专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种构筑界面液滴调节硫化钼摩擦力的方法-CN202111628833.9有效
  • 李强;许铭源;张德良 - 山东大学
  • 2021-12-28 - 2022-08-12 - C10M103/06
  • 本发明提供一种构筑界面液滴调节硫化钼摩擦力的方法。本发明方法包括步骤:将聚甲基丙烯酸甲酯溶液均匀的涂覆在生长有单层硫化钼硅基底的硫化钼面上,然后进行退火得到PMMA/硫化钼/硅基底;经刻蚀液、洗涤得到PMMA/硫化钼复合膜,并保存于去离子水中;将复合膜转移至基底上,进行退火处理;然后去除PMMA膜,经退火处理得到硫化钼/基底。本发明方法通过构筑不同大小的界面液滴,可以实现调节单层硫化钼原子级厚度的形变性能以及面内应力,从而有效控制它的摩擦性能,并且可以降低单层硫化钼的摩擦力,增强润滑性能。
  • 一种构筑界面调节二硫化钼摩擦力方法
  • [发明专利]一种功能化改性硫化钼纳米片的制备方法-CN202010503056.4有效
  • 邢伟义;邱水来;王鑫;胡源;宋磊;邹斌 - 中国科学技术大学
  • 2020-06-05 - 2021-05-07 - C01G39/06
  • 本发明公开了一种功能化改性硫化钼纳米片的制备方法,首先通过球磨法将六氯环三磷腈和盐酸胍与给定量的硫化钼粉末均匀混合制备出硫化钼纳米片前驱体,然后将前驱物放入石英炉中,通过退火程序制备元素掺杂纳米片,最后以原位生长方式将硼化钴纳米片修饰在硫化钼纳米片表面,从而获得功能化改性硫化钼纳米片。本发明提供的功能化改性硫化钼纳米片制备方法简单,成本低,表面改性剂含量高。制得的改性硫化钼纳米片具有多功能性,如可作为新型固体润滑材料或具有协同作用的杂化阻燃剂等。此外,功能化改性硫化钼可改善硫化钼纳米片在聚合物基体中的分散状态和相容性,有利于提高聚合物材料的综合性能。
  • 一种功能改性二硫化钼纳米制备方法
  • [发明专利]一种单层硫化钼薄膜的制备方法-CN202011299451.1在审
  • 王欣然;王子玄;李涛涛 - 南京大学
  • 2020-11-19 - 2021-03-16 - C23C14/06
  • 本发明公开一种单层硫化钼薄膜的制备方法,属于维纳米材料技术领域。该单层硫化钼薄膜采用双管管式炉制备,制备过程包括如下步骤:将硫源、衬底置于管式炉的外管中,分别加热硫源、衬底至第一温度和第三温度;将硫化钼源置于管式炉的内管中,加热硫化钼源至第温度,第温度为500℃~550℃;通过外管引入第一路载气、引导硫蒸汽至衬底;通过内管引入第路载气、引导硫化钼蒸汽至衬底,在衬底上外延生长出单层硫化钼薄膜;第路载气含有氧气。本发明的方法可以使源(硫化钼)在较低温度下分解,与现有方法中需将源加热并维持在生长温度(1000℃以上)相比,大大降低了源温度,可快速低成本地制备出单层硫化钼薄膜。
  • 一种单层二硫化钼薄膜制备方法
  • [发明专利]一种硫化钼的基底转移方法-CN201610178692.8在审
  • 张艳锋;马冬林;史建平 - 北京大学
  • 2016-03-25 - 2017-10-03 - C01G39/06
  • 本发明公开了一种硫化钼的基底转移方法。它包括如下步骤1)将生长有硫化钼的生长基底放在匀胶机上,在生长基底有硫化钼的一面滴涂聚甲基丙烯酸甲酯溶液,启动匀胶机匀胶,使聚甲基丙烯酸甲酯溶液在硫化钼上成膜,得到涂有聚甲基丙烯酸甲酯的硫化钼的生长基底;2)将步骤1)中涂有聚甲基丙烯酸甲酯的硫化钼的生长基底放入去离子水中超声,使涂有聚甲基丙烯酸甲酯的硫化钼一面与生长基底脱离;3)使用目标衬底与步骤2)中涂有聚甲基丙烯酸甲酯的硫化钼贴合;4)将步骤3)中硫化钼浸入有机溶剂中除去聚甲基丙烯酸甲酯,得到目标衬底上的硫化钼
  • 一种二硫化钼基底转移方法
  • [发明专利]一种少层硫化钼纳米片的制备方法-CN202310323935.2在审
  • 梅青松;廖凌祎;陈子豪;彭宇琦;谭媛媛;张国栋;杨兵;李成林;万亮 - 武汉大学
  • 2023-03-29 - 2023-06-23 - C01G39/06
  • 本发明公开了一种少层硫化钼纳米片的制备方法,属于纳米结构的制造或处理技术领域。本发明方法首先将硫化钼颗粒放置于金属材质的容置件内,在室温无润滑条件下对其进行连续多次累积轧制;在轧制力作用下容置件发生塑性变形,使硫化钼内部层与层之间受到平行于轧制方向的剪切应力,并随之发生变形。由于变形的原因,产生应力集中,使得硫‑键发生断裂,同时该剪切应力大于硫化钼内部层间的范德瓦耳斯力,导致硫化钼沿平行于轧制方向剥离。随着轧制总道次增加,硫化钼逐渐剥离形成层状硫化钼纳米片,且层数逐渐减少。该方法使用原料为硫化钼,所需设备为工业化的生产设备,操作简单、成本低廉、无化学污染。
  • 一种二硫化钼纳米制备方法

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