层,该接触蚀刻停止层位于源/漏区域上;第一源/漏接触件,该第一源/漏接触件延伸穿过接触蚀刻停止层,该第一源/漏接触件连接到源/漏区域;栅极结构,该栅极结构位于沟道区域上;栅极接触件,该栅极接触件连接到栅极结构;以及接触件间隔件,该接触件间隔件在栅极接触件周围,其中,接触件间隔件、栅极结构、接触蚀刻停止层和衬底共同限定栅极结构和第一源/漏接触件之间的空隙。
  • 晶体管栅极接触及其形成方法
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN201611114382.6有效
  • 郑凯予 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2016-12-07 - 2020-08-11 - H01L29/78
  • 该方法包括一系列步骤,包括:形成晶体管,该晶体管具有位于鳍式结构内并且邻近跨越鳍式结构的栅极结构的源/漏区;在源/漏区正上方形成第一源/漏接触件,并且第一源/漏接触件电连接至源/漏区;在晶体管和第一源/漏接触件上方沉积复合阻挡结构;以及在第一源/漏接触件正上方形成第二源/漏接触件,并且第二源/漏接触件电连接至第一源/漏接触件。该方法还包括:在沉积复合阻挡结构之前沉积第二蚀刻停止层并且在第一源/漏接触件正上方形成第二源/漏接触件,并且第二源/漏接触件电连接至第一源/漏接触件。该方法还包括在第二源/漏接触件上方形成接触件,并且接触件电连接至第二源/漏接触件。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]防单插保护门-CN201711337398.8在审
  • 贺微微;李福平 - 贵派电器股份有限公司
  • 2017-12-14 - 2018-05-18 - H01R13/453
  • 本发明属于插座技术领域,公开一种防单插保护门,包括安装面、L接触部、N接触部,和弹性部件安装区,弹性部件安装区与L接触部和N接触部固定连接,安装面为用于将防单插保护门安装至插座上的平整表面,弹性部件安装区设于安装面中心,L接触部和N接触部结构相同且相对于弹性部件安装区对称设置,L接触部和N接触部均设于安装面上;L接触部包括L接触面和L覆盖面,N接触部包括N接触面和N覆盖面,L接触面为L覆盖面与安装面之间的连接面,L接触面在自L覆盖面至与L覆盖面相对的安装面边缘处相对于安装面成20~25度角。防单插保护门采用L接触部和N接触部同时驱动,具优良的防单插安全性。
  • 防单插保护
  • [发明专利]像素结构与其制造方法-CN201410202925.4无效
  • 徐文义;陈茂松;黄国有 - 友达光电股份有限公司
  • 2014-05-14 - 2014-08-06 - H01L27/12
  • 一种像素结构包含栅极、栅极介电层、硅通道层、源硅欧姆接触层、漏硅欧姆接触层、源辅助欧姆接触层、漏辅助欧姆接触层、透明导电部、透明像素电极、源与漏。栅极介电层覆盖栅极。源硅欧姆接触层与漏硅欧姆接触层分开设置于硅通道层上。源辅助欧姆接触层、透明导电部与源依序置于源硅欧姆接触层上。漏辅助欧姆接触层置于漏硅欧姆接触层上。至少部分透明像素电极置于漏辅助欧姆接触层上。漏置于透明像素电极上,并置于漏辅助欧姆接触层上方。
  • 像素结构与其制造方法
  • [发明专利]具有优良摆动效果的简易防单插保护门-CN201711337836.0在审
  • 贺微微;胡海舰 - 贵派电器股份有限公司
  • 2017-12-14 - 2018-05-18 - H01R13/453
  • 本发明属于插座技术领域,公开一种具有优良摆动效果的简易防单插保护门,包括安装面、L接触部、N接触部和弹性部件安装部,L接触部和N接触部均设于安装面上且对称设于弹性部件安装部两侧,L接触部和N接触部结构相同;L接触部包括L接触面和L覆盖面,N接触部包括N接触面和N覆盖面,L接触面为L覆盖面与安装面之间的连接面,L覆盖面设于安装面一侧;弹性部件安装部包括与L接触面相接的L连接部、与N接触面相接的N连接部、将L连接部与N连接部连接的安装部;L覆盖面在从靠近至远离弹性部件安装区的方向上呈朝安装面倾斜的方式设置,L覆盖面与N覆盖面成170~175度夹角设置。
