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[发明专利]晶片透镜制造装置、成型模具及晶片透镜的制造方法-CN201080037689.5有效
发明人：藤井雄一;岩井田贤一;寺本东吾;今井利幸;佐藤彰;细江秀 -专利权人：柯尼卡美能达精密光学株式会社
申请日： 2010-08-09 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： B29C39/10 文献下载
摘要：晶片透镜制造方法备有：分配工序，在具有多个腔、且各腔被配置成间拔状态的成型模具中滴下树脂；对准工序，调整所述成型模具与玻璃基板的位置；转印工序，将所述成型模具和所述玻璃基板的一方压到另一方；固化工序，使所述树脂固化；脱模工序，从所述成型模具脱模所述玻璃基板；作为1循环，反复从分配工序到脱模工序的处理，在所述玻璃基板上依次形成树脂透镜部，其中，在各循环的对准工序中，在形成好的所述透镜部之间，配置所述成型模具的腔。
晶片透镜制造装置成型模具方法

[发明专利]半导体器件的制造方法、衬底处理装置及气体供给系统-CN201710118278.2有效
发明人：渡桥由悟;汤浅和宏;森谷敦;中矶直春 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：通过将下述循环进行规定次数，从而在衬底上形成晶种层的工序，循环包含对衬底供给卤系的第一处理气体的工序，对衬底供给非卤系的第二处理气体的工序，和对衬底供给含氢气体的工序；以及对衬底供给第三处理气体从而在晶种层上形成膜的工序
半导体器件制造方法衬底处理装置气体供给系统

[发明专利]起弧调整装置、焊接系统以及起弧调整方法-CN201811272145.1有效
发明人：中川慎一郎;广田周吾 -专利权人：株式会社达谊恒
申请日： 2018-10-29 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： B23K9/067 文献下载
摘要：提供能自动缩短焊接工序的循环时间、特别是焊炬到达焊接开始位置起到产生电弧为止所需的时间的起弧调整装置。起弧调整装置调整焊接工序中的起弧次序，具备：取得部，其取得表示焊接工序中或焊接工序后的焊接状态的焊接数据；和次序调整部，其基于该取得部中取得的焊接数据来调整所述起弧次序，使得缩短焊接工序的循环时间。
调整装置焊接系统以及方法

[发明专利]半导体器件的制造方法、衬底处理装置及程序-CN201680085630.0在审
发明人：堀田英树;寺崎昌人 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-09-20 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：包括：通过对衬底供给原料气体而在衬底上形成无定形状态的晶种层的工序；通过对晶种层进行热处理而使晶种层多晶化的工序；和，通过将下述循环实施规定次数而在经多晶化的晶种层上形成氧化膜、并且将经多晶化的上述晶种层氧化的工序，所述循环为非同时地实施对衬底供给原料气体的工序、和对衬底供给含氧气体及含氢气体的工序。
晶种层衬底多晶化供给原料衬底处理装置半导体器件热处理反应气体含氢气体含氧气体非同时无定形氧化膜基底制造

[发明专利]半导体器件的制造方法及衬底处理装置-CN201510543534.3有效
发明人：小仓慎太郎;笹岛亮太 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2015-08-28 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：所述半导体器件的制造方法包括下述工序：将非同时地进行对处理室内的衬底供给原料气体的工序、从处理室内排出原料气体的工序、对处理室内的衬底供给含氧气体的工序、从处理室内排出含氧气体的工序、对处理室内的衬底供给含氢气体的工序、及从处理室内排出含氢气体的工序作为一循环，通过以规定次数进行该循环，在衬底上形成膜；所述半导体器件的制造方法中，使排出含氧气体的工序及排出含氢气体的工序中的气体排出效果及气体排出效率中的至少任一个比排出原料气体的工序中大
排出衬底半导体器件室内含氢气体含氧气体衬底处理装置原料气体制造供给原料非同时

[实用新型]一种基于浇注工艺循环水的热泵型一体机水空调系统-CN202021881427.4有效
发明人：王东强;李海滨;梁为民 -专利权人：沧州坤兴不锈钢制品有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： F24F5/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基于浇注工艺循环水的热泵型一体机水空调系统，包括：循环水输入管线(1)，循环水入口(2)，热泵型一体机水空调主体(3)，循环水输入管线(1)上设置的水泵(4)以及浇注工序中频炉(5)；其中，浇注工序中频炉(5)通过循环水输入管线(1)连接热泵型一体机水空调主体(3)，用于将高温循环水在水泵(4)的作用下经过所述循环水入口(2)送入热泵型一体机水空调主体(3)作为热源进行再利用；热泵型一体机水空调主体(3)通过循环水输出管线(6)与浇注工序中频炉(5)连接，用于在热泵型一体机水空调主体输出热量后，将温度下降的循环水通过循环水输出管线(6)再次输送回中频炉(5)中进行循环使用。
一种基于浇注工艺循环热泵型一体机空调系统

