专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种制备/维垂直异质的方法-CN202310147363.7在审
  • 周溯媛;祁祥;王广;姚博文 - 湘潭大学
  • 2023-02-22 - 2023-05-16 - C30B25/18
  • 本发明公开了一种制备/维垂直异质的方法。本发明主要是,两步逆向气流化学气相沉积直接制备/维垂直异质。使用第一步逆向气流化学气相沉积单层WSe2薄片,在升温阶段引入逆向气流,钨粉末作为前驱体,在管式炉中加热,在基片上沉积单层WSe2薄片;再使用第步逆向气流化学气相沉积法在生长好WSe2薄片上沉积In2Se3异质,在升温阶段引入逆向气流,将第一步生长好的WSe2薄片作为衬底,铟粉末作为前驱体进行加热,得到/维垂直异质。本发明由于在升温过程引入逆向气流,能够避免升温阶段化合物提前沉积,避免化合物过饱和生长,能够获得大尺寸,高结晶度和平整度的异质,性能稳定,应用价值更高,反应常压下进行,对设备要求低,适合大规模生产。
  • 一种制备硒化钨硒化铟二维垂直异质结方法
  • [发明专利]硫化钼/垂直异质的制备方法-CN201910688508.8有效
  • 李梓维;李方;杨文;梁德琅;潘安练 - 湖南大学
  • 2019-07-29 - 2021-05-18 - H01L21/02
  • 本发明涉及一种硫化钼/垂直异质的制备方法。方法包括:采用在氧化硅/硅基底上用化学气相沉积的方法先制备出硫化钼薄层,然后再次运用化学气相沉积的方法直接在上述基底上沉积薄层,并在NaI的辅助下,在600‑700℃的生长温度下实现所述两种材料构成的垂直异质本发明硫化钼/垂直异质材料的制备方法工艺简单,原料中添加低熔点盐并结合成熟的基础工艺,能够避免底层过渡金属硫化物(TMDCs)的原子替换、热分解、合金等不利因素,实现高质量、原子级陡峭界面异质的生长本发明提出了一种新的生长机制,能更加深入理解TMDCs垂直异质结在成核和动力学方面的生长过程,为基础研究和潜在的器件应用定义了一个多功能的材料平台。
  • 二硫化钼二硒化钨垂直异质结制备方法
  • [发明专利]基于单晶的垂直异质外延高定向金属铂的方法-CN202210359112.0在审
  • 吴燕庆;王欣;刘视远 - 北京大学
  • 2022-04-07 - 2023-10-24 - C30B28/12
  • 本发明公开了一种基于单晶的垂直异质外延高定向金属铂的方法,得到的金属铂和的间隙小于范德华间距,从而形成更好的维材料和金属接触。位于底层,金属铂位于上层,者垂直堆叠,通过采用氧气退火纵向诱导形成高定向金属铂外延,从而降低了异质的接触电阻。本发明提出的方法,解决了高定向金属薄膜制备困难、薄膜尺寸受限制、成本高的问题。场效应晶体管为PMOS,通过本发明方法实现了半导体维材料与金属的高质量接触,有利于降低接触电阻,与NMOS场效应晶体管形成互补,有利于提高纳米片CMOS器件的性能。
  • 基于单晶二硒化钨垂直外延定向金属方法
  • [发明专利]异质纳米材料、电子传输薄膜和显示器件-CN202111220878.2在审
  • 朱佩;陈亚文 - 广东聚华印刷显示技术有限公司
  • 2021-10-20 - 2023-02-03 - H01L33/14
  • 本发明涉及一种异质纳米材料、电子传输薄膜和显示器件。该异质纳米材料包括:第一金属物及复合于第一金属物上的第金属物,第金属物为银掺杂的金属物,第一金属物及第金属物之间形成异质。该异质纳米材料含有第一金属物及复合于第一金属物上的第金属物,第金属物为银掺杂的金属物,第一金属物及第金属物之间形成异质,从而有利于自由电子迁移,使得异质纳米材料具有较高的电导率;此外,该异质纳米材料相比于单纯的金属物纳米材料具有更好的光散射作用。
  • 异质结纳米材料电子传输薄膜显示器件

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