专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种合金废料的分离回收方法-CN201911249256.5有效
  • 柳旭;史秀梅;王冉;韩鹏;齐岳峰 - 北京有色金属与稀土应用研究所
  • 2019-12-09 - 2021-04-16 - C22B7/00
  • 本发明涉及一种合金废料的分离回收方法,属于有色金属湿法冶金技术领域。将废料在熔化炉中熔化,并加入,形成高合金;将熔融的合金进行泼珠或造粒,得到颗粒;将颗粒用酸在一定温度下溶解分离出大部分的;将不溶物加入王水直至完全溶解;向上述溶液中加入碱使溶液中残余的沉淀,过滤后完全除去;将上述滤液使用还原剂还原得到纯金。本发明方法具有操作简单、不引入新的杂质、回收率高、可实现金的综合回收利用的特点,有利于产业化应用。通过此法回收的纯度达99%以上,实现金的回收率大于99%、的利用率大于99%,有利于实现金的综合回收利用。
  • 一种合金废料分离回收方法
  • [发明专利]芯片背面披覆共晶工艺及其装片方法-CN201210050688.5无效
  • 谢洁人;王新潮;俞斌;吴昊 - 长电科技(滁州)有限公司
  • 2012-03-01 - 2012-07-18 - H01L21/48
  • 本发明涉及一种芯片背面披覆共晶工艺及其装片方法,所述方法包括以下工艺步骤:步骤一、将芯片背面进行背银或背处理;步骤二、将步骤一完成背银或背处理的芯片的背银或背面上进行镀锡或合金作业;步骤三、将步骤二背银或背面完成镀锡或合金作业的芯片进行切割本发明一种芯片背面披覆共晶工艺及其装片方法,它对芯片尺寸无要求,而且芯片背面披覆上一层合金以后,由于合金的厚度可以控制,合金层厚度可以有效吸收芯片与基岛间不同的应力,解决了传统共晶芯片的分层和破裂问题
  • 芯片背面披覆锡共晶工艺及其方法
  • [发明专利]一种共溅射制备焊料薄膜的方法-CN202211139952.2在审
  • 靳世旭;潘远志;刘鑫;邓敏航;薛波 - 苏州博志金钻科技有限责任公司
  • 2022-09-19 - 2022-12-09 - C23C14/35
  • 本申请属于金属合金薄膜制备技术领域,公开了一种共溅射制备焊料薄膜的方法,包括:将过渡金属层靶材、AuSn合金靶材和Sn单质靶材放置在溅射靶位上;在热沉基板上沉积过渡金属层;利用AuSn合金靶材和Sn单质靶材进行共溅射形成混合层;在混合层表面溅射Au保护层;对热沉基板进行共晶热处理得到焊料薄膜。采用AuSn合金靶材和Sn单质靶材共溅射,补充了溅射过程中Sn的成分,形成Au原子、Sn原子、锡金属间化合物分子均匀分布的混合层,通过共晶热处理得到等轴状共晶组织,降低了焊料薄膜的熔点,提高了焊料薄膜的导热性能
  • 一种溅射制备焊料薄膜方法
  • [实用新型]一种LED光源-CN201520883604.5有效
  • 江向东;江浩澜;陈柏尧;吴小军;汪春涛 - 安徽湛蓝光电科技有限公司
  • 2015-11-04 - 2016-03-16 - H01L33/64
  • 本实用新型提供一种LED光源,所述LED光源包括基板以及固定在所述基板上的LED晶片;所述基板为氮化铝陶瓷基板;所述LED晶片的底部覆有合金层,所述合金层为-合金层;所述-合金层分为正、负极两部分;所述氮化铝陶瓷基板上设有电路;所述-合金层与所述电路进行电性连接。与现有技术相比,氮化铝陶瓷基板与-合金层共晶焊接后产生的共晶层,该共晶层导热系数高,热稳定性好,在固晶的同时,满足了大功率LED芯片的散热需求。
  • 一种led光源
  • [实用新型]一种合金薄膜电路的金属膜系-CN202121638757.5有效
  • 杜晶 - 四川科尔威光电科技有限公司
  • 2021-07-19 - 2022-01-28 - H01L27/01
  • 本实用新型公开了一种合金薄膜电路的金属膜系,包括基片层,所述基片层上覆盖有第一金属层,所述第一金属层上覆盖有第二金属阻挡层,所述第二金属阻挡层上覆盖有第三金属信号传输层,所述第三金属信号传输层上覆盖有第四金属阻挡层,所述第四金属阻挡层上覆盖有第五合金层,通过在第三信号传输层上覆盖有第四金属阻挡层,实现对第三信号传输层的扩散阻止,并延长合金的质量比例保持时间,也即延长共晶时间,进而合金可通过电沉积的方式制作,有效提高合金层的稳定性。
  • 一种合金薄膜电路金属膜
  • [发明专利]一种组织均匀共晶合金箔片的制备方法-CN201410085656.8有效
  • 马运柱;黄宇峰;刘文胜;王依锴;汤娅 - 中南大学
  • 2014-03-10 - 2014-07-23 - C22C5/02
  • 一种组织均匀共晶合金箔片的制备方法,包括下述步骤:精确配制质量百分数为20%,金质量百分数为80%的合金原料;在非自耗电弧熔炼炉中,真空度达10-3Pa下,重复熔炼、电磁搅拌、冷却至少3次;得到合金铸锭;铸锭均匀化退火后,进行多道次热压缩,得到共晶箔片;本发明采用真空电弧熔炼、循环电磁搅拌、循环热压缩,制备共晶点成分无初生相的全片层共晶组织,相比于现有技术,本发明达到了完全合金化,强度更高,焊接性能更好,未添加其他组元或调整成分比例,焊接温度及性能更稳定,焊片变形受力更为均匀,不易出现焊片开裂状况,成品率高,且生产效率大大高于电镀法制备焊片,生产成本降低,适用于批量生产
  • 一种组织均匀金锡共晶合金箔制备方法

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