专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种空气净化方法、装置、设备及介质-CN202210089717.2有效
  • 黄纯 - 深圳市无限动力发展有限公司
  • 2022-01-25 - 2023-09-05 - A47L11/24
  • 本申请涉及环境清理技术领域,揭示了一种空气净化方法、装置、设备及介质,其中方法包括:通过设有空气传感器的清洁设备在执行行走和地面清扫任务时实时监测室内有害气体浓度,得到室内监测结果;根据所述室内监测结果记录所有有害气体超标的位置点及其对应有害气体浓度;当所述清洁设备执行完地面清扫任务后,根据清扫完成后的地图以及所有有害气体超标的位置点及其对应有害气体浓度,规划出空气净化任务,控制所述清洁设备根据所述空气净化任务进行空气净化。本申请能够现有技术中的清洁设备健康清洁不全面的问题。
  • 一种空气净化方法装置设备介质
  • [发明专利]一种利用焚烧脱硫甲烷气体进行做功的汽车-CN201510479803.4在审
  • 张蛟 - 成都易胜科生物科技有限公司
  • 2015-08-07 - 2015-11-18 - C02F11/04
  • 本发明公开了一种利用焚烧脱硫甲烷气体进行做功的汽车,主要由汽车燃气装置、甲烷气体清洁系统、厌氧消化罐、好氧发酵罐、固液分离系统组成,厌氧消化罐连接甲烷气体清洁系统,甲烷气体清洁系统连接汽车燃气装置,厌氧消化罐连接好氧发酵罐,甲烷气体清洁系统连接好氧发酵罐,好氧发酵罐连接固液分离系统;人为的利用厌氧发酵处理技术对富含有机物废弃产物进行厌氧发酵处理,而后所产生的富含甲烷的气体进行脱水、脱硫、脱碳等清洁处理,最后所留下的少水、少硫、少碳的甲烷气体进行燃烧做功,用于驱动汽车运行,有效的进行资源再利用,并为环保节能开辟新的思路,从而降低不可再生资源的损耗,整个系统具有可持续性利用资源的特性。
  • 一种利用焚烧脱硫甲烷气体进行做功汽车
  • [发明专利]离心式冷水机组及其控制方法-CN201710452761.4在审
  • 周堂;周宇;李宏波;张永斌;华超;潘翠;刘贤权 - 珠海格力电器股份有限公司
  • 2017-06-15 - 2017-10-10 - F25B43/00
  • 本发明提供一种离心式冷水机组及其控制方法,包括冷凝器、蒸发器和压缩机,所述冷凝器、所述蒸发器和所述压缩机首尾相连形成闭合回路,所述闭合回路内流通有制冷剂,还包括清洁罐和冷却系统,所述清洁罐上设置有气体入口、气体出口和液态工质出口。本发明提供的离心式冷水机组及其控制方法,通过设置清洁罐,将混有气态制冷剂和不凝气体的混合气体送入到清洁罐内进行冷却,将不凝气体分离后,通过第一阀体、第二阀体、第三阀体、第四阀体和第五阀体的配合,将冷却后的制冷剂送入系统内,并将分离后的不凝气体排放出去冷水机组内,达到对不凝气体清洁的目的。
  • 离心冷水机组及其控制方法
  • [实用新型]离心式冷水机组-CN201720702733.9有效
  • 周堂;周宇;李宏波;张永斌;华超;潘翠;刘贤权 - 珠海格力电器股份有限公司
  • 2017-06-15 - 2018-02-13 - F25B43/00
  • 本实用新型提供一种离心式冷水机组,包括冷凝器、蒸发器和压缩机,所述冷凝器、所述蒸发器和所述压缩机首尾相连形成闭合回路,所述闭合回路内流通有制冷剂,还包括清洁罐和冷却系统,所述清洁罐上设置有气体入口、气体出口和液态工质出口本实用新型提供的离心式冷水机组,通过设置清洁罐,将混有气态制冷剂和不凝气体的混合气体送入到清洁罐内进行冷却,将不凝气体分离后,通过第一阀体、第二阀体、第三阀体、第四阀体和第五阀体的配合,将冷却后的制冷剂送入系统内,并将分离后的不凝气体排放出去冷水机组内,达到对不凝气体清洁的目的。
