“抛光法”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果446468个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]金刚石膜的固态稀土金属高速抛光方法-CN200810010281.3无效
发明人：黄树涛;许立福;周丽;焦可如 -专利权人：沈阳理工大学
申请日： 2008-01-30 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：金刚石膜的固态稀土金属高速抛光方法，抛光工具为固态稀土金属抛光盘(或抛光研具)，由抛光盘(或抛光研具)与金刚石膜的相对运动而产生的摩擦热，在金刚石膜和固态稀土金属抛光盘接触界面形成热化学反应环境，从而溶蚀金刚石膜抛光表面凸点碳原子，实现对金刚石膜的抛光目的。抛光过程在一般大气环境下进行。可实现平面金刚石膜和任意曲面金刚石膜的抛光，其中曲面金刚石膜的抛光可采用包络法和成型法两种方法，包络法采用球头固态稀土金属抛光棒为抛光工具，成型法采用固态稀土金属成型抛光头为抛光工具。提供了一种不需在真空抛光反应室进行，结构简单、抛光质量好、效率高、成本低，既可用于平面金刚石膜抛光，又可用于曲面金刚石膜抛光的抛光方法。
金刚石固态稀土金属高速抛光方法

[发明专利]一种高效全方位抛光方法-CN201510906016.3在审
发明人：翁强 -专利权人：福建省威诺数控有限公司
申请日： 2015-12-09 - 公布日： 2016-05-04 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种高效全方位抛光方法，应用于抛光设备：抛光工件与抛光轮的接触方向为法向矢量，抛光轮最低端与其圆心方向为纵向矢量，所述法向矢量与纵向矢量的夹角为抛光夹角；后进行抛光时，控制抛光工件或抛光轮进行水平摆动，使得抛光夹角保持在0-45°。本发明通过使抛光轮与工件表面的接触角度发生变化，增大了雕花表面沟坎处的抛光角度，大大提高了雕花工件的抛光效率和抛光质量。
一种高效全方位抛光方法

[发明专利]用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂-CN200910112364.8有效
发明人：卢承部;赵睿 -专利权人：福建省晋江新德美化工有限公司
申请日： 2009-08-14 - 公布日： 2010-01-13 - 主分类号： D06L1/12 文献下载
摘要：用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂，涉及一种酶制剂，尤其是涉及一种用于棉类织物染整加工的除氧抛光染色一浴法的酶制剂。提供一种主要适用于棉类织物染整加工的用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂及其应用。用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂，按质量百分比其组成为除氧酶5％～40％，中性纤维素酶20％～80％，非离子表面活性剂1％～20％，苯甲酸钠0.2％～5％，柠檬酸0.2％～3％，柠檬酸钠0.2％～5％，余为去离子水用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂可应用于棉类织物染整加工，实现除氧、抛光、染色三个工序合三为一的目的。
用于抛光染色一浴法酶制剂

[发明专利]一种工件抛光检测方法-CN201810034578.7有效
发明人：陈华;张连新;黄文;何建国;郑永成;唐小会;侯晶;刘坤;周涛;陈苓芷 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： G05B19/404 文献下载
摘要：本发明公开了一种工件抛光检测方法。该方法的装置由支架、抛光头、气缸、测头、安装板和激光测距仪组成。该方法将测头固定连接在气缸活塞的下端，气缸运动到下限位时，测头接触式测量工件表面，获取位姿数据，采用最小二乘法计算得到理论工件坐标系与机床坐标系间的变换矩阵，免去装调工件位姿的工序；激光测距仪位于抛光头Z向正下方，激光测距仪连续扫描工件表面获取等法向间距的抛光轨迹，校核工件位姿免装调时坐标系转换的正确性、校核等法向间距抛光数控程序的正确性、验证抛光数控程序与机床伺服性能的匹配性。该方法节省了抛光工艺辅助时间，保证了抛光工艺过程等法向间距抛光，提高了抛光去除的可靠性、抛光质量的可控性和抛光工艺效率。
一种工件抛光检测方法

[发明专利]一种工件抛光检测装置-CN201810034709.1有效
发明人：陈华;张连新;黄文;何建国;郑永成;唐小会;侯晶;刘坤;周涛;陈苓芷 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种工件抛光检测装置。该装置由支架、抛光头、气缸、测头、安装板和激光测距仪组成。工作时将测头固定连接在气缸活塞的下端，气缸运动到下限位时，测头接触式测量工件表面，获取位姿数据，采用最小二乘法计算得到理论工件坐标系与机床坐标系间的变换矩阵，免去装调工件位姿的工序；激光测距仪位于抛光头的Z向正下方，激光测距仪连续扫描工件表面获取等法向间距的抛光轨迹，校核工件位姿免装调时坐标系转换的正确性、校核等法向间距抛光数控程序的正确性、验证抛光数控程序与机床伺服性能的匹配性。该装置节省了抛光工艺辅助时间，保证抛光工艺过程等法向间距抛光，提高了抛光去除的可靠性、抛光质量的可控性和抛光工艺效率。
一种工件抛光检测装置

