专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]二极管-CN201610576542.2在审
  • 文塔瓦·查旺 - 丰田自动车株式会社
  • 2016-07-20 - 2017-05-17 - H01L29/861
  • 在具有柱区、区、中间区、阴极区的二极管中,对寄生晶体管导通的情况进行抑制。在俯视观察时,二极管具有单元区域、中间区域、外周区域。单元区域具有:第一阳极区,其为p型,并且与阳极电极欧姆接触;柱区,其为n型,并且与阳极电极相接;区,其为n型,并且从背面侧与第一阳极区和柱区相接;第一中间区,其为p型,并且从背面侧与区相接。中间区域具有:第二阳极区,其为p型,并且与阳极电极欧姆接触;空穴抑制区,其与阳极电极相接;第二中间区,其为p型,并且从背面侧与第二阳极区和空穴抑制区相接,中间区域不具有区。
  • 二极管
  • [发明专利]一种OLED发光器件-CN201910619616.X有效
  • 李崇;蔡啸;张兆超;王芳 - 江苏三月科技股份有限公司
  • 2019-07-10 - 2023-01-03 - H10K50/15
  • 本发明公开了一种OLED发光器件,包括第一电极、阳极界面缓冲层、空穴传输层、发光层和第二电极,阳极界面缓冲层覆盖于电极表面,空穴传输层邻接于界面缓冲层,所述阳极界面缓冲层含有传导空穴的主体材料和P掺杂材料,所述传导空穴主体材料的HOMO能级大于空穴传输层材料的HOMO能级。本发明界面缓冲层的设计,可以提升电极到有机材料的空穴注入效率,降低或消除缓冲层到空穴传输层界面载流子传导差,提升阳极界面缓冲层与空穴传输层的界面稳定性,进而提升OLED发光器件的驱动稳定性。
  • 一种oled发光器件
  • [发明专利]一种高性能OLED发光器件-CN201811132511.3有效
  • 李崇;蔡啸;张兆超;谢丹丹 - 江苏三月科技股份有限公司
  • 2018-09-27 - 2022-10-25 - H01L51/50
  • 本发明公开了一种高性能OLED发光器件,包括第一电极、阳极界面缓冲层、空穴传输层、发光层和第二电极,阳极界面缓冲层覆盖于电极表面,空穴传输层邻接于界面缓冲层,所述阳极界面缓冲层含有传导空穴的主体材料和P掺杂材料,所述传导空穴主体材料的HOMO能级大于空穴传输层材料的HOMO能级。本发明界面缓冲层的设计,可以提升电极到有机材料的空穴注入效率,降低或消除缓冲层到空穴传输层界面载流子传导差,提升阳极界面缓冲层与空穴传输层的界面稳定性,进而提升OLED发光器件的驱动稳定性。
  • 一种性能oled发光器件
  • [发明专利]倒置OLED器件结构-CN201510058560.7在审
  • 廖良生;马杰;丁磊;汤洵 - 苏州大学
  • 2015-02-05 - 2015-05-06 - H01L51/50
  • 本发明提供了一种倒置OLED器件结构,在基板上旋涂一层聚合物薄膜,使基底表面平整化,然后制备OLED透明阴极薄膜,在阴极之上采用真空蒸镀的方法形成一层强氧化性材料作为电子注入层,然后蒸镀一层超薄金属或金属氧化物薄膜作为阴极缓冲层,其次依次为n型掺杂的电子传输层,电子传输层、发光层、空穴传输层、空穴注入层和阳极。该强氧化性材料电子注入层/金属或金属氧化物/n型掺杂的电子传输层的结构能够有效地降低倒置器件结构中空穴注入的问题,能够有效的降低器件的驱动电压,从而提高器件性能。
  • 倒置oled器件结构
  • [发明专利]量子级联激光器-CN201580011072.9有效
  • 薮原秀彦 - 株式会社东芝
  • 2015-09-17 - 2019-04-23 - H01S5/34
  • 量子级联激光器的活性层具有多个发光区域和多个注入区域。各个发光区域具有注入层、以及至少含有两个阱层并通过子带间跃迁发出红外光的发光量子阱层。各个注入区域具有抽出层以及弛豫量子阱层,该弛豫量子阱层形成使来自上述发光区域的载流子的能量弛豫的能级。在各个发光量子阱层内邻接的两个阱层中,上述抽出层侧的阱层比上述注入层侧的第2阱层深。各个发光区域与各个注入区域交替层叠。
  • 量子级联激光器
  • [发明专利]发光器件及其制备方法-CN202011639283.6在审
  • 王天锋 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2020-12-31 - 2022-07-01 - H01L51/56
  • 本申请属于显示设备技术领域,尤其涉及一种发光器件的制备方法,包括以下步骤:制备发光器件;其中,电子传输层中包括金属氧化物传输材料;量子点发光层中包括核壳结构的量子点材料,量子点材料的外壳层材料与空穴传输材料的价带顶能级差大于等于本申请发光器件的制备方法,构建量子点外壳层材料与空穴传输材料的间≥0.5eV的空穴注入,降低空穴注入效率,平衡空穴与电子的注入平衡,提高器件发光效率和使用寿命。同时,对发光器件进行紫外光照射处理,促进ETL与阴极和发光层的融合,提高电子迁移注入移率,降低量子点材料表面及QD‑ETL界面电荷积累,降低材料老化,提高器件寿命。
  • 发光器件及其制备方法
  • [发明专利]一种量子阱结构的制备方法和量子阱结构-CN201811632413.6有效
  • 叶炜浩 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2018-12-28 - 2021-07-23 - H01L33/00
  • 本发明所提供的制备方法,包括:注入掺杂金属、层阳离子前驱体和层阴离子前驱体,在衬底的表面进行沉积,制备层;先后注入量子点阴离子前驱体和量子点阳离子前驱体,在层的表面进行沉积,制备半导体量子点;其中,掺杂金属原子缺电子,且掺杂金属的半径与层阳离子的半径之差的绝对值为0.1~0.3埃。通过引入掺杂金属在层表面形成均匀分布的成核点,改善了量子点在层表面生长的均匀性,提高了量子阱的量子效率。
  • 一种量子结构制备方法

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