  • 离心冷水机组
  • [发明专利]一种低能耗环流式风淋室-CN201711112424.7在审
  • 张劲松;华玲芳;陶亮;白雨龙 - 京华建设科技有限公司
  • 2017-11-13 - 2018-05-01 - B08B5/02
  • 本发明公开了一种低能耗环流式风淋室,其包括并排设置的左侧风箱、中间清洁室以及右侧风箱,左侧风箱、中间清洁室以及右侧风箱均安装在底板上,中间清洁室上设置有观察门,观察门的侧面设置有开合按钮;左侧风箱包括左腔室,中间清洁室上部设置有流动腔,流动腔下部设置有清洁区,右侧风箱包括右腔室,右腔室的下部设置有气体源;左腔室、流动腔以及右腔室相互连通,气体源排出的气体依次经过右腔室、流动腔、左腔室以及清洁区后经过滤器返回气体源;清洁区的内壁上设置有喷嘴支架,喷嘴支架上设置有清洁喷嘴,喷嘴支架包括横移机构、纵移机构、升降机构以及摆动机构,清洁喷嘴通过安装板固定在喷嘴支架上。
  • 一种能耗环流式风淋室
  • [实用新型]一种用于过滤组件的清洁系统、过滤装置及气体装置-CN202021629462.7有效
  • 蔡枭;陈斌 - 阿特拉斯·科普柯(无锡)压缩机有限公司
  • 2020-08-07 - 2021-03-30 - B01D46/00
  • 本公开实施例提供了一种用于过滤组件的清洁系统、过滤装置及气体装置,该清洁系统包括振动装置,所述振动装置通过管路与气体装置的出气口相连通并与所述过滤组件固定连接,其用于在满足预定条件下带动所述过滤组件振动本公开实施例通过将所述振动装置固定在所述过滤组件上,并通过管路与气体装置的出气口相连通,以将所述气体装置中的多余的气体传输至振动装置,以使所述振动装置带动所述过滤组件振动,从而在不影响气体装置的工作效率的前提下,达到清洁所述过滤组件的目的,清洁效率较高;并且,利用气体装置多余的气体作为所述振动装置振动的驱动源,能够节约能源,避免资源浪费。
  • 一种用于过滤组件清洁系统装置气体
  • [实用新型]管路装置及半导体工艺设备-CN202222876868.0有效
  • 周智东;毛晨运 - 上海华力微电子有限公司
  • 2022-10-31 - 2023-02-10 - C23C16/455
  • 本实用新型提供了一种管路装置及半导体工艺设备,所述管路装置包括:一清洁气体管路和至少两个工艺气体管路,每个所述工艺气体管路与所述清洁气体管路之间均通过一特斯拉阀连通,所述特斯拉阀的正向进气端与所述清洁气体管路连接,所述特斯拉阀的正向出气端与所述工艺气体管路连接。本实用新型的技术方案能够有效减少工艺气体倒灌至清洁气体管路中,从而减少颗粒物在等离子体发生器的出口端累积,进而能够有效减少颗粒物在工艺过程中掉落在晶圆表面而影响产品良率,且能够避免频繁更换等离子体发生器而导致成本升高
  • 管路装置半导体工艺设备
  • [发明专利]通过在溅射气体混合物中使用痕量原位清洁气体改善离子布植等离子体浸没枪(PFG)性能-CN201680073627.7有效
  • S·E·毕晓普 - 恩特格里斯公司
  • 2016-12-23 - 2020-08-14 - H01J37/317
