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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]黄光制程银浆及制备方法和触摸屏-CN201410082756.5有效
发明人：田耕;刘洪 -专利权人：广州北峻工业材料有限公司
申请日： 2014-03-07 - 公布日： 2014-05-28 - 主分类号： H01B1/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种黄光制程银浆，包括银粉，高分子树脂，溶剂，所述黄光制程银浆还包括银粉重量0.001-0.1%的纳米导电碳粒子。本发明还涉及黄光制程银浆，银粉处理：将纳米导电碳粒子在部分溶剂中分散均匀后，加入纳米银，加热至10%-60%的溶剂挥发；高分子树脂处理：加入高分子树脂和剩余溶剂，加热充分溶解，过滤杂质或不溶物；银浆制备：将处理后的银粉和高分子树脂在三辊机中研磨至细度1-8微米，得到黄光制程银浆。还涉及一种触摸屏，包括不可视区域的导电线路，所述导电线路通过黄光制程前述的黄光制程银浆得到。本发明提供的黄光制程银浆，通过添加少量的导电碳粒子，增强了体系的分散性，进一步降低了体积电阻率。
黄光制程银浆制备方法触摸屏

[发明专利]金属氧化物半导体薄膜晶体管阵列基板及其制作方法、显示装置-CN202210707441.X在审
发明人：钟德镇;蒋隽 -专利权人：昆山龙腾光电股份有限公司
申请日： 2022-06-21 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明提供一种金属氧化物半导体薄膜晶体管阵列基板的制作方法，利用第一道黄光制程形成栅极和第一导线；利用第二道黄光制程形成源极、漏极和沟道区；利用第三道黄光制程形成半导体层和蚀刻遮挡层；利用第四道黄光制程形成第一过孔和第二过孔；利用第五道黄光制程形成公共电极；利用第六道黄光制程形成第一贯通孔和第二贯通孔，第一贯通孔贯通绝缘保护层和钝化层，第二贯通孔贯通保护层、钝化层、蚀刻遮挡层和第一绝缘材料层；利用第七道黄光制程形成像素电极和第二导线本发明的制作方法制程简单，且能提高产品良率。本发明还涉及一种金属氧化物半导体薄膜晶体管阵列基板和显示装置。
金属氧化物半导体薄膜晶体管阵列及其制作方法显示装置

[发明专利]高硬度低摩擦系数的保护镀膜-CN202010912725.3在审
发明人：吴宗丰;蔡宇砚;李文亮;游辉桓;周冠廷 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2020-09-03 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：本发明之高硬度低摩擦系数的保护镀膜具有良好抗摩耗性、低摩擦系数，是以能够被应用在光电及半导体产业的黄光曝光制程的光罩传送盒中，例如：深紫外(DUV)曝光制程、极紫外(EUV)曝光制程、沉浸式曝光制程、多重曝光制程，该保护镀膜用于保护上述任一种黄光曝光应用之光罩传送盒并确保黄光制程之良率。
硬度摩擦系数保护镀膜

[实用新型]高硬度低摩擦系数的保护镀膜-CN202021893942.4有效
发明人：吴宗丰;蔡宇砚;李文亮;游辉桓;周冠廷 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2020-09-03 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：本实用新型之高硬度低摩擦系数的保护镀膜具有良好抗摩耗性、低摩擦系数，是以能够被应用在光电及半导体产业的黄光曝光制程的光罩传送盒中，例如：深紫外(DUV)曝光制程、极紫外(EUV)曝光制程、沉浸式曝光制程、多重曝光制程，该保护镀膜用于保护上述任一种黄光曝光应用之光罩传送盒并确保黄光制程之良率。
硬度摩擦系数保护镀膜

[发明专利]OLED-TFT基板及其制造方法、显示面板-CN201710777726.X有效
发明人：周星宇;任章淳 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2017-08-31 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明设计TFT的半导体图案不仅包括源极图案和漏极图案的接触区，而且作为OLED的阳极，省去制作OLED阳极的这一道黄光制程，并且采用喷墨打印技术形成OLED的有机发射图案，也可以省去一道黄光制程，从而减少黄光制程的道数
oled tft 及其制造方法显示面板

