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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]衬底搬送装置及衬底搬送方法-CN202210149683.1在审
发明人：桒原丈二 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底搬送装置及衬底搬送方法。本发明的衬底搬送装置具备构成为能够保持衬底的手、设置在手上的多个反射型光检测器、局部位置算出部、及衬底位置判定部。多个反射型光检测器朝配置在手上的衬底的外周部分别出射光，且由线状的光通过面分别接受从衬底反射的光，输出表示受光量的信号。局部位置算出部基于多个反射型光检测器的输出信号，分别算出手上的衬底的外周端部的多个部分的位置。衬底位置判定部基于算出的衬底的多个部分的位置，判定衬底相对于手的位置。
衬底装置方法

[发明专利]衬底杂质移除方法及衬底处理设备-CN202111500160.9在审
发明人：辛东烈;西门瑄;朴俊雨 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本公开涉及一种缩短移除杂质的时间且提高移除杂质的效率的衬底杂质移除方法及衬底处理设备。衬底杂质移除方法包括：使设置在第一腔室部件中的衬底的温度升高到杂质移除温度的温度升高过程；将衬底从第一腔室部件转移到第二腔室部件的转移过程；以及将转移到第二腔室部件中的衬底维持在杂质移除温度的维持过程。
衬底杂质方法处理设备

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202111570262.8在审
发明人：根来世;折坂昌幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备：旋转夹盘，保持衬底；及流体喷嘴，与保持在所述旋转夹盘的衬底的主面对向配置。所述流体喷嘴包含：气体喷出口，从所述衬底的主面的中心侧朝周缘侧放射状喷出气体；及气体流路，对所述气体喷出口供给气体，且具有沿相对于所述衬底的主面交叉的方向的筒形状。
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202111442998.7在审
发明人：藤内裕史 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是对衬底进行特定处理的衬底处理装置，所述装置包含以下要素。通过切换周围的磁极来使所述各支撑销旋动到所述保持位置及所述交接位置；以及第2磁力部，始终对所述第1磁力部赋予磁场，使所述各支撑销旋动到所述保持位置；切换机构在正常情况下，不对所述第1磁力部赋予第3磁力部的磁场，只有在衬底交接时
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202210543393.5在审
发明人：秋山刚志;高桥朋宏;佐佐木光敏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法是在处理槽(3)中，以含有磷酸的蚀刻液(E)蚀刻具有交替积层的硅氧化膜(Ma)与硅氮化膜(Mb)的衬底(W)的方法。衬底处理方法包含：将衬底(W)浸渍在蚀刻液(E)中的步骤(S1)；及在衬底(W)的蚀刻中，对处理槽(3)内的蚀刻液(E)补充磷酸，使蚀刻液(E)的硅浓度变化的步骤(S2)。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN202211245254.0在审
发明人：赵星辉;金成烈;林美贤;林成龙;郑盛夏;千雄振 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2022-10-12 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了一种衬底处理设备。衬底处理设备包括：室，其包括支承件，所述支承件被配置为在其上安装有衬底；至少一个通道，其设置在所述室中，并且导电流体或非导电流体被配置为注入所述至少一个通道中；以及控制单元。
衬底处理设备方法

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN202310046722.X在审
发明人：伊豆田崇 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-01-13 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理方法包含以下步骤：取得衬底信息；选择液体更换步骤及浓度调整步骤中的任一个；第1处理液调整步骤，在所述选择的步骤中选择所述液体更换步骤的情况下，在所述处理槽的所述处理液不满足特定条件时，从所述处理槽排出所述处理槽的所述处理液的至少一部分一边使所述处理槽的所述处理液经由连接于所述处理槽的配管循环，一边调整所述处理槽的所述处理液的浓度；及一边使在所述第1处理液调整步骤或所述第2处理液调整步骤中调整后的所述处理槽的所述处理液，经由连接于所述处理槽的配管循环，一边将所述衬底浸渍于所述处理槽的所述处理液
衬底处理装置方法

