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[发明专利]一种蒸镀设备-CN202111315737.9在审
发明人：潘洪英 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请提供一种蒸镀设备，包括蒸镀基台；蒸镀源，包括多个坩埚，每一坩埚在蒸镀基板上对应一蒸镀区，蒸镀区包括一非重叠蒸镀子区和重叠蒸镀子区，重叠蒸镀子区由相邻两坩埚在蒸镀基板上对应的两蒸镀区部分重叠形成；速率监控模块，用于获取任一坩埚在蒸镀基板上对应的非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率；调节模块用于获取坩埚的开口大小信息，接收坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率和在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率，并根据第一蒸镀速率、第二蒸镀速率以及坩埚的开口大小信息调节坩埚的开口大小，以使坩埚在非重叠蒸镀子区内的第一蒸镀速率与在重叠蒸镀子区内的第二蒸镀速率的差值在一预设范围内。
一种设备

[实用新型]一种蒸着装置及蒸着装置组-CN201520832871.X有效
发明人：解博 -专利权人：上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司
申请日： 2015-10-26 - 公布日： 2016-04-20 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种蒸着装置，用于加热材料并使材料变成气体状态，包括盛放装置以及设置于盛放装置外部的加热装置，所述加热装置包括：将所述盛放装置容纳于内并可拆分为两半的壳罩以及固定设置于所述壳罩下部并与壳罩之间形成密闭腔的超导液槽一种蒸着装置组，包括至少二上述蒸着装置，所述蒸着装置的所述壳罩侧表面对齐贴合。本实用新型提供一种蒸着装置及蒸着装置组，可用于有机发光装置的有机材料蒸镀，蒸镀过程中温度易于控制，有机材料整体温度均一性好，能够防止有机材料蒸着过程中发生喷溅，避免出现堵孔现象，从而使得有机材料蒸镀速率更加稳定
一种着装

[发明专利]蒸镀方法及蒸镀设备-CN201710055136.6有效
发明人：彭兆基;邱林;李倩;何麟;高峰 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀方法及蒸镀设备。上述蒸镀方法包括如下步骤：将蒸镀材料放置于蒸镀设备的蒸镀源中，将蒸镀源与待蒸镀基板相对设置，且蒸镀源的开口朝向待蒸镀基板；对蒸镀源进行加热至预设温度后，移动蒸镀源和/或待蒸镀基板，使蒸镀源相对于待蒸镀基板采用上述蒸镀方法进行蒸镀时，即使TS距离较小，由于蒸镀源相对于待蒸镀基板，在平行于待蒸镀基板的平面上移动的轨迹为波浪线，则shadow effect贡献度低、分布均匀且无周期性波动，不容易形成低视角G向mura，从而能够提高蒸镀PPI。此外，本发明还涉及一种可采用上述蒸镀方法的蒸镀设备。
方法设备

[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法-CN201680083566.2有效
发明人：西田光志;矢野耕三;岸本克彥;崎尾进 -专利权人：鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供蒸镀方法及及其蒸镀装置,在蒸镀蒸镀材料时,蒸镀掩膜与被蒸镀基板之间不会由于形成间隙而蒸镀的膜的图案不均匀,可以以正确的图案蒸镀。特征在于,蒸镀掩膜(1)在周缘部由框架(12)支撑往水平方向配置,其蒸镀掩膜(1)的上面侧重叠配置形成蒸镀膜的被蒸镀基板(2),蒸镀掩膜(1)的下方配置蒸镀源(5),从蒸镀源(5)蒸发蒸镀材料(51),由此在被蒸镀基板(2)形成蒸镀膜。蒸镀掩膜(1)的弯曲中心部的铅直方向上,从被蒸镀基板(2)的上面位置开始,以成为相当于根据蒸镀掩膜(1)的弯曲延伸后的蒸镀掩膜(1)的长度(沿着蒸镀掩膜的一边的剖面中的长度)之长度的方式,一边压入被蒸镀基板(2),一边进行蒸镀。
装置方法有机 el 显示装置制造

[发明专利]蒸发镀膜装置-CN202210607488.9在审
发明人：吕凯丽;赵利;孙军旗;孙帅;刘孝玲;任宏志 -专利权人：北海惠科半导体科技有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种蒸发镀膜装置，蒸发镀膜装置包括蒸镀腔体、蒸镀源、多个蒸镀锅和驱动组件；蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，气体分子蒸镀材料在蒸镀腔体中运动形成蒸镀区域；多个蒸镀锅对应设置在蒸镀区域内；驱动组件设置在蒸镀腔体的顶部，驱动多个蒸镀锅围绕蒸镀源的中心线进行旋转；多个蒸镀锅包括第一蒸镀锅和第二蒸镀锅，第二蒸镀锅的直径小于第一蒸镀锅的直径，第二蒸镀锅设置在两个第一蒸镀锅相互靠近的一端和两个第一蒸镀锅相互远离的一端之间的间隙内本申请在一个蒸镀腔室内设置不同大小的蒸镀锅，能够更好的利用空间，防止蒸镀源材料的浪费，且同腔体可以生产不同批次的晶圆，提供生产效率。
蒸发镀膜装置