[发明专利]干燥方法-CN202180061357.9在审
发明人：田中辰己 -专利权人：不二商事株式会社
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： F26B5/04 文献下载
摘要：干燥方法包括：初始减压低温化工序(S2)，通过使减压泵(12a)工作而使腔室(11)内减压低温化；以及干燥循环工序(S3)，在初始减压低温化工序(S2)之后，为了使干燥对象物(W)干燥而反复进行多次。干燥循环工序(S3)具备：微波加热工序(S32)，向腔室(11)内照射微波，对腔室(11)内的干燥对象物(W)进行加热；以及减压低温化工序(S33)，在微波加热工序(S32)之后，在停止了微波的照射的状态下
干燥方法

[发明专利]全负压焦炉煤气净化组合工艺-CN201010290050.X有效
发明人：沈立嵩;沈立波;任强;毕振清 -专利权人：马鞍山钢铁股份有限公司
申请日： 2010-09-19 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： C10K1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种全负压焦炉煤气净化组合工艺，其特征在于，初冷工序、电捕工序、脱氨工序、洗苯工序、脱硫工序和鼓风工序顺序联接。该工艺相比较氨硫循环洗涤工艺中采用氨水作为煤气脱硫的吸收剂，提高了对煤气中H2S的吸收推动力，净化后煤气的H2S含量低于300mg/m3，优于氨硫循环洗涤工艺的H2S含量低于500mg/m3的指标，相应减少后续煤气用户燃烧排放SO2；同时，由于吸收推动力的提高，煤气脱硫工序的能耗也有所下降。
全负压焦炉煤气净化组合工艺

[发明专利]空气液化分离方法及装置-CN201080032477.8有效
发明人：明畠正实;汤泽茂 -专利权人：大阳日酸株式会社
申请日： 2010-07-20 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： F25J3/04 文献下载
摘要：其中，该空气液化分离方法具有：原料空气压缩工序，其将原料空气整体作为高于中压塔的运行压力的第1设定压力的升压原料空气；吸附净化工序，其从升压原料空气中去除杂质而形成为升压净化空气；循环空气合流工序，其使升压净化空气与升压返回空气合流而形成为循环空气；冷却工序，其将把循环空气分流为2支而得到的第1支流空气冷却至第1设定温度而形成为中压塔导入空气，将第2支流空气冷却至高于第1设定温度的第2设定温度而形成为膨胀用空气；膨胀工序，其使膨胀用空气绝热膨胀至低于第1设定压力的第2设定压力而形成为低温空气；将低温空气的一部分导入中压塔的工序；升温工序，其使低温空气的剩余部分恢复温度而形成为返回空气；循环压缩工序，其将该返回空气升压而形成为升压返回空气；将中压塔导入空气导入中压塔的工序
空气液化分离方法装置

[发明专利]一种活性白土专用制备装置的使用方法-CN201610626757.0有效
发明人：杨松 -专利权人：杨松
申请日： 2016-08-03 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C01B33/40 文献下载
摘要：本发明涉及环保和循环经济技术领域，具体涉及一种活性白土专用制备装置的使用方法。其特征是以锅炉尾气作为循环流化床燃煤锅炉飞灰的输送、活化介质和活化所需热能与作为活化剂的硫酸在活化塔组件内完成活化工序，循环流化床燃煤锅炉飞灰在气箱脉冲袋式捕集器完成与酸雾尾气分离工序，提升机Ⅰ把循环流化床燃煤锅炉飞灰输送到回转漂洗筒完成漂洗工序，经离心脱水机脱水后由提升机Ⅱ进入二次活化烘干回转炉的循环流化床燃煤锅炉飞灰在作为活化介质和热能提供的锅炉尾气帮助下完成二次活化、烘干工序。
一种活性专用制备装置使用方法