  • 本发明描述一种用于将气体输送到等离子体浸没枪的气体供应组合件。所述气体供应组合件包含:流体供应包装,其经配置以将惰性气体输送到等离子体浸没枪以用于产生惰性气体等离子体,所述惰性气体等离子体包含在离子布植操作中用于调制衬底的表面电荷的电子;及清洁气体,其在所述惰性气体流体供应包装中与所述惰性气体混合,或在经配置以相对于输送惰性气体到所述等离子体浸没枪而将清洁气体同时或依序输送到所述等离子体浸没枪的单独清洁气体供应包装中。本发明还描述一种操作等离子体浸没枪的方法,其中相对于惰性气体流动到所述等离子体浸没枪而将清洁气体间歇地、连续地或依序引进到所述等离子体浸没枪。所述清洁气体自所述等离子体浸没枪中的材料沉积物有效地产生挥发性反应产物气体,且实现所述等离子体浸没枪中的等离子体产生细丝的再金属化。
  • 通过溅射气体混合物使用痕量原位清洁改善离子等离子体浸没pfg性能
  • [发明专利]改善薄膜颗粒度装置及其气体输送方法-CN202210935163.3在审
  • 刘镇颉;柳雪 - 拓荆科技(北京)有限公司
  • 2022-08-05 - 2022-09-06 - C23C16/44
  • 本发明提供了一种改善薄膜颗粒度装置及其气体输送方法,涉及半导体沉积设备的技术领域,包括反应主体和气体喷头;反应主体内设置有反应腔室,气体喷头上设置有第一进气通道和第二进气通道,第一气体能够进行沉积反应,也可以利用第一气体对反应腔室内清洁;第二气体能够在反应腔室的侧壁形成第二气体保护层,也可以利用第二气体对反应腔室的侧壁位置进行清洁,通过在沉积过程中减少副产物的累计,还能够提高清洁过程对反应腔室的内表面污染物残留层的全面清洁,改善薄膜颗粒度,缓解了现有技术中存在的在沉积和清洁过程中,会在反应腔室内表面形成污染物残留层,影响薄膜颗粒度性能的技术问题。
  • 改善薄膜颗粒装置及其气体输送方法
  • [发明专利]改善晶圆接触孔线宽均一性的方法-CN202210154839.5在审
  • 阚琎;昂开渠 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2022-02-21 - 2022-07-01 - H01L21/02
  • 本发明提供一种改善晶圆接触孔线宽均一性的方法,提供多个衬底,每个衬底上均形成有由下而上的抗反射涂层和光刻胶层,光刻打开光刻胶层使得抗反射涂层裸露;将多个衬底中的其中一个设置于刻蚀机内的刻蚀腔,在刻蚀腔内通入刻蚀气体,利用刻蚀气体对衬底的裸露部分进行刻蚀;持续获取刻蚀腔内刻蚀气体的剩余量,得到其剩余量数据;提供刻蚀气体的剩余量的阈值范围,在刻蚀腔内通入清洁气体,并根据剩余量数据调节清洁气体的流量,使得刻蚀气体的剩余量处于阈值范围内;利用不同流量清洁气体进行腔体清洁后对多个衬底中剩余的每一个分别进行刻蚀。本发明采用不同流量O2进行腔体清洁,从而改善晶圆和晶圆间接触孔刻蚀线宽的均一性。
  • 改善接触孔线宽均一方法
  • [发明专利]MOCVD设备的清洁方法-CN201210077038.X无效
  • 尹志尧;杜志游;孟双 - 中微半导体设备(上海)有限公司
  • 2012-03-21 - 2012-07-18 - C23C16/00
  • 一种MOCVD设备的清洁方法,具体包括:向所述反应腔通入清洁气体,所述清洁气体至少包括Ar,利用所述等离子体处理装置将所述清洁气体等离子体化;在所述反应腔顶部形成负偏压,使得所述清洁气体的等离子体被加速并轰击所述反应腔顶部由于所述清洁方法不需要反应腔降温,减少了两次MOCVD工艺之间的等待时间,使得MOCVD设备的生产效率和产能能大幅提高;且由于Ar的等离子体与金属不会发生化学反应,不会对反应腔内壁的材料造成腐蚀。
  • mocvd设备清洁方法

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