本发明公开了一种N型IBC(Interdigitated back contact)太阳电池的制作方法,所述方法包括如下步骤首先硅片双面清洗;再背面硼扩散;扩散面掩膜(SiNx)等离子化学气相沉积;然后硅片正面单面制绒;正面硼扩散形成前浮动发射极;再硅片双面硼玻璃及掩膜去除;硅片前表面钝化及减反膜等离子化学沉积SiO2/SiNx;硅片背面硼扩散面激光图形化;激光图形化的部分磷扩散形成背表面场;接着硅片背面钝化膜沉积;本发明由扩硼的前浮动发射极取代传统扩磷的前表面场,减少光生载流子的行径距离,减少表面复合的机会,所以得到最高的短路电流,且方便金属化工艺及组件工艺的连接。