专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体结构及其形成方法-CN201911252119.7有效
  • 马雪丽;李永亮;王晓磊;项金娟;杨红;王文武 - 中国科学院微电子研究所
  • 2019-12-09 - 2022-08-30 - H01L21/8238
  • 本发明提供了一种半导体结构及其形成方法,该半导体结构包括:半导体衬底;位于半导体衬底之上的沟道层;位于沟道层之上的界面层;位于界面层之上的第一介电常数材料层;位于第一介电常数材料层之上的第二介电常数材料层其中,界面层是通过对包括沟道层和第一介电常数材料层的第一半导体结构进行原位化学氧化处理形成的,界面层通过钝化沟道层可以降低沟道层与第一介电常数材料层界面处的界面态密度;同时界面层很稳定,不会扩散进入第一介电常数材料层,还可以抑制沟道层中的Ge原子扩散进入第一介电常数材料层,最终获得高质量的包括沟道层、界面层、第一介电常数材料层和第二介电常数材料层的第二半导体结构。
  • 一种半导体结构及其形成方法
  • [其他]ESD保护装置-CN201490000538.6有效
  • 足立淳;安中雄海;鹫见高弘 - 株式会社村田制作所
  • 2014-04-08 - 2016-04-06 - H01T4/12
  • 上隔着间隔相对地设置第一、第二放电电极(3、4),设置促进第一、第二放电电极(3、4)之间的放电的放电辅助电极(5),使得连接第一放电电极(3)和第二放电电极(4),放电辅助电极(5)由(i)包含金属以及相对介电常数高于所述基板的介电常数材料的第一混合材料;(ii)包含被不具有导电性的材料覆盖的金属、以及相对介电常数高于所述基板的介电常数材料的第二混合材料;(iii)包含被不具有导电性的材料覆盖的金属、半导体粒子以及相对介电常数高于所述基板的所述介电常数材料的第三混合材料;以及(iv)包含被不具有导电性的材料覆盖的金属、具有所述基板的相对介电常数以下的相对介电常数的低介电常数材料以及相对介电常数高于所述基板的所述介电常数材料的第四混合材料构成的组中选择的至少一种混合材料构成
  • esd保护装置
  • [发明专利]合成多层陶瓷电子部件及其制造方法-CN01143780.4无效
  • 杉本安隆;近川修;森直哉 - 株式会社村田制作所
  • 2001-12-19 - 2002-07-24 - H01G4/12
  • 一种合成多层陶瓷电子部件,它包括相互层迭的介电常数层和至少一个低介电常数层。介电常数层包括一种介电常数材料,相对介电常数εγ的为20或更大,低介电常数层包括一种低介电常数材料,相对介电常数εγ约为10或更小。介电常数材料主要包含BaO-TiO3-ReO3/2介质,与第一玻璃成分,BaO-TiO3-ReO3/2介质表示为xBaO-yTiO3-zReO3/2介质,x、y与z为%克分子并满足8x18,52.5y65,20z40,且x+y+z=100,Re为稀土元素,低介电常数材料包含由陶瓷与第二玻璃成分组成的合成物。该合成多层陶瓷电子部件在不同类材料界面处防脱层或变形,能以低温烧制,适合高频应用。
  • 合成多层陶瓷电子部件及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN200510132207.5有效
  • 王志豪;蔡庆威;陈尚志 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2005-12-22 - 2006-08-09 - H01L29/78
  • 本发明涉及一种具有介电常数材料的半导体装置,包括一基底,以及形成于基底上的介电常数材料,此介电常数材料最好是非结晶形的HfSiON。在一较佳的实施例中,此介电常数材料含有氮成分。在一较佳的实施例中,氮化硅层是使用喷射气相沉积法形成于介电常数材料上的。在此JVD氮化层沉积之后,此层具有较低的电荷陷阱密度,并且具有与氧化物或氮氧化物相当的载流子迁移率以及更佳的等效氧化层厚度。本发明还可包含第二含氮层,形成于介电常数材料以及栅电极之间,作为扩散阻障层之用。本发明可减少形成于介电常数材料中的氧空缺所造成的问题,因此而减少费米能级钉扎效应。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]热管理封装件和方法-CN202080091127.2在审
  • D·麦卡恩 - 微芯片技术股份有限公司
  • 2020-07-08 - 2022-08-12 - H01L23/367
  • 本发明提供了一种用于半导体器件的热管理封装件,该热管理封装件包括介电常数材料衬底、设置在该介电常数材料衬底中的第一窗口中并且由第一粘结材料保持在其中的高热导率块、由具有低介电常数材料形成并且具有形成在其中的第二窗口的外部衬底,该介电常数材料衬底设置在该低介电常数外部衬底中的该第二窗口中并且由第二粘结材料保持在其中。
  • 管理封装方法
  • [发明专利]一种介电常数可调的复合材料及其制备方法-CN202110134119.8在审
  • 龙志雄;黄兆柱 - 广东伟的新材料股份有限公司
  • 2021-01-28 - 2021-07-23 - C08L81/02
  • 本发明实施例公开了一种介电常数可调的复合材料及其制备方法,按照质量百分比包括如下组分:30~40%低介电常数材料A、20~50%介电常数材料B、2~5%添加剂和1~3%调节剂;其中,所述低介电常数材料A具体包括聚苯硫醚、聚酰胺和聚丙乙烯中的一种,所述介电常数材料B具体包括钛酸钡和钛酸钙中的一种,本发明中制备出的复合材料通过改变低介电常数材料A和介电常数材料B之间的质量百分比使得以相同基材支撑的复合材料具有不同的介电常数,满足实际使用需求,其次,通过设置热熔导流结构中的热熔定投组件对材料进行定量间歇式添加,使得复合材料在制备时避免了等待热熔所需的时间损耗,提高了复合材料的制备效率。
  • 一种介电常数可调复合材料及其制备方法

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