[发明专利]半导体处理用的成膜方法和装置-CN200810142874.5有效
发明人：野寺伸武;松永正信;长谷部一秀;梅泽好太;周保华 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-06-11 - 公布日： 2008-12-17 - 主分类号： H01L21/318 文献下载
摘要：在能够选择性地供给包括硅烷气体的第一处理气体和包括氮化气体的第二处理气体的处理区域内进行多个循环，在被处理基板上形成氮化硅膜。各循环包括：进行第一处理气体的供给，另一方面，维持遮断第二处理气体的供给的第一供给工序；和进行第二处理气体的供给，另一方面，维持遮断第一处理气体的供给第二供给工序。该方法多个重复执行以下循环：第二供给工序包括激励第二处理气体的激励期间的第一循环组和第二供给工序不包括激励第二处理气体的期间的第二循环组。
半导体处理方法装置

[发明专利]一种高温四氯化钛含尘气体的处理系统及方法-CN201810805144.2有效
发明人：吴震坤;叶陈;曹金松 -专利权人：东华工程科技股份有限公司
申请日： 2018-07-20 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： C01G23/02 文献下载
摘要：所述系统包括氯化炉、回转窑、冷却窑、淋洗塔、淋洗塔收集槽、离心机、粗四氯化钛预热器、淋洗塔Ⅱ、循环水换热器Ⅰ、循环水换热器Ⅱ、冷冻液换热器、粗四氯化钛中间槽；高温四氯化钛含尘气体的处理方法包括：湿渣烘培工序、冷凝打浆工序、固液分离工序、进料换热工序、一冷工序、二冷工序。本发明将现有的激冷与气固分离工序省去，而设置有湿氯化渣烘培工序、冷凝打浆工序和固液分离工序，提高了1％左右的四氯化钛的回收率，同时进料换热工序中，可以用较少的蒸汽将110℃～119℃的该粗四氯化钛加热到设定温度后去精制工序
一种高温氯化钛含尘气体处理系统方法

[发明专利]半导体器件的制造方法、衬底处理装置-CN201610509911.6有效
发明人：松冈树;广濑义朗;桥本良知 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：该半导体器件的制造方法具有通过执行规定次数的循环而在衬底上形成膜的工序，该循环中不同时地执行如下工序：向处理室内的衬底供给包含规定元素的原料的工序、从处理室内除去原料的工序、向处理室内的衬底供给包含氮、碳以及氢的第1反应体的工序、从处理室内除去第1反应体的工序、向处理室内的衬底供给包含氧的第2反应体的工序、从处理室内除去第2反应体的工序，将除去原料的工序的实施时间设定为比除去第1反应体的工序的实施时间长，或者将除去第2反应体的工序的实施时间设定为比除去第1反应体的工序的实施时间长。
半导体器件制造方法衬底处理装置

[发明专利]半导体器件的制造方法、衬底处理装置-CN201910505141.1有效
发明人：松冈树;广濑义朗;桥本良知 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：该半导体器件的制造方法具有通过执行规定次数的循环而在衬底上形成膜的工序，该循环中不同时地执行如下工序：向处理室内的衬底供给包含规定元素的原料的工序、从处理室内除去原料的工序、向处理室内的衬底供给包含氮、碳以及氢的第1反应体的工序、从处理室内除去第1反应体的工序、向处理室内的衬底供给包含氧的第2反应体的工序、从处理室内除去第2反应体的工序，将除去原料的工序的实施时间设定为比除去第1反应体的工序的实施时间长，或者将除去第2反应体的工序的实施时间设定为比除去第1反应体的工序的实施时间长。
半导体器件制造方法衬底处理装置

[发明专利]碱水电解方法-CN201680076923.2有效
发明人：真锅明義 -专利权人：迪诺拉永久电极股份有限公司
申请日： 2016-12-22 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： C25B15/00 文献下载
摘要：根据本发明，提供一种碱水电解方法，其特征在于，在反复进行间歇式运转的碱水电解方法中，包括如下工序：电解工序，将电解液(16)收纳在循环罐(5)中，将循环罐(5)内的电解液(16)供给至阳极室(2)和阴极室(3)，并使阴极室(3)中产生的电解液和阳极室(2)中产生的电解液返回至循环罐(5)中，在循环罐(5)内混合后，使经混合的电解液一边向阳极室(2)和阴极室(3)再循环一边进行碱水电解；和，在电解工序开始前，在电解液(16)中添加包含可溶性金属盐的催化剂活化材料的工序，在电解工序中，阴极表面镀覆催化剂活化材料中的金属。
电解液水电解循环罐电解工序阴极室阳极室可溶性金属盐输出功率波动阴极催化剂活化镀覆催化剂间歇式运转活化材料性能劣化阴极表面收纳阳极内混合再循环极室金属返回运转