[发明专利]一种膜层厚度控制装置-CN202310404029.5在审
发明人：张坤;卿万梅;陈林 -专利权人：重庆京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-04-14 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种膜层厚度控制装置，包括：蒸镀基板；至少一个蒸镀点源，用于对蒸镀材料进行加热蒸发，以使气化的蒸镀材料粒子在蒸镀基板面向蒸镀点源的一面形成蒸镀膜层；遮挡板，设置在蒸镀基板与蒸镀点源之间；其中，遮挡板与蒸镀基板之间具有间隔，遮挡板在蒸镀基板上的正投影位于蒸镀基板内，且覆盖蒸镀点源在蒸镀基板上的正投影；旋转机构，连接蒸镀基板，用于带动蒸镀基板旋转，蒸镀基板在旋转过程中，遮挡板遮挡靠近蒸镀点源的蒸镀材料粒子形成到遮挡板，以在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜层。旨在提供一种控制蒸镀基板上蒸镀材料粒子量的沉积量，以使在蒸镀基板上形成膜厚均匀的蒸镀膜层的控制装置。
一种厚度控制装置

[发明专利]蒸镀气体供给装置-CN201080037560.4无效
发明人：李炳一;朴暻完;康浩荣;金彻镐;宋钟镐 -专利权人：泰拉半导体株式会社
申请日： 2010-08-25 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明公开蒸镀气体供给装置，该蒸镀气体供给装置在用于制造半导体元件或平板显示器的薄膜蒸镀工序时，在每个蒸镀工序能够供给均匀量的蒸镀气体。本发明的蒸镀气体供给装置(100)，包括：蒸镀物质储藏部(200)，用于储藏蒸镀物质；蒸镀物质蒸发部(300)，用于对蒸镀物质加热而产生蒸镀气体；以及载气供给部(400)，用于供给载气，该蒸镀气体供给装置还包括蒸镀物质供给部(500)，该蒸镀物质供给部配置在蒸镀物质储藏部(200)和蒸镀物质蒸发部(300)之间，蒸镀物质供给部(500)在每个蒸镀工序，向蒸镀物质蒸发部(300)供给恒定量的蒸镀物质。
气体供给装置

[发明专利]蒸发镀膜装置及其镀膜方法-CN202210719810.7在审
发明人：吕凯丽;赵利;孙帅;孙军旗;任宏志 -专利权人：北海惠科半导体科技有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请公开了一种蒸发镀膜装置，蒸发镀膜装置包括蒸镀腔体、蒸镀源、多个蒸镀锅、蒸镀锅公转驱动组件和蒸镀锅自转驱动组件；蒸镀源设置在蒸镀腔体的底部，蒸镀锅公转驱动组件设置在蒸镀腔体的顶部，驱动多个蒸镀锅围绕蒸镀源的中心线进行公转；蒸镀锅自转驱动组件的一端与蒸镀锅公转驱动组件连接，另一端与蒸镀锅传动连接，控制蒸镀锅进行自转；其中，蒸镀锅公转驱动组件和蒸镀锅自转驱动组件分别独立控制蒸镀锅的公转和自转。本申请通过设置直接与蒸镀锅连接的蒸镀锅自转驱动组件控制蒸镀锅进行自转，无需设置带动蒸镀锅自转的轨道，避免蒸镀锅转动时与轨道摩擦产生金属碎屑，降低产品的综合良率。
蒸发镀膜装置及其方法

[发明专利]蒸镀方法及蒸镀装置-CN201810099839.3有效
发明人：苟玺;毋炳辉;王卫卫;何麟 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明一实施例提供一种蒸镀方法及蒸镀装置，该蒸镀方法包括将待蒸镀基板与蒸镀机构进行位置匹配；将待蒸镀基板划分为多个待蒸镀区；根据各待蒸镀区的厚度变化调整蒸镀机构的蒸镀速度。本发明实施例提供的蒸镀方法通过将待蒸镀基板划分为多个待蒸镀区，根据各待蒸镀区的厚度变化调整蒸镀机构的蒸镀速度的方式，实现了有效提高待蒸镀基板的厚度均一性的目的，此外，待蒸镀区的划分可实现进一步精准提高待蒸镀基板的厚度均一性的目的
蒸镀蒸镀基板厚度均一性厚度变化蒸镀装置位置匹配

[发明专利]蒸镀罩以及蒸镀设备-CN201910694403.3有效
发明人：贾松霖;陈营营 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀罩以及蒸镀设备，蒸镀罩用于蒸镀设备，蒸镀设备包括蒸镀源，蒸镀罩包括：遮挡件，遮挡件具有面向蒸镀源的遮挡面；清理部，设于遮挡面与蒸镀源之间，清理部能够相对于遮挡面运动以清理遮挡面。本发明提供的蒸镀罩，能够及时清理蒸镀罩上的杂质，提高蒸镀罩的使用稳定性，避免污染蒸镀设备，提高待蒸镀基板的蒸镀效率。
蒸镀罩以及设备

