专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种精准定位的高压互锁装置及判断方法-CN202211004921.6在审
  • 余凯;方宇光;胡任远;陆建山;刘志洋 - 浙江氢途科技有限公司
  • 2022-08-22 - 2022-12-09 - B60L3/00
  • 本发明公开了一种精准定位的高压互锁装置及判断方法,包括控制器供电电源、控制器内部电阻、高压设备连接和电压采集模块;所述控制器内部电阻与高压设备连接串联连接;所述电压采集模块安装于高压设备连接的正负两端,用于采集高压设备连接的电压;所述高压设备连接区内设有若干个高压连接器互锁端子以及与各个高压连接器互锁端子相对应的接线电阻;所述高压连接器互锁端子之间串联连接,所述高压连接器与其相对应的接线电阻并联连接,所述接线电阻的阻值互不相同;与现有技术相比,本发明可以精准定位到详细的故障连接点,不需要针对所有高压连接点进行检测,极大的减少了售后的工作量,避免了因为检修导致二次故障的发生。
  • 一种精准定位高压互锁装置判断方法
  • [发明专利]用于热轧钢胚除锈与挡水的装置及其方法-CN201510248877.7在审
  • 林芳州;张家豪;李宗翰;郭承宗;魏嘉民;黄金川 - 财团法人金属工业研究发展中心
  • 2015-05-15 - 2016-12-07 - B21B45/04
  • 本发明提供一种用于热轧钢胚除锈与挡水的装置,主要包括一个除锈模块、一个高压除锈、一个低压挡水区,其一个除锈模块,设有一个机械钢轮及一个驱动组件,该机械钢轮相对该驱动组件旋转;高压除锈形成于该除锈模块之后,该高压除锈设有至少一个高压喷嘴,该高压喷嘴提供高压流体并喷射形成布幕状;低压挡水区形成于该除锈模块与该高压除锈之间,该低压挡水区设有至少一个低压喷嘴,该低压喷嘴供低压流体并喷射形成布幕状。当钢胚经过斜钢板后将使机械钢轮加压于钢胚上进行机械除锈,随后高压喷嘴喷洒除锈水将锈皮从钢胚上打落,低压喷嘴朝钢胚前进方向喷洒流体,阻绝残留高压除锈水往加热炉方向流动。
  • 用于轧钢除锈装置及其方法
  • [发明专利]LDMOS器件及其制作方法-CN202010892470.9在审
  • 许昭昭 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2020-08-31 - 2020-11-03 - H01L29/78
  • 其中,方法包括以下步骤:提供半导体基底,在器件半导体基底的周围形成浅沟槽隔离结构,浅沟槽隔离结构从半导体基底的正面向下延伸;在被浅沟槽隔离结构包围的半导体基底中形成漂移;在器件源端区域的漂移中形成体;形成跨接在体和漏端区域之间的栅极结构;在器件漏端区域的漂移中形成高压LDD;在连接体高压LDD的栅极结构侧边处分别形成侧墙;在体高压LDD中分别形成源和漏,源和漏与对应的侧墙形成交叠区域
  • ldmos器件及其制作方法
  • [发明专利]半导体集成器件的制造方法-CN202310471064.9在审
  • 曹子贵;梁肖;姜波;于涛 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2023-04-27 - 2023-07-14 - H01L21/8258
  • 具体的,其在衬底的高压器件中利用沉积、刻蚀以及离子注入工艺,形成P型高压阱N型高压阱,再在整个衬底的表面上形成厚度较厚的高压氧化层和硬掩膜层,再利用光刻、刻蚀以及离子注入工艺,在已形成的所述P型高压阱和所述N型高压阱的情况下,在低压器件中形成P型低压阱和/或N型低压阱,进而避免了在形成BCD器件的低压器件的薄栅氧时,需要采用时长大约在200s左右的湿刻工艺,先去除低压器件中的厚栅氧化层所造成的遮蔽高压器件的光刻胶层发生卷边、翘起甚至完全剥离,进而导致高压器件的厚栅氧暴露在该刻蚀溶液中所造成的高压器件的厚栅氧被减薄甚至完全被刻掉。
  • 半导体集成器件制造方法
  • [发明专利]具有可扩展性漂移电阻的高压晶体管模型方法-CN201110312430.3无效
