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[实用新型]半导体基片处理系统-CN201220749488.4有效
发明人：尹志尧;倪图强;苏兴才;许颂临;徐朝阳;左涛涛 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2012-12-31 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体基片处理系统，包括至少一个等离子体反应腔室用于对基片进行等离子体刻蚀，以及光刻胶去除反应腔室，用于将刻蚀完成后的基片进行光刻胶去除，将所述等离子体反应腔室和所述光刻胶去除反应腔室围绕同一传送室设置，可以保证等离子体反应腔室中完成刻蚀的基片能在第一时间进行光刻胶灰化处理，省去排队等候和空间转移的时间，同时由于等离子体反应腔室和光刻胶去除反应腔室在同一真空环境下，避免了基片可能产生污染的问题，提高了生产效率
半导体处理系统

[发明专利]等离子体处理腔室的清洁方法-CN201310745043.8在审
发明人：周军;李江;孙海辉 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2013-12-30 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体处理腔室的清洁方法，其中，通过等离子体处理腔室的气体喷淋头向腔室内部通入清洁气体，然后施加射频能量将清洁气体激发成等离子体对腔室内部进行清洁，在所述等离子体处理腔室的冷却气体供应管道内持续供应冷却气体至清洁结束本发明提供的等离子体处理腔室的清洁方法，能够在清洁的过程中保证氦气供应管道不会受到污染，不会因为清洁过程而在管道内壁沉积污染物，甚至被堵塞。
等离子体处理清洁方法

[实用新型]储存设备-CN202121917560.5有效
发明人：李春辉;杨涛;杜宇驰;周国安;魏赐妙;凌波 -专利权人：深圳市科泰新能源车用空调技术有限公司
申请日： 2021-08-16 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本实用新型提供一种存储设备，包括形成有腔室的外壳以及设于所述腔室内的等离子杀菌模块，所述等离子杀菌模块包括等离子电源模块及等离子发生器，所述等离子电源模块与所述等离子发生器的电源接头电性连接，以提供给所述等离子发生器工作所需电量本实用新型的储存设备中，利用等离子杀菌除臭原理，采用等离子杀菌模块为储存设备的腔室及腔室内存放的货物进行杀菌除臭，等离子发生器不会对人体产生伤害，因此无需特殊管控，在等离子杀菌模块工作时仍可打开或进入腔室内
储存设备

[发明专利]等离子除臭坐便器-CN201110069332.1有效
发明人：陈晓波 -专利权人：苏州超等环保科技有限公司
申请日： 2011-03-22 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： E03D1/00 文献下载
摘要：本发明公开一种等离子除臭坐便器，包括坐便池主体、坐便池盖、与坐便池主体通过管道相连通的水箱，水箱包括箱盖和箱体，箱体包括常用水腔室、等离子净化水腔室和密封设备室，常用水腔室和等离子净化水腔室中设有给排水装置，密封设备室中设有：电源部、变压器部、控制部，等离子净化水腔室的顶部设有放电正极和水位报警器，其底部设有放电负极；常用水腔室和等离子净化水腔室中设有的给排水装置的常用排水按钮和除臭排水按钮，箱盖还设有操作部，操作部与控制部电联接，箱盖设有继电器部、人体感应器，其优点在于利用经过等离子放电处理过的水体能够有效的对坐便器进行除臭；克服了以往此类产品每次都进行除臭造成浪费的缺陷。
等离子除臭坐便器

[发明专利]等离子体处理装置-CN201380002694.6有效
发明人：赤野真也 -专利权人：中外炉工业株式会社
申请日： 2013-06-20 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，即使等离子体与被处理品接近，也能使等离子体与被处理品隔离。本发明的等离子体处理装置1包括腔室（2），该腔室（2）内部具有对被处理品（5）进行保持的保持空间（2a）、以及要形成等离子体的等离子体空间（2b）；向等离子体空间内（2b）放出电子来形成等离子体的等离子体枪（3）；以及在保持空间（2a）与等离子体空间（2b）之间形成横穿腔室（2）的磁通的至少一对位置可调节的对置磁铁（4）。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理方法和等离子体处理装置-CN201580023430.8有效
发明人：平山祐介;宫川正章 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-05-20 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：保护腔室的内部的构件免受等离子体的影响，防止变质以及消耗。等离子体处理方法包括成膜工序、等离子体处理工序、以及去除工序。在成膜工序中，利用含氧气体的流量与含硅气体的流量之比是0.2～1.4的含氧气体以及含硅气体这两者的等离子体在腔室的内部的构件的表面形成氧化硅膜。在氧化硅膜形成于构件的表面后，在等离子体处理工序中利用处理气体的等离子体对输入到腔室的内部的被处理体进行等离子体处理。在将被等离子体处理后的被处理体输出到腔室的外部后，在去除工序中利用含氟气体的等离子体将氧化硅膜从构件的表面去除。
等离子体处理方法装置

