专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]脉冲激光照射单层硫化钼实现光学改性的方法及装置-CN201610019627.0有效
  • 秦成兵;高岩;乔志星;肖连团;贾锁堂 - 山西大学
  • 2016-01-13 - 2018-10-16 - H01S3/23
  • 本发明涉及维半导体材料和光学领域,具体为一种通过脉冲激光照射实现对单层硫化钼光学改性的方法及其装置,包括实现了对单层硫化钼荧光量子产率的提高和对单层硫化钼荧光光谱的连续调节,解决了单层硫化钼荧光量子产率低下,荧光光谱不可调节,不能直接制备维半导体发光器件的问题。一种实现单层硫化钼光学改性的方法是通过820nm飞秒脉冲激光照射单层硫化钼晶体产生硫原子空位缺陷来提交单层硫化钼的荧光量子产率。本发明是通过飞秒激光产生空位缺陷以束缚单层硫化钼表面的电子,精确控制光致激子数目,从而实现了对单层硫化钼荧光量子产率的提高和对荧光光谱的连续调节。
  • 脉冲激光照射单层二硫化钼实现光学改性方法装置
  • [发明专利]一种有机改性硫化钼纳米片的制备方法-CN201610224150.X有效
  • 胡伟兆;邢伟义;冯夏明;宋磊;胡源 - 中国科学技术大学
  • 2016-04-11 - 2017-06-16 - C08K9/04
  • 本发明公开了一种有机改性硫化钼纳米片的制备方法,首先通过锂插层法制备出硫化钼纳米片,然后利用三聚氰胺对硫化钼纳米片表面进行非共价改性,最后引入三聚氰酸以原位超支化的方式将具有网状结构的三聚氰胺氰尿酸盐修饰在硫化钼纳米片表面,从而获得有机改性硫化钼纳米片。本发明提供的有机改性硫化钼纳米片制备方法简单,成本低,表面改性剂含量高。制得的有机改性硫化钼纳米片具有多功能性,如可作为新型固体润滑材料或具有协同作用的杂化阻燃剂等。此外,有机改性硫化钼可改善硫化钼纳米片在聚合物基体中的分散状态和相容性,有利于提高聚合物材料的综合性能。
  • 一种有机改性二硫化钼纳米制备方法
  • [发明专利]一种纳米硫化钼的制备方法及其制备的硫化钼-CN201710865838.0有效
  • 蒋晓青;刘怀志 - 南京师范大学
  • 2017-09-22 - 2020-02-18 - C01G39/06
  • 本发明公开了一种纳米硫化钼的制备方法及其制备的硫化钼,该方法包括如下步骤:(1)将硫化钼粉末、盐加入水溶剂或有机溶剂中混合得到混合溶液A;(2)对混合溶液A进行超声剥离处理;(3)超声剥离处理后离心以除去未剥离的硫化钼粉末,收集悬浮液即得到含有纳米尺寸硫化钼悬浮液。本发明的制备方法简单易行,成本低,毒性小后处理简单,同时制备得到的硫化钼产量高、质量好、结构稳定,纳米硫化钼产量与纯溶剂体系相比有明显提高;本发明通过加盐辅助剥离可以原位制备不同体系下的硫化钼分散液,其浓度与纯溶剂体系相比最高可以提高一百倍左右,该方法适用于工业化大批量生产纳米尺寸的硫化钼
  • 一种纳米二硫化钼制备方法及其
  • [发明专利]一种硫化钼催化膜及其制备和应用-CN201910530418.6有效
  • 张弓;陈瑀;吉庆华;刘会娟;曲久辉 - 清华大学
  • 2019-06-19 - 2020-07-24 - B01J27/051
  • 本发明提供了一种硫化钼催化膜,包括基底以及生长在基底上的硫化钼阵列,所述硫化钼阵列垂直于基底生长;垂直生长的硫化钼厚度为5~8nm,边缘长度200~800nm,阵列生长密度为32~45个/μm<所述硫化钼垂直阵列的制备原料包括钼酸盐和硫源,制备方法为水热法使得硫化钼生长在基底上,真空干燥后即得硫化钼垂直阵列;水热生长法中钼酸盐与硫源的质量比为1‑5:3‑10。本发明采用的硫化钼垂直阵列的原材料均为非管制药品,成本低廉,合成材料方便。本发明采用的硫化钼垂直阵列可用数次,不影响杀菌效果。
  • 一种二硫化钼催化及其制备应用
  • [实用新型]环保铅坠-CN201720457201.3有效
  • 刘春清 - 固始融信渔具有限公司
  • 2017-04-27 - 2018-04-27 - A01K95/00
  • 本实用新型一种环保铅坠,其技术方案要点是包括铅坠芯,其特征在于所述铅坠芯的轴线处开设有穿线孔,所述铅坠芯的外壁和穿线孔的内壁上均紧覆有阴离子电泳漆层,所述穿线孔内壁处的阴离子电泳漆槽上还涂覆有胶体硫化钼涂层,本实用新型优点在于阴离子电泳漆通电上漆而后烤制比直接刷漆更加紧固,涂覆胶体硫化钼涂层则能够防止穿线孔内壁受到鱼线磨损。
  • 环保
  • [发明专利]一种含单层硫化钼结构的半导体器件仿真方法-CN201910308935.9有效
  • 江斌;渠开放;吉娜;李桂华;王伟 - 南京邮电大学
  • 2019-04-17 - 2022-08-26 - G16C10/00
  • 本发明公开了一种含单层硫化钼结构的半导体器件仿真方法,包括以下步骤:(1)从原子层面对单层硫化钼进行维材料结构建模;(2)计算单层硫化钼材料的材料特性;(3)计算单层硫化钼材料的哈密顿量导入紧束缚模型,得到带有紧束缚哈密顿参数的矩阵;(4)建立半导体器件模型,将含有紧束缚哈密顿参数的矩阵导入半导体器件模型来计算含单层硫化钼结构的半导体器件的电学特性和输运特性。该仿真系统从硫化钼的原子层面开始计算,将硫化钼材料使用紧束缚哈密顿矩阵来表示,从而带入进行器件层面的计算,得到含有单层硫化钼结构的半导体器件的电学特性和输运特性。
  • 一种单层二硫化钼结构半导体器件仿真方法
  • [发明专利]聚硅烷‑硫化钼夹层复合材料的制备方法-CN201610056360.2有效
  • 尚岩;郑搏英;张桂玲 - 哈尔滨理工大学
  • 2016-01-27 - 2017-12-29 - C09C1/00
  • 聚硅烷‑硫化钼夹层复合材料的制备方法,它涉及一种硫化钼夹层复合材料的制备方法。本发明的目的要解决提高聚硅烷‑硫化钼复合材料相容性差的问题。方法一、可溶性聚硅烷的制备;、聚硅烷‑四氢呋喃溶液的制备;三、烷基锂‑硫化钼夹层物的制备;四、单层硫化钼分散液的制备;五、夹层反应,即得到聚硅烷‑硫化钼夹层复合材料。优点具备两者优异性能的同时,非常好地解决了聚硅烷‑硫化钼复合材料制备过程中的分散性和相容性难题,且制备方法简单,在导电材料、耐磨材料等方面有着潜在的应用价值。本发明主要用制备聚硅烷‑硫化钼夹层复合材料。
  • 硅烷二硫化钼夹层复合材料制备方法

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