专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种材料的回收装置-CN202020190927.7有效
  • 郑沂;孙玉俊 - 福建华佳彩有限公司
  • 2020-02-21 - 2020-10-27 - C23C14/22
  • 本实用新型公开一种材料的回收装置,包括防着板,所述防着板用于设置在所述机的腔体中,所述机用于放置源,所述防着板用于防止源中的待物粘附到机的内壁,所述防着板靠近源的侧壁上设置有磁化的磁性材料,所述磁性材料用于粘附到防着板上的待物。上述技术方案具有如下优点,具有磁性材料的防着板对待物具有较好的吸附力,使得没有沉积在正确位置的待物可以粘附到防着板上,避免待机的内壁上,减少机开腔保养的频率,提高待物的回收率,便于待物的重复利用。
  • 一种蒸镀机蒸镀材料回收装置
  • [发明专利]设备以及方法-CN201811119290.6有效
  • 杨锋 - 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2018-09-25 - 2020-12-18 - C23C14/24
  • 本发明提供一种设备以及方法,属于显示器制备技术领域,其可至少部分解决现有源与基板之间的距离比较小时设备沉积的薄膜不均匀的问题。本发明的一种设备,用于在基板上沉积薄膜,设备包括:基板架,用于安装基板;台,用于安装源,源用于将待物质加热而形成蒸汽;腔室,基板架和台以相对设置的方式安装于腔室内,腔室包括调节结构,调节结构用于在密封状态下调节腔室内的空间的体积。
  • 设备以及方法
  • [实用新型]一种装置-CN201620208282.9有效
  • 崔富毅;陈旭;张金中 - 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2016-03-16 - 2016-08-03 - C23C14/24
  • 本实用新型公开一种装置,涉及技术领域,为解决因基板发生坍塌而导致镀在基板上的图案的位置精度降低的问题。所述装置包括真空室,真空室内设置有源单元、基板载具和冷却板,其中,基板载具位于源单元的上方,待基板安装在基板载具,冷却板位于待基板的上方;冷却板中设置有吸附安置孔;吸附安置孔内设置有对待基板进行吸附的吸附件,吸附件可相对待基板上下移动。所述装置通过吸附件吸附待基板,使待基板与冷却板接触,并使待基板保持平整,减小待基板的坍塌程度,改善镀在待基板上的图案的位置精度。
  • 一种装置
  • [发明专利]设备与利用此设备的方法-CN201611207948.X有效
  • 黄智勇;林士钦;王庆钧 - 财团法人工业技术研究院
  • 2016-12-23 - 2020-05-22 - C23C14/24
  • 本发明公开一种设备与利用此设备的一种方法,包括设置有一腔室,一源,一承载装置以及一流体扰动装置。腔室具有一空间,源设置于空间中的下方,源适于容纳源材料。承载装置以一参考轴为中心、可旋转地设置于空间中的上方,且与源相对;承载装置适于承载待物并使待物位于源与承载装置之间。流体扰动装置适于在空间中,朝向承载装置注入一经扰动后的流体。
  • 设备利用方法
  • [发明专利]监控方法及装置、存储介质、电子设备-CN202111006597.7在审
  • 王西;郑广禄 - 京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司
  • 2021-08-30 - 2021-11-26 - C23C14/54
  • 本公开属于计算机技术领域,涉及一种监控方法及装置、存储介质、电子设备。该方法包括:按照预设时间间隔获取第一频率和第二频率,并对第一频率和第二频率进行计算得到频率差值,其中,第一频率和第二频率为源材料受热至石英水晶片的频率;根据频率差值,确定第一频率和第二频率相等的时间,若时间大于时间阈值,生成用于表示异常的告警信号。在本公开中,确定第一频率和第二频率相等的时间,并在时间大于时间阈值时,生成表示异常的告警信号,在过程中,建立了对系统信号异常时频率监控的机制,进而可以及时的发现过程中的问题,提高了产品的品质以及合格率
  • 监控方法装置存储介质电子设备
  • [发明专利]一种掩膜版以及设备-CN201510658127.7在审
  • 李晓虎;孙中元 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2015-10-13 - 2015-12-09 - C23C14/04
  • 本发明实施例提供一种掩膜版以及设备,涉及显示设备制造领域,能够改善的薄膜层厚度不均一的问题。该掩膜版包括间隔设置的遮挡区和区,遮挡区设置有遮挡部,掩膜版还包括至少覆盖区的挡板;挡板包括多个子区,每个子区中设置有多个开孔;多个子区中包括一个第一子区,相对于其余子区,第一子区中单位面积内所有开孔的面积总和最小;距离第一子区越近的子区,该子区中单位面积内所以开孔的面积总和越小。
  • 一种蒸镀掩膜版以及设备

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