[发明专利]一种晶圆清洗设备-CN202010266787.1有效
发明人：江伟;尹影;庞浩;徐俊成 -专利权人：北京晶亦精微科技股份有限公司
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆清洗的技术领域，具体涉及一种晶圆清洗设备，包括清除晶圆表面残留物的等离子清洗组件，其包括放置晶圆的清洗腔室和位于清洗腔室内且产生等离子束清洗晶圆的等离子源，清洗腔室的顶端设置有安装腔室，等离子源位于安装腔室内，等离子源产生的等离子束的运动方向相对晶圆倾斜设置，清洗腔室一侧设置有将清洗腔室抽至真空的抽气件。利用等离子清洗晶圆，设备中无需安装大量管路和接头，减少了设备后期的维护时间和成本。利用等离子轰击并清洗晶圆表面，避免使用滚刷直接接触晶圆表面摩擦的方式去除，为绿色无损伤清洗。且由于等离子体积小于水分子，其可以深入到晶圆微细孔眼，可以进行晶圆表面一定厚度内的离子轰击清洗。
一种清洗设备

[实用新型]废气处理一体机-CN201922090050.4有效
发明人：朱本科;刘云启;柴方刚 -专利权人：青岛双星环保设备有限公司
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： B01D53/32 文献下载
摘要：本实用新型提出一种废气处理一体机，属于环保设备领域，该废气处理一体机包括等离子体单元，还包括喷淋单元、过滤单元、多风机单元以及壳体；壳体上设有进风口与出风口；壳体内设有左腔室和右腔室，等离子体单元与喷淋单元位于右腔室内，过滤单元与多风机单元位于左腔室内；喷淋单元包括若干喷头与位于若干喷头下方的若干洗涤管；等离子体单元包括等离子体发生器、等离子体进风口与等离子体出口；右腔室包括右上风室与右下风室，左腔室包括左上风室与左下风室；喷头位于右上风室，洗涤管位于右下风室。
废气处理一体机

[实用新型]一种等离子体销毁系统-CN201921019696.7有效
发明人：洪俊;于林;李鹏;倪志良;汪小知 -专利权人：苏州微木智能系统有限公司
申请日： 2019-07-02 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： F23G5/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及废物处理技术领域，具体涉及一种等离子体销毁系统，包括，沿烟气方向依次连通的等离子体销毁炉、烟气冷却室、烟气过滤净化室和引风系统；所述等离子体销毁炉包括：销毁腔室，由耐火层和承烧板围绕形成，用于容置待销毁介质，所述销毁腔室设置有出气口，承烧板位于销毁腔室的底部；等离子体发生器，用以朝向销毁腔室输送等离子体射流；所述等离子体销毁炉还设置有与产生压缩气体的供气系统相连通的进气口和与烟气冷却室相连通的烟气出口
一种等离子体销毁系统

[发明专利]对等离子体反应器的电极施加功率-CN201880027286.9在审
发明人：肯尼思·S·柯林斯;卡提克·雷马斯瓦米;郭悦;沙希德·劳夫;卡罗尔·贝拉;詹姆斯·D·卡达希;迈克尔·R·赖斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-04-23 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：等离子体反应器包括具有提供等离子体腔室的内部空间的腔室主体、将处理气体输送至等离子体腔室的气体分配器、耦接至等离子体腔室以将腔室抽空的泵、用于保持工件的工件支撑件及腔内电极组件，该腔内电极组件包括在等离子体腔室的顶板与工件支撑件之间横向延伸通过等离子体腔室的多个灯丝
灯丝等离子体腔室工件支撑件腔内电极等离子体反应器气体分配器处理气体横向延伸交替模式绝缘外壳腔室主体组件包括导体腔室耦接抽空施加配置

