专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种增大分子筛粒子表面粘附力的方法-CN202211548425.7在审
  • 孙立伟 - 中国科学院长春应用化学研究所
  • 2022-12-05 - 2023-05-23 - B01J29/76
  • 本发明提供了一种增大分子筛粒子表面粘附力的方法,通过原子层沉积方法,在Cu‑SSZ‑13分子筛的外表面包覆氧化层和/或氢氧化层;所述氧化层包括硅的氧化、铝的氧化、钛的氧化、锆的氧化和稀土氧化中的一种或几种;所述氢氧化层包括硅的氢氧化、铝的氢氧化、钛的氢氧化、锆的氢氧化和稀土氢氧化中的一种或几种。本发明针对分子筛催化剂表面粘附力小,涂覆后容易掉落的缺点,对分子筛进行包覆氧化层和/或氢氧化层,提高分子筛的表面粘附力。
  • 一种增大分子筛粒子表面粘附方法
  • [发明专利]一种金属氧化叠层场效应电极-CN201810695140.3有效
  • 吕正红;张涛;王登科 - 云南大学
  • 2018-06-29 - 2019-09-06 - H01L51/52
  • 本发明公开了一种金属氧化叠层场效应电极。该金属氧化叠层场效应电极包括多个金属条和金属氧化叠层薄膜,金属氧化叠层薄膜的第一金属氧化薄膜材料的禁带宽度小于3eV;第二金属氧化薄膜材料的禁带宽度大于3eV;第三金属氧化薄膜材料的禁带宽度小于3eV;第二金属氧化薄膜材料的禁带宽度与第一金属氧化薄膜材料的禁带宽度的差值大于1eV;第二金属氧化薄膜材料的禁带宽度与第三金属氧化薄膜材料的禁带宽度的差值大于1eV;第一金属氧化薄膜、所述第二金属氧化薄膜和所述第三金属氧化薄膜的厚度小于或等于采用本发明的金属氧化叠层场效应电极,具有光透过率高、场致导电性能好的优点。
  • 金属氧化物薄膜金属氧化物禁带电极场效应叠层叠层薄膜导电性能光透过率金属条场致
  • [发明专利]用于调整内燃发动机中的氮氧化传感器的特性曲线的方法-CN201780017526.2有效
  • 张宏 - 大陆汽车有限公司
  • 2017-02-02 - 2020-12-18 - F02D41/00
  • 本发明涉及用于调整具有排气再循环的内燃发动机的氮氧化传感器(32)的特性曲线的方法,该内燃发动机具有被设置在SCR催化转化器(20)上游的第一氮氧化传感器(32)和被设置在SCR催化转化器(20)下游的第二氮氧化传感器公开的方法包括:确定颗粒过滤器(30)处于再生阶段;增加排气再循环速率;中断通过尿素喷射装置(26)进行的尿素供给;从由第一氮氧化传感器(32)产生的第一氮氧化信号获取第一氮氧化值,并且确定第一氮氧化值处于第一氮氧化区间内;从由第二氮氧化传感器(22)产生的第二氮氧化信号获取第二氮氧化值,并且确定第二氮氧化值处于第二氮氧化区间内;并且借助于第二氮氧化值调整第一氮氧化传感器(32)的特性曲线。
  • 用于调整内燃发动机中的氧化物传感器特性曲线方法
  • [发明专利]形成阻挡结构的方法和半导体结构-CN202011576888.5在审
  • 陈彦羽;程仲良 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2020-12-28 - 2021-10-01 - H01L21/768
  • 本公开的实施例描述了一种用于在无衬垫导电结构与下方导电结构之间形成阻挡结构的方法。该方法包括在布置在接触层上的介电层中形成开口,其中,开口暴露接触层中的导电结构。该方法还包括将第一金属层暴露于氨以形成具有第一金属层和第一金属层的氮化的双层,并且随后将氮化暴露于氧等离子体以将第一金属层的氮化的一部分转换为氧化层。该方法还包括去除氧化层并在第一金属层的氮化上形成含半导体层。根据本申请的其他实施例,还提供了半导体结构。
  • 形成阻挡结构方法半导体

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