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN202211462430.6在审
发明人：韩泳遵;崔气勋;梁承太;朴尚禹;金圣贤;郑富荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种衬底处理设备包括：喷嘴单元，包括：喷嘴尖端，将液体排放到衬底；以及液体供应管线，将液体供应给喷嘴单元，其中液体供应管线包括：液体供应管，被连接至喷嘴尖端；供应阀，被安装在液体供应管中；以及加热器，被设置在喷嘴尖端与供应阀之间的液体供应管中
衬底处理设备方法

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN202211167154.0在审
发明人：崔海圆;辛承敃;朴相真;辛在原;朴智焕;李根泽;科里亚金·安东;元俊皓;许弼覠 -专利权人：三星电子株式会社;细美事有限公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：提供了衬底处理设备和衬底处理方法，其中通过多级压力控制来控制注入到超临界干燥容器中的CO2的流速。所述衬底处理方法包括：将涂覆有化学液体的衬底设置在处理室中，所述处理室包括在其中处理所述衬底的空间；通过使用超临界流体来干燥所述衬底；以及在所述衬底被干燥后，将所述衬底从所述处理室中取出。
衬底处理设备方法

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202211141533.2在审
发明人：伊豆田崇;田尻博纪;折坂昌幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-09-20 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法是通过衬底处理装置(100)来执行的。衬底处理装置(100)具备处理槽(110)、及配置在处理槽(110)的内部的气泡供给管(21)。衬底处理方法中，衬底保持部(120)将衬底(W)浸渍于处理槽(110)中所贮存的碱性处理液(LQ)中。气泡供给部(200)在衬底(W)浸渍于碱性处理液(LQ)中的状态下，从衬底(W)的下方对碱性处理液(LQ)，从设置在气泡供给管(21)的多个气泡孔(G)的各者供给气泡(BB)。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202180047244.3在审
发明人：田原香奈 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：衬底处理方法包括：处理膜形成工序，向衬底的表面供给处理液，使前述衬底的表面上的处理液固化或硬化，由此在前述衬底的表面形成处理膜；光照射工序，向前述处理膜照射光，使前述处理膜在前述衬底的表面上分裂；和处理膜除去工序，其在前述光照射工序后向前述衬底的表面供给处理膜除去液，利用前述处理膜除去液将前述分裂后的前述处理膜从前述衬底的表面除去。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202211122194.3在审
发明人：佐佐木悠太;塙洋祐;国枝省吾 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。本发明是一种使形成有图案的衬底干燥的衬底处理方法，所述衬底处理方法包含以下步骤。也就是包含固化膜形成液供给步骤、整面涂布步骤、固化膜形成步骤及升华步骤，所述整面涂布步骤基于升华性物质的浓度、目标固化膜厚及固化膜形成转数的关系性，使所述衬底以所述固化膜形成转数旋转，所述目标固化膜厚是固化膜的膜厚，且是所希望的膜厚，所述固化膜形成转数是在所述升华性物质的浓度为指定浓度的情况下，用来形成目标固化膜厚的固化膜的所述衬底的转数。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202180047544.1在审
发明人：田原香奈 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-06-01 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：衬底处理方法包括：第1处理液供给工序，将包含硫酸及过氧化氢水中的一者的第1处理液涂布于衬底的表面；第2处理液供给工序，将包含硫酸及过氧化氢水中的另一者且粘度比前述第1处理液低的第2处理液供给至涂布有前述第1处理液的前述衬底的表面；混合液处理工序，利用前述第1处理液及前述第2处理液在前述衬底的表面混合而生成的硫酸过氧化氢水混合液对前述衬底的表面进行处理；冲洗工序，在前述混合液处理工序之后，向前述衬底供给冲洗液，从而将前述硫酸过氧化氢水混合液从前述衬底的表面冲走。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202310261585.1在审
发明人：西野阳祐;杉冈真治 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。在衬底处理方法中，从内槽(110)、外槽(120)、及循环配管(141)排出处理液(第1排液工序S1)。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202280010961.3在审
发明人：塙洋祐;上田大;春本晶子 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。添加剂溶解于第1处理液。第1处理液包含碘化物离子(I‑)。衬底处理方法包含调整步骤与供给步骤。供给步骤将经调整步骤调整过的第1处理液供给到衬底。进而，供给步骤将用来蚀刻衬底的第1蚀刻液供给到衬底。
衬底处理方法装置

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