专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种用于立式HVPE设备的氨气匀流结构-CN202122699921.X有效
  • 丁成;高明哲 - 上海玺唐半导体科技有限公司
  • 2021-11-05 - 2023-01-31 - B01J19/18
  • 这种用于立式HVPE设备的氨气匀流结构,包括筒体、载盘、以及设于筒体内腔上部金属存放腔体空间中心位置设置的氯化氢导入管、设置氯化氢导入管两侧的穿透金属存放腔体底板的载气导入管和氨气导入管、以及设置在氯化氢导入管下方并同样穿透金属存放腔体底板的氯化导气管,在氨气导入管和载气导入管的出口下部的筒体上部设有一个与筒体四周内壁固接的圆环挡板,并同时在该圆环挡板下部的氯化氢导入管管壁外上增设一片直径小于上部圆环挡板的圆挡板,构成使氨气先沿着圆环挡板与氯化氢导入管的圆环间隙送入圆挡板与圆环挡板之间的空间,随后又沿圆环挡板外圈边缘进入下部筒体内腔参与氮化制作。
  • 一种用于立式hvpe设备氨气结构
  • [实用新型]一种石英-CN202221267335.6有效
  • 曾国治;周铁军;罗小龙;易明辉 - 广东先导微电子科技有限公司
  • 2022-05-25 - 2022-12-30 - C30B29/42
  • 本实用新型提供了一种石英。将石英本体设置为圆柱形,并在石英本体的上侧开设槽口;以及将连接件的一端固定于槽口的一侧,另一端固定于槽口的另一侧。通过上述公开的石英,通过在石英本体的槽口处增加连接件,能够增加槽口处的束缚力,进而提升石英整体的稳定性,进而能够保证石英本体在高温条件下合成多晶料棒时不会变形,并保证了多晶料棒的形状,相较于现有技术,由于本实用新型的石英本体不会在高温条形下变形,使得石英本体不会因变形而破裂,有效避免石英本体内的砷原料泄漏而污染环境。
  • 一种石英
  • [实用新型]HVPE密封式自动源注入系统-CN202021897628.3有效
  • 王亮;李枝旺 - 镓特半导体科技(铜陵)有限公司
  • 2020-09-03 - 2021-06-01 - C30B25/02
  • 本实用新型公开了HVPE密封式自动源注入系统,它包括:(1);附属(2),所述附属位于上方并通过管道与连通;控制阀(3),所述控制阀安装于附属之间的管道上;电子天平(4);所述电子天平安装在附属上;PLC(5),所述PLC与控制阀和电子天平信号连接;电脑(6),所述电脑与PLC信号连接。本实用新型的有益效果是利用电脑控制整个系统,实现自动化的控制,而且精确度和可靠性较高,同时也可以减少对HVPE反应腔的污染,更好地保证源的品质同时提高了产品的良率,减小了不必要的生产成本。对其保养或者注入新源时,勿需拆下整体设备进行处理,大大减少人力物力以及保养时间,更有效地降低生产成本。
  • hvpe密封自动注入系统
  • [发明专利]一种生长室和氮化体材料生长方法-CN200710176647.X有效
  • 张剑平;高英;武帅;周瓴 - 张剑平;高英
  • 2007-10-31 - 2008-07-23 - C30B29/38
  • 本发明公开了一种生长室和氮化体材料生长方法,属于半导体工艺领域。所述生长室包括:气体加热腔、喷淋头、蒸气室、水冷生长室壁、加热装置和生长托。所述方法包括:持续向气体加热腔通入氨气和载气,把金属置于蒸气室内;持续向蒸气室输入氮气、氢气或氩气,使蒸气室的压力大于气体加热腔的压力;缓慢升高生长托的温度到大于或等于1050℃;缓慢升高蒸气室和气体加热腔的温度,将温度升高到大于或等于1100℃,蒸气与氨气在生长托上的衬底表面进行反应生成氮化;生长完成后,降低蒸气室和气体加热腔的温度,再降低生长托的温度,取出生成的氮化体材料。本发明的生长速度快,且氮化的质量高。
  • 一种生长氮化材料方法
  • [发明专利]一种砷化多晶的制备方法-CN202310476686.0在审
  • 曾国治;周铁军;罗小龙;易明辉 - 广东先导微电子科技有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-07-21 - C30B29/42
  • 本发明属于砷化多晶合成领域,公开了一种砷化多晶的制备方法。包括以下步骤:(1)将单质砷、单质分别置于砷中,将砷置于石英管,将石英管置于合成炉内,石英帽、石英管管口和部分砷位于合成炉低温区,另一部分砷位于合成炉中温区,位于合成炉高温区;(2)低同步升温,单质砷与单质发生反应;(3)采用水平定向凝固法在内生成砷化多晶料棒;(4)控制温度,使富砷凝结在石英帽上;(5)同步降温,至最后整体均降温到600℃以下,程序运行完毕。
  • 一种砷化镓多晶制备方法
  • [实用新型]一种水平砷化单晶双生长的装置-CN201922421357.8有效