[实用新型]一种工件抛光检测装置-CN201820059324.6有效
发明人：陈华;张连新;黄文;何建国;郑永成;唐小会;侯晶;刘坤;周涛;陈苓芷 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种工件抛光检测装置。该装置由支架、抛光头、气缸、测头、安装板和激光测距仪组成。工作时将测头固定连接在气缸活塞的下端，气缸运动到下限位时，测头接触式测量工件表面，获取位姿数据，采用最小二乘法计算得到理论工件坐标系与机床坐标系间的变换矩阵，免去装调工件位姿的工序；激光测距仪位于抛光头的Z向正下方，激光测距仪连续扫描工件表面获取等法向间距的抛光轨迹，校核工件位姿免装调时坐标系转换的正确性、校核等法向间距抛光数控程序的正确性、验证抛光数控程序与机床伺服性能的匹配性。该装置节省了抛光工艺辅助时间，保证抛光工艺过程等法向间距抛光，提高了抛光去除的可靠性、抛光质量的可控性和抛光工艺效率。
抛光激光测距仪测头法向工件表面工件抛光检测装置抛光工艺数控程序抛光头位姿校核装调最小二乘法计算抛光工艺过程本实用新型工件坐标系机床坐标系接触式测量坐标系转换变换矩阵连续扫描抛光轨迹气缸活塞气缸运动伺服性能位姿数据安装板可控性匹配性下限位气缸下端支架去除机床验证保证

[发明专利]一种高精度异形硫化锌平面分光镜加工方法-CN202111394370.4有效
发明人：薛萌;刘楚;李鹏;袁兆峰;陈志航;袁武权;张文明;吴晓鸣;李辛;盛军;李岳峰;王一坚;孙红晓 -专利权人：中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明一种高精度异形硫化锌平面分光镜加工方法，属于光学冷加工领域；首先采用古典抛光法，当零件两个面的反射透射面形精度均达到任意φ150mm区域内RMS≤0.1λ，λ＝632.8nm，光洁度达到V级，表面粗糙度Ra≤6nm后，使用离子束抛光进行精修抛光直至达到RMS≤0.025λ或更高要求；本发明采用古典抛光法与离子束抛光相结合的方式，由于离子束抛光确定性加工的特点，克服了传统加工方法如：古典法、环抛法存在的不确定性强必须严格控制两种加工方法之间的过度条件，如古典法加工不能达到上述指标，则不能直接进行离子束抛光方法，如果在不满足条件的情况下直接使用，则会导致表面光洁度遭到严重破坏，无法达到工艺图纸要求。
一种高精度异形硫化锌平面分光镜加工方法

[发明专利]一种蓝宝石抛光废液的回收方法-CN201610441479.1有效
发明人：谢斌晖;林武庆;赖柏帆;陈凤英 -专利权人：福建晶安光电有限公司
申请日： 2016-06-20 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本发明公开了蓝宝石抛光废液的回收方法，废液中包含抛光铜盘的铜屑和抛光液中的钻石，结合震动筛分选、化学分离法与电镀法等方法对废液进行回收，提取废液中的铜和钻石，有利于降低生产成本。
一种蓝宝石抛光废液回收方法

[发明专利]抛光装置和抛光方法-CN200480018290.7在审
发明人：佐佐木达也;山田青史;胜间田好文;清水展;津野成亮;三谷隆 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2004-07-01 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种抛光装置具有抛光部分(302)，其被构造成抛光基板，和测量部分(307)，其被构造成测量形成于所述基板上的膜的厚度。所述抛光装置还具有接口(310)，其被构造成输入形成于待抛光的基板上的膜的期望厚度，和存储装置(308a)，其被构造成将关于过去的至少一个基板的抛光速度的数据存储在其中。所述抛光装置包括运算单元(308b)，其可操作，以通过使用加权平均法、基于所述抛光速度数据和所述期望厚度来计算抛光速度和最佳抛光时间，其中所述加权平均法对关于最新抛光的基板的抛光速度数据进行加权处理。
抛光装置方法

[发明专利]一种自适应法向气动补偿抛光装置-CN202111019926.1在审
发明人：丁建盛;刘钊辉;宋亚洲 -专利权人：佛山市爱陶机电设备有限公司
申请日： 2021-09-01 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及抛光设备领域，具体公开了一种自适应法向气动补偿抛光装置，所述的一种自适应法向气动补偿抛光装置，包括机架、驱动装置以及抛光机架，所述机架上设置有驱动装置，所述抛光机架与所述驱动装置连接，所述抛光机架内部设置有抛光组件以及伸缩组件，所述抛光组件滑动设置在所述抛光机架上，所述伸缩组件的一端与所述抛光机架连接，所述伸缩组件的另外一端与所述抛光组件连接，其中所述伸缩组件用于给予抛光组件一道垂直于运动轨迹的力。本发明具有通过在抛光机架内设置有伸缩组件，能够为抛光装置在进行抛光动作时始终给予抛光刀头一道垂直于运动轨迹的力，从而实现当抛光刀头磨损时实现自动补偿而不影响产品尺寸要求优点。
一种自适应气动补偿抛光装置