[实用新型]蒸镀组件及蒸镀系统-CN201821868678.1有效
发明人：王浩田;陶敏;杨小翠 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种蒸镀组件及蒸镀系统，涉及显示技术领域，采用该蒸镀组件进行蒸镀时，可有效防止掩膜板发生形变下垂，从而提高蒸镀材料蒸镀时的位置精度。该蒸镀组件，包括：蒸镀源；所述蒸镀源具有一蒸镀口；设置在所述蒸镀源上、且位于所述蒸镀口的蒸镀区域外侧的平整件；所述平整件用于在所述蒸镀源在掩膜板下方移动的过程中，对所述掩膜板朝向所述蒸镀源一侧的表面进行平整上述蒸镀组件及蒸镀系统用于蒸镀。
蒸镀蒸镀源蒸镀系统掩膜板平整件本实用新型蒸镀材料形变下垂平整移动

[发明专利]蒸镀设备及蒸镀方法-CN201510438233.4有效
发明人：丁立薇;党鹏乐;朱晖;张小宝 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2015-07-23 - 公布日： 2017-11-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀设备及蒸镀方法，用于蒸镀AMOLED基板，蒸镀设备包括基板载物台，用于承载AMOLED基板；蒸镀掩膜板，开设有作为蒸镀图案的空槽，蒸镀掩膜板压设于AMOLED基板；蒸发源装置，与基板载物台相邻，用于提供蒸镀材料；蒸镀阻挡装置，罩设于蒸镀掩膜板及蒸发源装置，并与蒸镀掩膜板及蒸发源装置形成蒸镀腔。上述蒸镀设备，蒸镀掩模板通过自身重量贴合于AMOLED基板，蒸发源装置提供的蒸镀材料在蒸发后由于蒸镀阻挡装置的反射而附着在AMOLED基板上。如此，在蒸镀过程中，蒸镀掩膜板其形状在蒸镀过程中不发生变化，从而避免因蒸镀掩模板及AMOLED基板倒置而蒸镀位置的偏差或混色。
设备方法

[实用新型]蒸镀设备-CN202122005303.0有效
发明人：赵利;刘芳军;孙军旗;孙玉群;鲁艳春 -专利权人：北海惠科半导体科技有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔体、蒸镀源、蒸镀锅和分流板；蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部，用于将蒸镀材料转化成气体分子蒸镀材料；至少两个所述蒸镀锅设置在所述蒸镀源的上方；以所述蒸镀源的顶面为基准面，所述分流板设置的高度，低于至少两个所述蒸镀锅的最高点的高度，高于所述基准面；其中，所述蒸镀腔体中能被至少两个所述蒸镀锅覆盖的区域为有效蒸镀区域，不能被至少两个所述蒸镀锅覆盖的区域为无效蒸镀区域；所述分流板对应所述无效蒸镀区域设置，所述分流板将所述无效蒸镀区域的气体分子蒸镀材料分流至所述有效蒸镀区域。本申请以此减少了蒸镀材料的浪费。
设备

[发明专利]蒸镀设备及蒸镀方法-CN200410088841.9无效
发明人：周国庆 -专利权人：中华映管股份有限公司
申请日： 2004-11-05 - 公布日： 2006-05-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种蒸镀方法，适用于蒸镀设备，以将蒸镀源蒸镀至基板上。此蒸镀设备具有纯化室与蒸镀室，其中纯化室内设置有加热装置，而蒸镀室内设置有成膜装置。首先，提供蒸镀源于纯化室内，其中蒸镀源表面形成杂质。然后，通过加热装置加热蒸镀源，以使杂质成为气体而与蒸镀源分离。接着，将蒸镀源移至蒸镀室内，以通过成膜装置将蒸镀源蒸镀至基板上。因此，此蒸镀方法可在成膜之前除去杂质，以提供较佳之方法合格率。
设备方法

[发明专利]一种蒸镀设备及其应用方法-CN202210701056.4在审
发明人：曾苏伟;曾辉;孙凌霄 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2022-06-20 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种蒸镀设备及其应用方法，蒸镀设备包括蒸镀腔，其内部设有蒸镀基台和蒸镀源；所述蒸镀基台用以固定待蒸镀基板；所述蒸镀源包括至少两个蒸镀单元，所述蒸镀单元包括喷嘴，所述蒸镀单元通过所述喷嘴在蒸镀过程中在所述待蒸镀基板的表面形成镀层；其中，在所述蒸镀过程中，至少一个蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离大于其他蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离。本申请实施例的有益效果在于，本申请实施例的蒸镀设备及其应用方法通过在蒸镀时移动掺杂材料的蒸镀源，使其以固定速率逐渐远离待蒸镀基板，从而实现对待蒸镀基板上蒸镀膜层的渐变掺杂，能够精确控制膜层的厚度以及掺杂比
一种设备及其应用方法