  • 具有优良摆动效果简易防单插保护
  • [发明专利]三维半导体装置-CN202211532530.1在审
  • 李槿熙;金景洙 - 三星电子株式会社
  • 2022-12-01 - 2023-09-12 - H01L27/06
  • 所述三维半导体装置包括:第一源/漏图案、第二源/漏图案、第三源/漏图案和第四源/漏图案,顺序地堆叠在基底上;接触结构,在第一源/漏图案至第四源/漏图案上;和接触线,在接触结构上。接触结构包括:第一源/漏图案上的第一有源接触件、第二源/漏图案上的第二有源接触件、第三源/漏图案上的第三有源接触件、和第四源/漏图案上的第四有源接触件。第一有源接触件的第一垂直延伸部分邻近于接触结构的一侧,第二有源接触件的第二垂直延伸部分邻近于接触结构的另一侧。第三有源接触件的第三垂直延伸部分置于第一垂直延伸部分与第二垂直延伸部分之间,更靠近第一垂直延伸部分。
  • 三维半导体装置
  • [发明专利]一种半导体器件及其制造方法-CN202111436365.5有效
  • 林智伟;陈维邦;郑志成;郭哲劭 - 晶芯成(北京)科技有限公司
  • 2021-11-30 - 2022-02-11 - H01L21/336
  • 本发明提供一种半导体器件及其制造方法,半导体器件的制造方法通过在栅极结构上方形成绝缘结构层;以及形成栅极接触孔,并形成源接触、漏接触和栅极接触,源接触孔的孔底暴露出源和绝缘结构层,漏接触孔的孔底暴露出漏和所述绝缘结构层,通过在栅极结构上方形成绝缘结构层,使得绝缘结构层保护所述栅极结构,从而使得源接触和漏接触可以有效的电连接并绝缘于栅极结构的区域,提升了源接触和漏接触制程的容许范围,减少了源接触和漏接触分别与栅极结构之间接触短路,从而减少了栅极接触与漏接触,及栅极接触与源接触短路的可能,有效提高了半导体器件的良率,达到了增加产量及营收的效果。
  • 一种半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]集成电路及其形成方法-CN201710727712.7有效
  • 谢佾苍;赵家忻;邱意为;许立德;夏英庭 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2017-08-23 - 2021-04-06 - H01L21/768
  • 一种方法包括在底部层间电介质中形成底部源/漏接触插塞。底部源/漏接触插塞连接至晶体管的源/漏区。该方法还包括在底部源/漏接触插塞上面形成层间电介质。在层间电介质中形成源/漏接触开口,其中通过源/漏接触开口暴露底部源/漏接触插塞。介电间隔件层形成为具有延伸到源/漏接触开口中的第一部分和位于层间电介质上方的第二部分。对介电间隔件层实施各向异性蚀刻,并且介电间隔件层的剩余垂直部分形成源/漏接触间隔件。填充源/漏接触开口的剩余部分以形成上部源/漏接触插塞。本发明的实施例还涉及集成电路及其形成方法。
  • 集成电路及其形成方法
  • [发明专利]电热开水壶跳杆式温度控制器-CN200810122199.X有效
  • 蒋仙保 - 蒋仙保
  • 2008-10-31 - 2010-06-09 - G05D23/08
  • 电热开水壶跳杆式温度控制器,包括盖板、主体和底盘连接器,盖板上安装高温金属片;主体底部装有低温金属片、L铜圈和N铜圈,L铜圈经L导电片与L固定架接触,N铜圈经N导电片与N固定架接触,主体上安装跳杆,跳杆有碰头甲、乙、丙,碰头甲与L导电片接触,碰头乙与N导电片接触,碰头丙与低温金属片接触;底盘连接器有L接触片、N接触片和接地触片,L接触片与L铜圈接触,N接触片与N铜圈接触,接地触片经接地轴与盖板接触,其特征在于主体上制有空心柱甲和固定柱,空心柱甲制有开口槽,空心柱甲内装大头顶杆,大头顶杆与底盘连接器接触,固定柱上固定弹簧甲,弹簧甲穿过开口槽与大头顶杆和跳杆的顶面相接触
  • 电热开水壶跳杆式温度控制器

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