[实用新型]防污抗沾黏保护镀膜-CN202021928717.X有效
发明人：吴宗丰;刘金勋;李文亮;胡智恺;陈基川 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： C23C28/00 文献下载
摘要：本实用新型之防污抗沾黏保护镀膜具有良好防污以及抗沾黏能力，是以能够被应用在光电及半导体产业的黄光曝光制程的光罩传送盒中，例如：深紫外(DUV)曝光制程、极紫外(EUV)曝光制程、沉浸式曝光制程、多重曝光制程，该防污抗沾黏保护镀膜用于保护上述任一种黄光曝光应用之光罩传送盒并确保黄光制程之良率。
防污抗沾黏保护镀膜

[发明专利]LED自对准粗化制程方法-CN201310035120.0无效
发明人：卢昶鸣;何善良 -专利权人：合肥彩虹蓝光科技有限公司
申请日： 2013-01-30 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明公开一种LED自对准粗化制程方法，包括：完成黄光和蒸镀制程，将LED电极完成；透过氧电浆进行光刻胶灰化蚀刻，将曝光显影区域线宽变大；进行自对准粗化用的保护层蒸镀，使用低温镀膜技术进行薄膜制程蒸镀，作为后续粗化制程用的保护层；完成保护层镀膜后，进行金属和保护层的剥离和去胶；进行粗化制程，后续将保护层用氟化铵混合溶液进行蚀刻去除。本发明透过氧电浆进行光刻胶灰化蚀刻，退光阻和低温镀膜技术，将电极进行保护，不仅可以少一道黄光制程，从而降低制作成本，又可避免因黄光曝光精准度和有机物残留，造成良率的损失，提升产品良率。
led 对准粗化制程方法

[发明专利]一种III族半导体发光器件的制作方法-CN201510027675.X有效
发明人：许顺成 -专利权人：湘能华磊光电股份有限公司
申请日： 2015-01-20 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： H01L33/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种III族半导体发光器件的制作方法，包括衬底、缓冲层、n型氮化物半导体层、有源层和p型氮化物半导体层自下而上依次生长形成外延结构；利用黄光蚀刻制程定义凸台图案，蚀刻p型氮化物半导体层和有源层，暴露n型氮化物半导体层，得到凸台；沉积透明导电层，利用黄光蚀刻制程定义透明导电层图案，蚀刻透明导电层；沉积绝缘层，利用黄光蚀刻制程定义要参于电流分布的图案，蚀刻绝缘层和/或透明导电层；黄光剥离制程定义P型电极和N型电极图案，沉积P型电极和N型电极，利用剥离制程，去除光阻，制成圆片；最后将圆片进行减薄、划片、裂片、测试、分选。
一种 iii 半导体发光器件制作方法

[发明专利]OLED显示面板及其制作方法-CN201910332985.0有效
发明人：何昆鹏;任章淳 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：所述OLED显示面板采用顶栅型发射器件，其仅需8‑11道黄光制程，相较于现有常使用的13道黄光制程，本发明能够减少了2‑5道制程，在光罩数量、制作时间、制作耗材等方面都大幅减少，从而大幅减少蒸镀OLED
oled 显示面板及其制作方法

[发明专利]一种单片式电容屏的制作方法-CN201410474200.0有效
发明人：陈祖辉;郭太良;林金堂;翁启山;蔡怀清;林玉辉 -专利权人：福建科创光电有限公司
申请日： 2014-09-17 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明公开了一种单片式电容屏的制作方法，其是基于先制作颜色层，形成可视区和非可视区，再制作触控层的OGS电容屏制造工艺，其中，触控层的触控图形采用激光雕刻和黄光制程共同加工形成，或者仅采用激光雕刻加工形成当同时采用激光雕刻和黄光制程时，大部分区域由激光雕刻进行加工，激光雕刻区域可以只在可视区内，也可以覆盖到非可视区内。该方法克服了黄光制程加工触控层时，遇到清洁问题、短路问题、检测问题和修补问题等，并具有制作简单和制程良品率高等优点。
一种单片电容制作方法