[发明专利]等离子体发生器-CN201010582747.4有效
发明人：糸村大辅;寺亮之介 -专利权人：株式会社电装
申请日： 2010-12-10 - 公布日： 2011-06-15 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：一种等离子体发生器，其被提供有圆柱形腔室部分，该圆柱形腔室部分具有圆柱电极；孔板，其设置在该圆柱形腔室部分中以便将该圆柱形腔室部分分隔成具有进气口的第一腔室和具有排气口的第二腔室；杆状电极，其设置在第二腔室内部并位于圆柱电极的中心轴处，以及子电极，其设置在第一腔室处并且能够施加与该圆柱电极不同的电势，该等离子体发生器在圆柱电极与杆状电极之间施加电场以产生等离子体，进一步在圆柱电极和子电极之间分离地施加电场以产生与在杆状电极和圆柱电极之间产生的等离子体分离的等离子体，以及具有通过孔板的孔连接的第一腔室和第二腔室的等离子体区域。
等离子体发生器

[实用新型]反应腔室清洁装置-CN202321403335.9有效
发明人：曹笑笑;李欣伟;陆一凡 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型提供一种反应腔室清洁装置，包括远程等离子体源；包括至少两个子腔室的反应腔室；总气体管道，第一端连接所述远程等离子体源；至少两个子气体管道，所述子气体管道的第一端均连接所述总气体管道的第二端，所述子气体管道的第二端分别连接所述子腔室，所述子气体管道与所述子腔室一一对应；以及调节阀，设置于每个所述子气体管道上，以控制从所述远程等离子体源流向所述子腔室的等离子体的流量。本实用新型通过在每个子气体管道上设置调节阀从而调节控制从所述远程等离子体源流向所述子腔室的等离子体的流量，以避免子腔室的清洁率差异过大，从而防止子腔室清洁过度或子腔室内的颗粒过多，避免形成缺陷，从而提高了良率
反应清洁装置

[实用新型]用于蚀刻含锗材料的系统-CN201821252033.5有效
发明人： M·科罗利克;N·英格尔;D·基欧西斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：用于蚀刻含锗材料的示例性系统可以包括半导体处理腔室的远程等离子体区域、腔室部件以及所述半导体处理腔室的处理区域。远程等离子体区域可被配置用于形成含氟前驱物的等离子体。腔室部件的孔可被涂覆有催化材料。催化材料可被配置用于降低等离子体流出物中的氟自由基的浓度。处理区域可被配置用于容置待由所述等离子体流出物蚀刻的包含含锗材料的基板。
等离子体蚀刻锗材料半导体处理腔室远程等离子体处理区域催化材料腔室部件流出物配置氟自由基前驱物含氟基板容置涂覆

[发明专利]一种等离子体发生器和等离子体进气管路-CN202111542384.6在审
发明人：宋宇;姜崴;谈太德;苏欣 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开一种等离子体发生器和等离子体进气管路，包括等离子体输入端(1)、至少一个反应腔室，以及至少一个进气管路，等离子体输入端(1)固定于反应腔室的外壁，进气管路一端与等离子体输入端(1)连通，另一端与对应反应腔室连通，进气管路包括混气腔室(2)，以及连通混气腔室(2)与等离子体输入端(1)的连接管(3)，混气腔室(2)固定于连通反应腔室的绝缘连接座(4)，连接管(3)具有预设长度，其中部能够产生变形或位移，以抵消受到的膨胀内力本发明能够消除进气管路在等离子体流过时所受的膨胀内力，保证反应腔内工艺气体均匀分配，保证所获晶元产品的一致性。
一种等离子体发生器管路

[实用新型]一种等离子空气除菌器-CN201420462738.5有效
发明人：王塵;王端 -专利权人：天津市强森科技发展有限公司
申请日： 2014-08-15 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： F24F1/02 文献下载
摘要：本实用新型属于等离子技术领域，尤其涉及一种等离子空气除菌器，包括外壳及外壳内部的外壳内腔、预过滤网、活性炭除臭过滤网、HEPA除尘过滤网、空气出口、底座、控制装置、遮光层、下等离子装置、上等离子装置、除菌室、等离子滤芯、轴流风机、空气进气口，所述外壳内部设有外壳内腔，所述外壳内腔与控制装置之间设有空气出口，所述控制装置位于底座上方、所述遮光层位于控制装置的上方，所述下等离子装置位于遮光层的上方，所述上等离子装置位于下等离子装置的上方，所述除菌室位于外壳内腔内，所述等离子滤芯位于除菌室内两侧，所述HEPA除尘过滤网位于除菌室上方。
一种等离子空气