专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁性随机存储器记忆单元及其读写和抗干扰方法-CN201510608723.4有效
  • 郭一民;陈峻;肖荣福;夏文斌;戴瑾 - 上海磁宇信息科技有限公司
  • 2015-09-22 - 2019-04-26 - H01L27/22
  • 本发明提供了一种磁性随机存储器记忆单元,包括堆叠结构和自旋阀控制,堆叠结构包括:磁性参考磁性记忆、隧道势垒、中间层和自旋阀磁性参考的磁化方向不变且磁各向异性垂直于表面;磁性记忆和自旋阀的磁化方向可变且磁各向异性垂直于表面;隧道势垒层位于磁性参考磁性记忆之间且分别与磁性参考磁性记忆相邻;中间层与磁性记忆相邻;自旋阀的磁各向异性小于磁性记忆的磁各向异性;自旋阀与所述中间层相邻;自旋阀控制是与堆叠结构相间隔设置的导电本发明还提供了一种上述磁性随机存储器记忆单元的读写和抗干扰方法,以及基于以上设计构思的另一种记忆单元及其读写和抗干扰方法。
  • 磁性随机存储器记忆单元及其读写抗干扰方法
  • [发明专利]磁性装置-CN202180015269.5在审
  • 加藤侑志;与田博明;大泽裕一;与田朋美 - YODA-S株式会社
  • 2021-03-22 - 2022-10-04 - H01L21/8239
  • 根据实施方式,磁性装置包含第一导电构件及第一叠体。第一导电构件包含第一部分、第二部分及第一部分与所述第二部分之间的第三部分。从第一部分朝向第二部分的方向沿着第一方向。第一叠体包含第一磁性、第一对置磁性、第一非磁性、第一中间磁性及第一中间非磁性。第一中间磁性在与第一方向交叉的第二方向上位于第三部分与第一对置磁性之间。第一磁性在第二方向上位于第一中间磁性与第一对置磁性之间。第一中间非磁性层位于第一中间磁性与第一磁性之间。第一非磁性层位于所述第一磁性与第一对置磁性之间。所述第一中间磁性的总磁化量比第一磁性的总磁化量小。
  • 磁性装置
  • [发明专利]磁性多层膜的制造方法-CN200580045808.0有效
  • 菊地幸男;森田正 - 株式会社爱发科
  • 2005-12-29 - 2007-12-26 - H01L43/12
  • 一种磁性多层膜的制造方法,包括:在衬底上形成第1磁性的第1磁性形成工序;在所述第1磁性上形成非磁性的非磁性形成工序;在所述非磁性上形成第2磁性的第2磁性形成工序;其特征在于,该方法还包括等离子体处理工序,在所述非磁性形成工序之前,将所述衬底放到等离子体处理装置中,使所述衬底与所述等离子体处理装置处于电绝缘状态,用感应耦合等离子体进行处理。
  • 磁性多层制造方法
  • [发明专利]磁存储装置-CN202110080021.9在审
  • 都甲大;杉山英行;及川壮一;中山昌彦 - 铠侠股份有限公司
  • 2021-01-21 - 2022-04-01 - H01L43/08
  • 实施方式的磁存储装置具备磁阻效应元件,所述磁阻效应元件具备具有可变磁化方向的第1磁性、具有可变磁化方向的第2磁性、具有固定磁化方向的第3磁性、及非磁性,所述第1磁性设置在所述第2磁性与所述第3磁性之间,所述非磁性设置在所述第1磁性与所述第3磁性之间,所述第2磁性具有第1元素形成的第1元素与第2元素形成的第2元素交替地积而成的超晶格结构,所述第1元素是钴(Co),所述第2元素从铂(Pt)、镍(Ni)及钯(Pd)中选择,且所述第2磁性含有铬(Cr)作为第3元素。
  • 存储装置
  • [发明专利]电子设备-CN201610382001.6有效
  • 文廷桓;尹晟准 - 爱思开海力士有限公司
  • 2016-06-01 - 2020-10-30 - G11C16/06
  • 根据本文件的一种实施方式的电子设备可以包括半导体存储器,并且该半导体存储器可以包括:自由,包括多个磁性,每个磁性具有可变磁化方向;隧道阻障,形成在自由之上;以及钉扎,形成在隧道阻障之上并且具有钉扎磁化方向;其中,自由中的多个磁性包括与隧道阻障接触的第一磁性和与隧道阻障不接触的第二磁性,并且第一磁性和第二磁性之间的交换场与由第一磁性产生的漏磁场的总和大于或等于第二磁性的单轴各向异性场和由于第二磁性的形状导致的退磁场之间的差
  • 电子设备
  • [发明专利]光磁记录媒体及其再现方法-CN01137293.1无效
  • 川口优子;村上元良 - 松下电器产业株式会社
  • 2001-10-11 - 2002-05-15 - G11B11/10
  • 该媒体形成按顺序包含第一磁性、第二磁性和第三磁性的多层膜,第二磁性的居里温度TC2比第一磁性的居里温度TC1和第三磁性的居里温度TC3都低,第三磁性为垂直磁化膜。在小于TC2的温度区域中的至少一部分中,第一磁性通过与第二磁性的交换耦合垂直磁化,通过该交换耦合,第三磁性的磁化经第二磁性转录到第一磁性。第二磁性在室温下为面内磁化膜,在比室温高的临界温度TCR与TC2之间的温度区中,为成为垂直磁化膜的磁性膜。
  • 记录媒体及其再现方法
  • [发明专利]自旋轨道转矩型磁阻效应元件及磁存储器-CN202310983014.9在审
  • 盐川阳平 - TDK株式会社
  • 2019-05-13 - 2023-10-24 - H10B61/00
  • 本发明的自旋轨道转矩型磁阻效应元件(101)具备:第一铁磁性(1)、第二铁磁性(2)、位于上述第一铁磁性与上述第二铁磁性之间的非磁性(3)、层叠了上述第一铁磁性的自旋轨道转矩配线(5),上述自旋轨道转矩配线沿着相对于上述第一铁磁性的法线方向即第一方向(Z)交叉的第二方向(X)延伸,上述第一铁磁性从上述自旋轨道转矩配线侧依次具有第一叠结构体(10a)和界面磁性(20),上述第一叠结构体是从上述自旋轨道转矩配线侧依次配置铁磁性导电体(11a)和含氧化物(12a)的结构体,上述铁磁性导电体包含铁磁性金属元素,上述含氧化物包含铁磁性金属元素的氧化物。
  • 自旋轨道转矩磁阻效应元件磁存储器

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