  • 武洁 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2011-10-14 - 2013-04-17 - G06F17/50
  • 本发明公开了一种具有可扩展性漂移电阻的高压晶体管模型方法,包括以下步骤:第一步,按照器件结构,将漏侧漂移区分为三部分:沟道有源下的漂移Loverld、场氧下的漂移Ldrift1和漏极有源下的漂移Ldrift2;将源侧漂移也分为三部分:沟道有源下的漂移Lovers、场氧下漂移Ldrifts1和源极有源下的漂移Ldrifts2;第二步,精确模拟每部分漂移的电阻特性;采用下述公式模拟器件的栅源电压Vgs、漏源电压Vds和体源电压Vbs对漂移电阻特性的影响;本发明能够有效提高高压MOS或高压LDMOS模型精度,以提高高压集成电路仿真精度,节约电路设计周期。
  • 具有扩展性漂移电阻高压晶体管模型方法
  • [发明专利]一种超高压零泄漏机械密封端面结构-CN202010492904.6在审
  • 马学忠;张伟政;丁雪兴 - 兰州理工大学
  • 2020-06-03 - 2020-08-11 - F16J15/447
  • 一种超高压零泄漏机械密封端面结构,包括机械密封的动环、静环,所述动环或静环端面的一侧为高压侧即上游,所述动环或静环端面的另一侧为低压侧即下游,所述动环或静环其中之一的端面被分为五个功能结构区域,该系列区域在密封端面环带状区域内分布且从下游侧到上游侧依次为密封坝、导向功能结构、低压控漏功能结构、隔离功能结构高压承载功能结构。导向、低压控漏和隔离功能结构由周向台阶、微织构和环槽组合构成,其中导向功能结构另有径向直线槽联通低压控漏、隔离、高压承载功能结构和上游侧,高压承载功能结构为锥面构型,在导向、低压控漏和隔离功能结构之间是密封堰本发明的有益效果是可在导向结构和隔离结构功能影响下在低压控漏功能结构区产生包围密封端面的低压形成强节流作用从而克服超高压差阻力,同时上游侧锥面构型产生强流体静压效应,使密封运行在非接触状态。该发明可使用于液体、气体或气液混相介质,在超高压条件下易实现零泄漏和非接触运行,服役寿命长。
  • 一种超高压泄漏机械密封端面结构
  • [实用新型]一种低温甲醇洗能量回收利用的装置-CN201920933513.6有效
  • 李乃杰;范莹莹;张圣程 - 山东晋煤明升达化工有限公司
  • 2019-06-20 - 2020-05-08 - C10K1/16
  • 本实用新型涉及回收装置技术领域,具体为一种低温甲醇洗能量回收利用的装置,包括高压输入管道、液力透平进口控制系统、出口联锁切断系统、能量回收结构、减压调节系统和联锁装置,高压输入管道前端连通高压液体箱,高压输入管道后端连通至液力透平,高压输入管道中间设有液力透平进口控制系统,液力透平另一侧连通低压输出管道,低压输入管道前端连接出口止回阀,低压输入管道中间设置有出口联锁切断系统,低压输入管道末端连通低压液体箱,有益效果为:可以有效回收高压液体的是能,还可以降低电能效果,达到节能降耗的作用。
  • 一种低温甲醇能量回收利用装置
  • [发明专利]高压CMOS器件及其制作方法-CN202010277804.1有效
  • 许昭昭 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2020-04-10 - 2023-10-20 - H01L29/78
  • 本申请涉及半导体制造技术领域,具体涉及一种中高压CMOS器件及其制作方法。其中器件包括:第一导电类型阱形成于基底层中;栅极结构设于第一导电类型阱区位置处的基底层上;源结构设于栅极结构一侧的第一导电类型阱中;源结构包括预先掺杂结构,和形成于预先掺杂结构中的第二导电类型重掺杂源极;预先掺杂结构包括低压LDD结构和晕环结构;漏结构设于栅极结构另一侧的第一导电类型阱中;漏结构包括中高压LDD结构,和形成于中高压LDD结构中的第二导电类型重掺杂漏极。方法中的晕环注入可以增加中高压器件的有效沟道注入,延缓器件的短沟效应。漏端的中高压LDD注入可以改善N型重掺杂与P型阱之间的掺杂梯度,保证器件的击穿电压。
  • 高压cmos器件及其制作方法

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