[发明专利]一种大口径平面镜加工工艺-CN202010877844.X有效
发明人：王永伟;马成;金正彬 -专利权人：马鞍山市江南光学有限公司
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B24B7/24 文献下载
摘要：步骤包括：步骤一、粗磨成型；步骤二、精磨、抛光第一个面；步骤三、精磨、抛光第二个面；步骤四、用古典抛光法依次精抛两个表面。所述步骤四中，用若干圆锥形胶点将工件粘接在铝底板上进行抛光。本发明操作步骤简单，且采用古典法抛光作为末道抛光工序，降低了生产成本，同时保证了较高的生产效率和成品合格率；在古典法抛光工艺步骤中，使用圆锥形胶点连接待抛光工件和铝底板，利用胶点为工件表面各处提供均匀拉力，使工件表面张力均匀分布，减小了抛光过程中工件的形变量，缩小了工件边缘至中心磨损量的差异，从而优化了工件表面光圈，提高了工件质量。
一种口径平面镜加工工艺

[发明专利]一种多段式复合型五金螺杆加工方法-CN202111008186.1在审
发明人：骆骥 -专利权人：惠州市萌富精密制品有限公司
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种多段式复合型五金螺杆加工方法，其步骤在于：配比抛光液，并将抛光液导入U型箱内；放料，化学法进行抛光加工；超声波法进行抛光加工；使得抛光液高速流动,利用磨料球对螺杆进行流体抛光加工；使U型箱自身进行旋转本发明利用抛光液对五金螺杆进行化学法的初步抛光处理，依靠超声波的振荡作用，对五金螺杆的表面磨削抛光，并使得U型箱内部的抛光液呈高速流动现象，配合磨料球对螺杆进行流体抛光法处理，使得U型箱转动，形成多层递进式的五金螺杆抛光操作
一种段式复合型五金螺杆加工方法

[发明专利]高密度碳酸稀土高温爆裂法制备超细高铈稀土抛光粉的方法-CN201410609062.2有效
发明人：周新木;李永绣;阮桑桑;常民民;李静 -专利权人：南昌大学
申请日： 2014-11-04 - 公布日： 2015-03-04 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种高密度碳酸稀土高温爆裂法制备超细高铈稀土抛光粉的方法，按如下步骤：（1）将高密度碳酸稀土在900℃～950℃温度下进行爆裂分解10-60分钟，900℃～1050℃保温2～6小时；（2）得到超细稀土氧化物粉体经分级后得到超细稀土抛光粉，控制抛光粉粒度D50为100nm-300nm之间。本发明制备的抛光粉具有超细粒度，有较好的粒度分布和很好的悬浮性，原料来源广，可规模性生产超细稀土抛光粉，比水热法，溶胶-凝胶法、微乳液法等方法简单易行，易实现工业化生产，对光学玻璃、硅晶片、显示屏等材料的抛光可提高表面性能，在磁流变大型光学玻璃的抛光上，尤其显示出优越性。
高密度碳酸稀土高温爆裂法制细高抛光方法

[发明专利]超薄晶片的抛光方法-CN201610040761.9在审
发明人：夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2016-01-21 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于超薄晶片的抛光方法，所述的抛光方法利用胶带和/或胶体对超薄晶片进行贴膜，然后再用模板法进行抛光。所述胶带包含两层胶膜和提供机械力的表层膜，表层膜通过胶膜跟晶片结合在一起。所述胶体用旋转涂布法涂布，或者用贴膜法涂布，或者用喷胶法涂布；涂布后的胶体直接进行固化，或者先通过烘烤表面流平后固化。其优点在于1）新增的膜可以作为晶片的一部分嵌入到真空吸附垫模板里面，使晶片在模板中不易滑出，且可以通过调节膜的厚度来对晶片的抛光后的厚度进行控制；2）新增的膜有较高的机械强度，可以给晶片提供机械支撑作用，使晶片在抛光过程中不易碎片。
超薄晶片抛光方法

[发明专利]一种用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂及其应用-CN201210064266.3无效
发明人：郁磊;陶丁伟;邹联 -专利权人：无锡德冠生物科技有限公司
申请日： 2012-03-13 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： D06L1/12 文献下载
摘要：一种用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂及其应用，属于酶制剂技术领域。本发明用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂，按质量百分比其组成为过氧化氢酶5％～10％，纤维素酶30％～50％，山梨醇5％～10％，山梨酸钾0.1％～0.3％，余为去离子水。用于除氧抛光染色一浴法的酶制剂可应用于棉类织物染整加工，实现除残余双氧水、抛光、染色三个工序合三为一的目的。与现有酶制剂相比，应用本发明的除氧抛光染色一浴法的酶制剂可缩短加工时间90min以上，明显提高生产效率，并能达到显著减少用水量、降低能耗、减少污水排放和降低成本的目的。
一种用于抛光染色一浴法酶制剂及其应用

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条