  • 许所成;李万朋;权盼;赵敬平;越云雷;许兴 - 有研光电新材料有限责任公司
  • 2019-12-27 - 2020-09-11 - C30B11/00
  • 本实用新型涉及一种水平砷化单晶双生长的装置。一种水平砷化单晶双生长的装置包括:石英管;位于石英管内上部的上石英;位于石英管内下部的下石英;至少一个闭合支撑环;以及至少一个C支撑件,至少一个支撑桥;其中,上石英和下石英的端部都设有籽晶腔,并且上石英和下石英的籽晶腔位于石英管的同一端;下石英的籽晶腔穿过闭合支撑环,并且上石英的籽晶腔支撑在闭合支撑环的上方;一个C支撑件与一个支撑桥配合形成闭合孔,下石英穿过闭合孔,并且上石英支撑在所述支撑桥的上方本实用新型采用双设计,一次可生产两根单晶,相比现有技术提高了生产效率。
  • 一种水平砷化镓单晶双舟生长装置
  • [实用新型]一种具有石英载源体固定装置的石英预扩-CN201621255245.X有效
  • 李超;纪锦程;顾晶伟;刘宗帅 - 安徽富芯微电子有限公司
  • 2016-11-15 - 2017-05-03 - H01L21/683
  • 本实用新型公开一种具有石英载源体固定装置的石英预扩,其包括石英预扩、石英载源体以及石英载源体固定装置;所述石英载源体固定装置为固定连接到所述石英预扩一侧的石英;所述石英包括第一部、第二部以及第三部;所述第一部和所述第二部分别垂直连接到所述石英预扩;所述第三部垂直连接到所述第一部和所述第二部之间;所述第三部设有放置所述石英载源体的凹槽。本实用新型将石英作为石英载源体固定装置固定安装到石英预扩一侧,并在石英的第三部设有放置石英载源体的凹槽,保证了石英以及的石英载源体的位置固定不变,结构简单,有效提高了产品表面浓度的一致性和均匀性
  • 一种具有石英载源体固定装置镓预扩舟
  • [发明专利]氢化物气相外延的结构-CN201910554424.5有效
  • 庞云玲 - 紫石能源有限公司
  • 2019-06-25 - 2023-02-10 - C30B25/14
  • 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种氢化物气相外延的结构,包括体,还包括:所述体的顶部设置源入口,所述体内用于盛放液态源,所述体内设置反应物出口管路,所述反应物出口管路的顶端高于液态源的液面,所述反应物出口管路的底端穿出所述体的底壁;以及分气盘,所述分气盘设置在所述体内的底壁上,在所述分气盘的侧面设置氯化氢进口,在所述分气盘的管路的顶端设置至少一个氯化氢出口,各个所述氯化氢出口均位于液态源的液面的下方该结构具有氯化氢转化率高、氯化氢与液态源的接触面积大以及有效地延长了氯化氢的路径的优点。
  • 氢化物外延结构
  • [实用新型]一种水平砷化单晶双生长的装置-CN202221798787.7有效
  • 吕利宁;代晓波;彭春文;彭海松;蒙泽志;粟誉 - 独山中科晶元信息材料有限公司
  • 2022-07-13 - 2023-10-03 - C30B11/00
  • 本实用新型涉及半导体制备技术领域,且公开了一种水平砷化单晶双生长的装置,包括生长管、底座、放置架、器皿、籽晶,所述底座固定安装在生长管的内壁,所述放置架设置在底座的顶部,所述放置架分为上下两层,该水平砷化单晶双生长的装置,通过启动电机使绕绳辊和双螺纹螺杆转动,配合双螺纹螺杆分别与两个活动块正螺纹连接和反螺纹连接,使两个下夹块、上夹块互相靠近将两个器皿的前后两侧夹紧固定,以及拉绳在绕绳辊上收紧,带动拉板向左移动,使两个挡杆向左移动,配合两个挡板将两个器皿的左右两侧挡住,实现了防止两个器皿发生晃动影响制备,提高器皿稳定性的效果。
  • 一种水平砷化镓单晶双舟生长装置
  • [发明专利]一种氧化薄膜的制备方法-CN201511021600.7在审
  • 王晓峰;李丽娟;霍自强;王军喜;李晋闽;曾一平 - 中国科学院半导体研究所
  • 2015-12-31 - 2016-06-01 - C30B29/16
  • 本发明公开了一种氧化薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤1,将源放入反应内,反应放入石英反应管内;步骤2,将清洗、吹干后的衬底放在衬底托上,放入石英反应管内;步骤3,打开源气路,让惰性气体通过反应进入石英反应管,反应的出口正对衬底表面;步骤4,打开氧源气路,让惰性气体携带氧源进入石英反应管;步骤5,加热石英反应管;加热石英反应管内的反应和衬底;步骤6,调节反应和衬底的工作温度,设定生长时间,在衬底上沉积氧化薄膜利用本发明的方法,可以采用工业原料和碘作为原材料,选用商品化的蓝宝石和硅作为衬底,在常压条件下制备氧化薄膜。
  • 一种氧化薄膜制备方法

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