[发明专利]一种高亮倒装LED芯片制备方法-CN201610418149.0在审
发明人：吕振兴 -专利权人：合肥彩虹蓝光科技有限公司
申请日： 2016-06-07 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： H01L33/46 文献下载
摘要：本发明提供一种高亮倒装LED芯片制备方法，包括以下步骤：步骤一、首先在清洗干净的LED外延片沉积一定厚度的SiO₂或SiN薄膜；依据需要进行黄光图形制程，将SiO₂或SiN薄膜采用腐蚀方式，制备CB结构；步骤二、进行ITO薄膜沉积；步骤三、依据需要进行黄光图形制程，步骤四、依据需要进行黄光图形制程制备PN电极；步骤五、进行无Ag氧化物高反射率薄膜沉积，步骤六、依据需要进行黄光图形制程
一种倒装 led 芯片制备方法

[发明专利]一种柔性玻璃的制作方法-CN201510799316.6有效
发明人：王金科;肖建;刘丹军;刘韬 -专利权人：湖南普照爱伯乐平板显示器件有限公司
申请日： 2015-11-18 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种柔性玻璃的制作方法，包括：将柔性玻璃贴合在硬质载板上，形成叠层部件；将所述叠层部件在黄光生产线上进行清洗、镀膜、黄光制程、蚀刻制程，在所述柔性玻璃上制作出所需的产品图层；从所述硬质载板上卸载所述柔性玻璃本申请提供的上述柔性玻璃的制作方法，能够克服柔性玻璃的易弯曲变形的缺点，使柔性玻璃能够在黄光生产线上进行正常流片。
一种柔性玻璃制作方法

[发明专利]外挂式触摸感应器件及其制作方法-CN202011253086.0在审
发明人：陈方甫 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明提供一种外挂式触摸感应器件及其制作方法，该方法包括提供玻璃基板；在玻璃基板上形成金属层；对所述金属层进行黄光制程，形成触控感应电极和触控驱动电极；在所述触控感应电极和所述触控驱动电极上形成绝缘层；在所述绝缘层上涂布导电材料，并对所述导电材料进行黄光制程形成导电层，得到外挂式触摸感应器件。该方案中采用黄光制程形成触控感应电极、触控驱动电极以及导电层，提高了外挂式触摸感应器件的触控精度。
外挂式触摸感应器件及其制作方法

[发明专利]一种薄膜晶体管阵列基板的制备方法-CN201811259129.9有效
发明人：胡小波 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-10-26 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明实施例方法包括在栅极电极层上形成Cu金属薄膜层之后，在黄光制程和刻蚀制程之前，在Cu金属薄膜层上方沉积上一层C膜的步骤。本发明实施例中将Cu膜与外界隔绝，可以避免后续黄光制程和刻蚀制程时Cu膜被氧化，从而降低了Cu膜表面电阻率，避免了Cu膜产生ESD现象，提高了薄膜晶体管阵列基板的显示效果。
一种薄膜晶体管阵列制备方法

[发明专利]一种黄光制程光刻机零部件正光阻再生方法-CN201710230618.0有效
发明人：范银波 -专利权人：安徽高芯众科半导体有限公司
申请日： 2017-04-11 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及光电技术领域，特别涉及一种黄光制程光刻机零部件正光阻再生方法。本发明所述的一种黄光制程光刻机零部件正光阻再生方法，采用常规的毒性小近乎无毒的酮有机溶剂系对黄光制程光刻机零部件正光阻进行清洗去除以便再生使用，三种不同类的酮有机溶剂按照科学合理的比例进行复配，大大提高了复配溶剂的溶解力和蒸发速率对环境友好，同时酮有机溶剂具有还原性，可以很好的抑制零部件表面的腐蚀和老化，很好的保护零部件不会造成其腐蚀和老化，保证了零部件的再生使用效果，不会对零部件的使用产生影响；使用本发明的浸泡清洗液和再生方法再生黄光制程光刻机零部件正光阻再生次数可达
一种黄光制程光刻零部件正光再生方法

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