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- [发明专利]一种封装基板的结构及其封装方法-CN201611015530.9有效
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张黎;赖志明;陈锦辉;陈栋
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江阴长电先进封装有限公司
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2016-11-18
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2019-04-19
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H01L23/498
- 本发明涉及一种封装基板的结构及其封装方法,属于半导体封装技术领域。其包括普通基板(20)、超高密度基板(10)、高密度芯片(51)、低密度芯片(53)和包封层Ⅰ(310),超高密度基板(10)嵌于包封层Ⅰ(310)内,超高密度基板(10)与高密度芯片(51)倒装连接,在超高密度基板(10)的垂直区域外形成若干个基板外层金属电极(110),基板外层金属电极(110)通过盲孔Ⅱ(150)与普通基板(20)连接、其上表面与低密度芯片(53)倒装连接,部分基板外层金属电极(110)的下表面与超高密度基板(10)的部分焊盘连接。本发明的封装结构采用圆片级封装方法实现,实现了超高密度基板和普通基板的集成,提升了封装可靠性,有利于产品良率的提升。
- 一种封装结构及其方法
- [实用新型]一种封装基板的结构-CN201621237183.X有效
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张黎;赖志明;陈锦辉;陈栋
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江阴长电先进封装有限公司
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2016-11-18
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2017-06-06
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H01L23/498
- 本实用新型涉及一种封装基板的结构,属于半导体封装技术领域。其包括普通基板(20)、超高密度基板(10)、高密度芯片(51)、低密度芯片(53)和包封层Ⅰ(310),超高密度基板(10)嵌于包封层Ⅰ(310)内,超高密度基板(10)与高密度芯片(51)倒装连接,在超高密度基板(10)的垂直区域外形成若干个基板外层金属电极(110),基板外层金属电极(110)通过盲孔Ⅱ(150)与普通基板(20)连接、其上表面与低密度芯片(53)倒装连接,部分基板外层金属电极(110)的下表面与超高密度基板(10)的部分焊盘连接。本实用新型的封装结构采用圆片级封装方法实现,实现了超高密度基板和普通基板的集成,提升了封装可靠性,有利于产品良率的提升。
- 一种封装结构
- [实用新型]一种混合密度封装基板的结构-CN201621237011.2有效
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张黎;赖志明;陈锦辉;陈栋
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江阴长电先进封装有限公司
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2016-11-18
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2017-06-06
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H01L23/498
- 本实用新型涉及一种混合密度封装基板的结构,属于半导体封装技术领域。其包括普通基板(20)、超高密度基板(10)、高密度芯片(51)、低密度芯片(53)和包封层Ⅰ(310),超高密度基板(10)嵌于包封层Ⅰ(310)内,超高密度基板(10)与高密度芯片(51)倒装连接、其下表面通过盲孔Ⅰ(130)与普通基板(20)连接,在超高密度基板(10)的垂直区域外形成若干个基板外层金属电极(110),基板外层金属电极(110)通过盲孔Ⅱ(150)与普通基板(20)连接、其上表面与低密度芯片该封装结构采用圆片级封装方法实现,实现了超高密度基板和普通基板的集成,提升了封装可靠性,有利于产品良率的提升。
- 一种混合密度封装结构
- [发明专利]SOI基板的评估方法-CN201580024451.1有效
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大槻刚
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信越半导体株式会社
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2015-02-25
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2019-06-04
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H01L21/66
- 本发明涉及一种SOI基板的评估方法,包含:预先于测定用SOI基板形成装置,求取测定用SOI基板的界面态密度与施加高周波时漏功率的关系,或是将界面态密度换算为电阻而求取换算的电阻与该漏功率的关系;测定评估对象SOI基板的界面态密度而求取界面态密度,或是求取基于界面态密度所换算得出的电阻;以及借由测定评估对象SOI基板的界面态密度,基于预先求取界面态密度与漏功率的关系,评估评估对象SOI基板的漏功率,或是借由测定评估对象SOI基板的界面态密度所换算的电阻,基于预先求取电阻与漏功率的关系,评估评估对象SOI基板的漏功率。如此,不实际测定高周波特性,借由尽可能简单的方法评估适合高周波的基板。
- soi评估方法
- [实用新型]高密度印刷电路板-CN202221386854.4有效
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陈加志;张君超
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苏州维拉利电子科技有限公司
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2022-06-01
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2022-11-11
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H05K1/02
- 本实用新型涉及电路板技术领域,具体为高密度印刷电路板包括高密度印刷电路板基板,高密度印刷电路板基板的顶面设置有高密度集成电路片;边槽,开设在高密度印刷电路板基板的侧壁,边槽的表面设置有弹性夹片,弹性夹片的表面设置有硅胶连片;抠取槽,开设在高密度印刷电路板基板的侧壁;有益效果为:本实用提出的高密度印刷电路板侧边加装多组弹性夹片,高密度印刷电路板基板被推入对应卡槽时,弹性夹片受压弹性形变,且弹性夹片向外侧弹性扩撑,实现高密度印刷电路板基板预固定在卡槽中不脱落
- 高密度印刷电路板
- [发明专利]单晶硅基板中的缺陷密度的控制方法-CN201980039589.7有效
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竹野博
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信越半导体株式会社
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2019-05-13
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2022-07-26
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C30B33/04
- 本发明提供一种单晶硅基板中的缺陷密度的控制方法,其中进行准备单晶硅基板的准备工序、粒子束照射工序及粒子束照射工序后的热处理工序,所述控制方法的特征在于,在进行准备工序之前,具有预先对试验用单晶硅基板照射粒子束后进行热处理并测定产生的缺陷密度的测定工序、以及取得所测定的缺陷密度与氮浓度的相关关系的相关关系取得工序,并基于已取得的相关关系,以使热处理工序后的单晶硅基板中的缺陷密度成为目标值的方式调节准备的单晶硅基板的氮浓度。由此提供一种在利用粒子束照射与热处理控制缺陷密度的器件的制造工序中,能够减小起因于单晶硅基板的缺陷密度的偏差,以高精度控制缺陷密度的单晶硅基板中的缺陷密度的控制方法。
- 单晶硅中的缺陷密度控制方法
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